技术编号：9726632
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于周边曝光装置的光照射装置，向半导体基板、液晶显示装置用玻璃基板、光掩膜用玻璃基板等涂有光致抗蚀剂的基板边缘部周边进行光照射，为了除去该边缘部多余的抗蚀剂而进行曝光。背景技术以往，在 IC (Integrated Circuit)和 LSI (Large Scale Integrated circuit)等半导体的制造工序中，在半导体晶片的表面涂上光致抗蚀剂，通过掩膜向该抗蚀层进行曝光显影，从而形成电路图形。作为在半导体晶片表面上涂覆抗蚀剂...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。