技术编号:9676644
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。NF3是近年来用于电子工业的一种新型蚀刻气和清洗气,其温室效应潜值达17200,存留时间约740a。在2008年召开的联合国环境大会上,NF3被列为限制排放的温室气体。因此,对于工业过程产生的NF3,废气先分解再排放是一项十分必要的工作。催化水解法是消除NF3等全氟化合物的有效方法,某些磷酸盐是NF3水解反应的良好催化剂,但NF3的水解产物HF是一种腐蚀性气体,对催化剂和反应器有强的腐蚀作用。发明内容本发明提供一种操作安全简单、不产生腐蚀性气体HF的无水条...
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