技术编号:9898827
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。半导体光催化技术可在常温常压下进行,对污染降解几乎无任何选择性,可将污染物降解为无毒的无机小分子,然而回收利用率低是制约其工业化的一个主要因素。Fe3O4是一种具有较好的顺磁性,性质稳定,对光催化部分的活性不会产生较大的不利影响,无毒、无害、无污染,原料易得,制备工艺简单的磁性载体。B1I为层状结构,晶体内部具有内建电场,能够有效地提高光生电子空穴对分离效率。将两者复合后的Fe304/Bi0I不仅具有独特的晶体结构、能带结构、性能稳定且具有顺磁性,使得光催...
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