版模二次曝光用重压排气治具的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及版模二次曝光用重压排气治具。
【背景技术】
[0002]印刷版模是图案转移印制的关键部件，为了提高版模的抗性，现有版模制作过程中一般都会对版模进行二次曝光，以使版模具有更好的填满性与抗性。
[0003]现有的版模二次曝光工艺，是将一次曝光架桥完成的版模用水冲洗显像后，再在版模的刮刀面(Scraper surface)使用感光胶进行涂覆烘干。当一系列的动作完成之后，再将准备好的二次底片去与版模对准，然后贴附在版模的贴印面(Paste surface)，然后再用抽真空的方式排去底片与版模之间的空气，使二次底片紧密贴合版模的贴印面，再紫外曝光架桥。这样在操作上工序相当复杂，非常浪费产能与工时；同时因为原有的工艺必须使用吸气进行排气，这样又增加吸气时间，浪费工时降低产能。且从贴印面紫外曝光，会导致版模的钢丝线径的感光胶无法充分架桥。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种版模二次曝光用重压排气治具，其利用重压加软垫缓冲的方式对二次底片和版模刮刀面进行重压排气，避免用真空栗浦进行抽气抽真空，简化工序，缩短产品的制作周期，节约工时，提高作业人员效率，减少作业人员疲劳度，并大大减少了原有复杂工序导致的增加出来的设备与人力；还直接从版模的刮刀面进行曝光架桥，提高版模的架桥充分性。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供一种版模二次曝光用重压排气治具，用于排除平置二次底片与平置版模之间的空气，包括:平置软垫治具和平置重压治具；所述平置版模、平置软垫治具、平置重压治具由下至上依次层叠于平置二次底片上，且版模的刮刀面贴合二次底片；
[0006]所述平置软垫治具包括:用于贴合平置版模的平置软垫，用于固定软垫、位于软垫顶面的平置均压板，由均压板相对两侧向上延伸的一对把手；
[0007]所述平置重压治具包括:用于下压均压板的平置重力压板，连接于重力压板顶面的一对把手；
[0008]所述平置软垫的面积不小于平置版模的面积；
[0009]所述平置均压板的面积不小于平置软垫的面积；
[0010]所述平置重力压板的面积等于平置均压板的面积。
[0011]优选的，所述重压治具的重量为2.5?5KG。
[0012]优选的，所述软垫治具的重量为2.5?5KG。
[0013]优选的，所述平置软垫的厚度为5?10mm。
[0014]优选的，所述软垫为微细胞聚氨酯软垫。
[0015]本实用新型还提供应用上述重压排气治具的版模二次曝光工艺，包括如下步骤:对一次曝光完成的版模用水冲洗显像后，再在版模的刮刀面使用感光胶进行涂覆烘干，再进行二次曝光；
[0016]在二次曝光过程中:将二次底片直接对位贴合版模的刮刀面，然后对二次底片和版模刮刀面进行重压排气，排除二次底片与版模刮刀面之间的空气，使二次底片紧密贴合版模刮刀面，排除空气后直接对版模的刮刀面进行曝光；
[0017]所述重压排气采用软垫治具和重压治具；
[0018]重压排气时，平置版模、平置软垫治具、平置重压治具由下至上依次层叠于平置二次底片上，且版模的刮刀面贴合二次底片。
[0019]本实用新型的优点和有益效果在于:提供一种版模二次曝光用重压排气治具，其利用重压加软垫缓冲的方式对二次底片和版模刮刀面进行重压排气，避免用真空栗浦进行抽气抽真空，简化工序，缩短产品的制作周期，节约工时，提高作业人员效率，减少作业人员疲劳度，并大大减少了原有复杂工序导致的增加出来的设备与人力；还直接从版模的刮刀面进行曝光架桥，提高版模的架桥充分性。
[0020]本实用新型具有如下特点:
[0021]1、采用本实用新型重压排气治具的版模二次曝光工艺，将原有的二次底片与版模贴印面对位贴附、然后再用抽真空的方式排去底片与版模贴印面之间的空气，简化为将二次底片直接对位版模的刮刀面，然后在版模刮刀面通过重压加软垫进行重压排气，替代原先的抽真空排气，排气后直接从版模的刮刀面进行曝光；简化工序，节约工时，提高效率。
[0022]2、直接从版模的刮刀面进行曝光架桥，可以直接提高版模的架桥充分性。
[0023]3、直接使用重压和软垫缓冲排气的方法，且重压治具和软垫缓冲治具复合人体功学，拿放简单方便。
[0024]4、直接使用重压和软垫缓冲的排气方式，替代负责昂贵的抽真空装置，节约成本。
【附图说明】
[0025]图1是本实用新型的示意图。
【具体实施方式】
[0026]下面结合附图和实施例，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
[0027]本实用新型具体实施的技术方案是:
[0028]如图1所示，一种版模二次曝光用重压排气治具，用于排除平置二次底片2与平置版模I之间的空气，包括:平置软垫治具3和平置重压治具4 ;所述平置版模1、平置软垫治具3、平置重压治具4由下至上依次层叠于平置二次底片2上，且版模I的刮刀面11贴合二次底片2 ；
[0029]所述平置软垫治具3包括:用于贴合平置版模I的平置软垫31，用于固定软垫31、位于软垫31顶面的平置均压板32，由均压板32相对两侧向上延伸的一对把手33 ;
[0030]所述平置重压治具4包括:用于下压均压板32的平置重力压板41，连接于重力压板41顶面的一对把手42 ；
[0031]所述平置软垫31的面积不小于平置版模I的面积；
[0032]所述平置均压板32的面积不小于平置软垫31的面积；
[0033]所述平置重力压板41的面积等于平置均压板32的面积。
[0034]所述重压治具4的重量为2.5?5KG。
[0035]所述软垫治具3的重量为2.5?5KG。
[0036]所述平置软垫31的厚度为5?10mm。
[0037]所述软垫31为微细胞聚氨酯软垫31。
[0038]本实用新型还提供应用上述重压排气治具的版模I 二次曝光工艺，包括如下步骤:对一次曝光完成的版模I用水冲洗显像后，再在版模I的刮刀面11使用感光胶进行涂覆烘干，再进行二次曝光；
[0039]在二次曝光过程中:将二次底片2直接对位贴合版模I的刮刀面11，然后对二次底片2和版模I刮刀面11进行重压排气，排除二次底片2与版模I刮刀面11之间的空气，使二次底片2紧密贴合版模I刮刀面11，排除空气后直接对版模I的刮刀面11进行曝光；
[0040]所述重压排气采用软垫治具3和重压治具4 ；
[0041 ] 重压排气时，平置版模1、平置软垫治具3、平置重压治具4由下至上依次层叠于平置二次底片2上，且版模I的刮刀面11贴合二次底片2。
[0042]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.版模二次曝光用重压排气治具，用于排除平置二次底片与平置版模之间的空气，其特征在于，包括:平置软垫治具和平置重压治具；所述平置版模、平置软垫治具、平置重压治具由下至上依次层叠于平置二次底片上，且版模的刮刀面贴合二次底片； 所述平置软垫治具包括:用于贴合平置版模的平置软垫，用于固定软垫、位于软垫顶面的平置均压板，由均压板相对两侧向上延伸的一对把手； 所述平置重压治具包括:用于下压均压板的平置重力压板，连接于重力压板顶面的一对把手； 所述平置软垫的面积不小于平置版模的面积； 所述平置均压板的面积不小于平置软垫的面积； 所述平置重力压板的面积等于平置均压板的面积。2.根据权利要求1所述的版模二次曝光用重压排气治具，其特征在于，所述重压治具的重量为2.5?5KG。3.根据权利要求2所述的版模二次曝光用重压排气治具，其特征在于，所述软垫治具的重量为2.5?5KG。4.根据权利要求3所述的版模二次曝光用重压排气治具，其特征在于，所述平置软垫的厚度为5?1mm05.根据权利要求4所述的版模二次曝光用重压排气治具，其特征在于，所述软垫为微细胞聚氨酯软垫。
【专利摘要】本实用新型公开了一种版模二次曝光用重压排气治具，用于排除平置二次底片与平置版模之间的空气，包括：平置软垫治具和平置重压治具；所述平置版模、平置软垫治具、平置重压治具由下至上依次层叠于平置二次底片上，且版模的刮刀面贴合二次底片。本实用新型的版模二次曝光用重压排气治具，利用重压加软垫缓冲的方式对二次底片和版模刮刀面进行重压排气，避免用真空泵浦进行抽气抽真空，简化工序，缩短产品的制作周期，节约工时，提高作业人员效率，减少作业人员疲劳度，并大大减少了原有复杂工序导致的增加出来的设备与人力；还直接从版模的刮刀面进行曝光架桥，提高版模的架桥充分性。
【IPC分类】B41C1/00
【公开号】CN204869988
【申请号】CN201520479771
【发明人】张永建
【申请人】仓和精密制造(苏州)有限公司, 仓和股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年7月7日