技术编号：9592429
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在PVD (Physical Vapor Deposit1n，物理气相沉积)领域中，随着革El材利用率提升，金属纯铝进程1的上线以及异型靶的改进，不但运营成本大幅降低，也使得保养周期大幅地延长，间接地提升设备嫁动率和产出。目前，处理室或者反应室中的零件寿命未能够匹配如此长的保养周期。例如，纯铝上线的处理室会将两个A1靶用完才进行保养，因此托盘上的接触面板(Touch Plate)必须承受两个A1革E—共10000kw/hr的轰击。现有技术的接触面板无法承受...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。