技术编号：9510080
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 以往通常的抗蚀材料为能够形成非晶薄膜的高分子系材料。例如通过在基板上涂 布聚甲基丙烯酸甲酯、具有酸解离性反应基团的多羟基苯乙烯、聚甲基丙烯酸烷基酯等高 分子系抗蚀材料的溶液，从而制作抗蚀薄膜。接着，对上述抗蚀薄膜照射紫外线、远紫外线、 电子束、超紫外线（EUV)、X射线等，从而形成45~IOOnm左右的线状图案。 然而，高分子系抗蚀材料的分子量较大，为1万~10万左右，分子量分布也宽。因 此在使用高分子系抗蚀材料的光刻中，在微细图案表面产生粗糙度，难以控...
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