一种承载基台、曝光装置及曝光方法
【技术领域】
[0001 ]本发明属于显示技术领域，具体涉及一种承载基台、曝光装置及曝光方法。
【背景技术】
[0002]在显示面板的制备过程中，光刻工艺是一项十分重要的工艺。目前的光刻工艺通常包括:涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影以及后烘。其中，曝光是采用曝光光线通过掩膜板照射在光刻胶上，将光刻胶感光。
[0003]如图1所示，在进行曝光时需要使用到曝光装置，现有的曝光装置一般包括:光源I和承载基台4，其中光源I用于提供平行的曝光光线，承载基台4用于承载待曝光基板3，平行的曝光光线通过与待曝光基板3相匹配的掩模板2后均匀照射至待曝光基板3，并在待曝光基板3上形成与掩模板2—致的图形。承载基台4吸附固定并支撑基板3，若承载基台4为平面结构，则完成曝光的基板3取下来时，由于基板3与平面结构接触面积大，吸附力强易损坏基板3。因此通常如图2所示，承载基台4台面上设有凸起41，在实际曝光过程中，凸起41与待曝光基板3接触，减小基板3与承载基台4的接触面积，从而防止损坏基板3。
[0004]发明人发现现有技术中至少存在如下问题:
[0005]承载基台4的凸起41会与待曝光基板3接触，而其余位置不与基板3接触，由于固体导热比空气快，与凸起41接触的基板3表面温度会比基板3其余位置表面温度高，造成与凸起41接触的基板3表面的光刻胶与其余位置的光刻胶形成差异，影响产品显示性能。随着基板3厚度越来越薄，这种问题越来越严重。
【发明内容】
[0006]本发明针对现有的带凸起的承载基台影响基板曝光均匀性的问题，提供一种承载基台、曝光装置及曝光方法。
[0007 ]解决本发明技术问题所采用的技术方案是:
[0008]—种承载基台，用于承载基板，所述承载基台包括:
[0009]第一基台，所述第一基台表面具有多个凸起，所述凸起用于与基板接触并支撑基板；
[0010]第二基台，设于所述第一基台具有多个凸起的一面上，所述第二基台具有多个与所述凸起相匹配、并容所述凸起穿过的通孔；
[0011 ]温控单元，用于调节控制所述第一基台和/或所述第二基台的温度，以使基板表面温度相同。
[0012]优选的是，所述温控单元包括与所述第一基台连接的冷却水循环部件，用于降低所述第一基台的温度。
[0013]优选的是，所述温控单元包括与所述第二基台连接的升温部件，用于升高所述第二基台的温度。
[0014]优选的是，所述温控单元调节控制所述第一基台的温度至TI，所述温控单元调节控制所述第二基台的温度至T2，T2大于Tl，且T2与Tl的差值在0.1-0.3°C范围内。
[0015]优选的是，所述第一基台表面的多个凸起成矩阵排列。
[0016]优选的是，在垂直于所述第一基台方向上，所述凸起的高度均相同。
[0017]本发明还提供一种曝光装置，包括上述的承载基台。
[0018]优选的是，所述曝光装置还包括光源和掩膜板。
[0019]本发明还提供一种曝光方法，采用上述的曝光装置进行曝光，具体包括以下步骤:
[0020]将基板放置于第一基台的多个凸起上；
[0021]调节控制所述第一基台和/或所述第二基台的温度，以使基板表面温度相同；
[0022]进行曝光。
[0023]本发明的承载基台包括表面具有多个凸起的第一基台、具有多个通孔的第二基台以及温控单元，所述通孔容所述凸起穿过，温控单元独立控制第一基台和/或第二基台的温度，以使基板表面有凸起支撑处与其余位置的温度相同，这样规避由于基板表面温差对工艺造成的影响，使得基板曝光均匀。本发明的承载基台适用于各种曝光装置，尤其适用于超薄显示基板。
【附图说明】
[0024]图1为现有的一种曝光装置的结构示意图；
[0025]图2为现有的另一种曝光装置的结构示意图；
[0026]图3为本发明的实施例1的承载基台结构示意图；
[0027]图4为本发明的实施例2的承载基台的一局部结构示意图；
[0028]图5为本发明的实施例2的承载基台的另一局部结构示意图；
[0029]图6为本发明的实施例2的承载基台的另一局部结构示意图；
[0030]图7为本发明的实施例2的承载基台的结构示意图；
[0031]其中，附图标记为:1、光源；2、掩模板;3、基板;4、承载基台；41、凸起;42、第一基台；43、第二基台；44、通孔;5、温控单元;51冷却水循环部件;52、升温部件。
【具体实施方式】
[0032]为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明作进一步详细描述。
[0033]实施例1:
[0034]本实施例提供一种承载基台4，用于承载基板3，如图3所示，所述承载基台4包括:
[0035]第一基台42，所述第一基台42表面具有多个凸起41，所述凸起41用于与基板3接触并支撑基板3;
[0036]第二基台43，设于所述第一基台42具有多个凸起41的一面上，所述第二基台43具有多个与所述凸起41相匹配、并容所述凸起41穿过的通孔44;
[0037]温控单元5，用于调节控制所述第一基台42和/或所述第二基台43的温度，以使基板3表面温度相同。
[0038]本实施例的承载基台4中的温控单元5独立控制第一基台42、第二基台43的温度，以使基板3表面有凸起41支撑处与其余位置的温度相同，这样规避由于基板3表面温差对工艺造成的影响，使得基板3曝光均匀。本发明的承载基台4适用于各种曝光装置，尤其适用于超薄显示基板3。
[0039]实施例2:
[0040]本实施例提供一种承载基台4，用于承载基板3，如图4-7所示，所述承载基台4包括:
[0041 ]第一基台42，所述第一基台42表面具有多个凸起41，所述凸起41用于与基板3接触并支撑基板3;
[0042]第二基台43，设于所述第一基台42具有多个凸起41的一面上，所述第二基台43具有多个与所述凸起41相匹配、并容所述凸起41穿过的通孔44;
[0043]温控单元5，用