高压ldmos器件的工艺方法技术资料下载

技术编号:9580625

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阳00引高压LDM0S,比如高压N型LDMOS器件,其漏端承受很高的电压,因此它是一种源端 与漏端非对称结构。在常规BCD工艺中,高压LDMOS通常不作L孤和化Io离子注入,因为漏 断的低渗杂漂移区不允许有更高的杂质渗杂,因此源端一般只有重渗杂的源漏渗杂。非对 称LDMOS器件的漏电和CMOS -样,主要取决于漏端高压时源端与沟道的势垒高度。当漏端 加高压时,沟道表面势太高,造成势垒高度下降,引起沟道漏电(即DI化效应,DIBL 化ain In化ced ...
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