技术编号：9864414
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在显示面板的制备过程中，光刻工艺是一项十分重要的工艺。目前的光刻工艺通常包括涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影以及后烘。其中，曝光是采用曝光光线通过掩膜板照射在光刻胶上，将光刻胶感光。如图1所示，在进行曝光时需要使用到曝光装置，现有的曝光装置一般包括光源I和承载基台4，其中光源I用于提供平行的曝光光线，承载基台4用于承载待曝光基板3，平行的曝光光线通过与待曝光基板3相匹配的掩模板2后均匀照射至待曝光基板3，并在待曝光基板3上形成与掩模板2—致的图形。承载基台4吸...
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