技术编号：9961197
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。印刷版模是图案转移印制的关键部件，为了提高版模的抗性，现有版模制作过程中一般都会对版模进行二次曝光，以使版模具有更好的填满性与抗性。现有的版模二次曝光工艺，是将一次曝光架桥完成的版模用水冲洗显像后，再在版模的刮刀面(Scraper surface)使用感光胶进行涂覆烘干。当一系列的动作完成之后，再将准备好的二次底片去与版模对准，然后贴附在版模的贴印面(Paste surface)，然后再用抽真空的方式排去底片与版模之间的空气，使二次底片紧密贴合版模的贴印面...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。