专利名称：一种西瓜陈种子的处理方法
一种西瓜陈种子的处理方法
技术领域
本发明属于西瓜栽培技术领域，特别涉及一种西瓜陈种子的处理方法。
技术背景
通常条件下，人们将收获后贮藏一年以上的种子称之为陈种子。用陈种子播种， 往往造成幼苗畸形，发育异常，植株矮化，生育期缩短，抗病性减弱，以及产量下降等不利情况，这主要是陈种子的胚部细胞在长期贮藏条件下的影响，发生了生理变化及遗传性方而的变化，如生长激素、各种酶及维生素的生理活性下降，甚至发生染色体畸变，以致严重影响种子的生命力、萌发力、发芽力和生长力，改变了原来的优良种性。
随着西瓜种植面积的不断扩大及良种推广的需要，现代化、工厂化、集约化育苗已经成为一种发展趋势。在西瓜工厂化育苗生产中，由于天气、茬口安排、销售不畅等外在因素影响，经常会造成生产计划不能顺利实施，出现西瓜种子大量积压情况，受保存条件所限，待第二年再使用时西瓜陈种子出现萌发力弱、发芽率低、幼苗长势弱等问题，严重阻碍了西瓜优良品种推广及标准化育苗生产。因此，研究促进西瓜陈种子萌发有效方法对西瓜陈种子高效利用、西瓜工厂化育苗生产具有显著价值。发明内容
本发明的目的在于提供一种西瓜陈种子的处理方法，有效解决西瓜陈种子萌发力弱、发芽率低、幼苗生长缓慢问题。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案如下 一种西瓜陈种子的处理方法，包括如下步骤①清洗10- 20°C清水洗涤西瓜陈种子三遍；②干燥自然通风干燥西瓜陈种子Mh- 48h；③低温处理干燥后的西瓜陈种子在0- 2°C处理72h;④He-Ne激光辐照处理低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理 30-60S，辐射剂量为 37. 6J/cm2、波长 632. 8nm。
所述西瓜陈种子是收获后贮藏2 3年的西瓜种子。
采用本发明所述的上述方法能够促进西瓜陈种子有效萌发，并且适用于大量样品的处理。本发明具有操作简单、处理量大、易于人工掌握等特点，可有效解决西瓜陈种子萌发力弱、发芽率低、幼苗生长缓慢问题，对西瓜陈种子高效利用以及西瓜工厂化育苗生产具有重要意义。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的具体描述实施例1①西瓜陈种子西瓜品种为“早春红玉”，收获后保存时间为2年。
②预处理10°C清水清洗3次，放在室内自然通风干燥Mh。
③低温处理干燥后的西瓜陈种子在2°C处理72h ；④He-Ne激光辐照处理低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理30S，辐射剂量为37. 6J/cm2、波长632. 8nm。
⑤测定结果通过本发明处理后“早春红玉” 二年陈种子发芽率达到了 95. 7%，比未处理对照组提高29. 8%，苗高、根长也分别比未处理对照组提高了 63. 1%、103. 4%，与未处理对照组比较，三者差异均达到极显著水平。
实施例2①西瓜陈种子西瓜品种为“郑抗无籽3号”，收获后保存时间为3年。
②预处理15°C清水清洗3次，放在室内自然通风干燥48h。
③低温处理干燥后的西瓜陈种子在0°C处理72h ；④He-Ne激光辐照处理低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理60S，辐射剂量为37. 6J/cm2、波长632. 8nm。
⑤测定结果通过本发明处理后“郑抗无籽3号”三年陈种子发芽率达到了 83. 1%，比未处理对照组提高47. 8%，苗高、根长也分别比未处理对照组提高了 75. 9%、 93. 2%，与未处理对照组比较，三者差异均达到极显著水平。
权利要求
1.一种西瓜陈种子的处理方法，包括如下步骤①清洗10- 20°C清水洗涤西瓜陈种子三遍；②干燥自然通风干燥西瓜陈种子Mh- 48h；③低温处理干燥后的西瓜陈种子在0-2°C处理72h；④He-Ne激光辐照处理低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理30S，辐射剂量为37. 6J/cm2、波长632. 8nm。
2.根据根据权利要求1所述的一种西瓜陈种子的处理方法，其特征在于所述西瓜陈种子是收获后贮藏2 3年的西瓜种子。
全文摘要
本发明公开了一种西瓜陈种子的处理方法，包括清洗、干燥、0-2℃低温处理72h、He—Ne激光辐照处理30S，辐射剂量37.6J/cm2、波长632.8nm。本发明具有操作简单、处理量大、易于人工掌握等特点，可有效解决西瓜陈种子萌发力弱、发芽率低、幼苗生长缓慢问题，对西瓜陈种子高效利用以及西瓜工厂化育苗生产具有重要意义。
文档编号A01C1/00GK102511219SQ20111045076
公开日2012年6月27日 申请日期2011年12月29日 优先权日2011年12月29日
发明者李应超, 蒋永华 申请人:上海博琛生物科技有限公司