技术编号:9559091
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 以往,对于各种显示器用基板玻璃、特别是在表面上形成金属或氧化物薄膜等的 基板玻璃,例如如专利文献1所示,要求以下所示的特性。 (1)如果含有碱金属氧化物,则碱金属离子会向薄膜中扩散而使膜特性劣化,因此 要实质上不含碱金属离子。 (2)在薄膜形成工序中暴露于高温时,为了能将伴随玻璃的变形和玻璃的结构稳 定化产生的收缩(热收缩)抑制在最小限度,应变点要高。 (3)对半导体形成中使用的各种化学品要具有充分的化学耐久性。特别是对用于 蚀刻SiOxSSiNx的缓冲...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。