一种山药的种植方法与流程

文档序号:11067927阅读:432来源:国知局

本发明涉及一种山药的种植方法,应用于山药的种植技术领域。



背景技术:

山药肉质细嫩,含有极丰富的营养保健物质。《神农本草经》谓之“主健中补虚、除寒热邪气、补中益气力、长肌肉、久服耳目聪明”;((日华子本草》说其“助五脏、活筋骨、长志安神、主治泄精健忘”;《本草纲目》认为山药能“益肾气、健脾胃、止泻痢、化瘫涎、润毛皮”。近些年来的研究表明,山药具有诱导产生干扰素,增强人体免疫功能的作用。其所含胆碱和卵磷脂有助于提高人的记忆力,常食之可健身强体、延缓衰老,是人们所喜爱的保健佳品。以山药为主、辅以魔芋做成的仿生食品,具有营养丰富、滋补健身、养颜美容之功效,是不可多得的健康营养美食。

山药因其营养价值丰富深受大众喜爱,越来越多的种植户选择种植山药,传统的山药种植产量小,山药的营养价值少,不能给种植户带来种植利润。



技术实现要素:

针对上述技术问题,本发明公开了一种营养价值高、产量高的山药的种植方法。

本发明所述的一种山药的种植方法,具体步骤如下:

步骤一:晒种:选择完好无病害的山药种,将山药种切成长17-20cm的段,并用80%的赛升蘸涂切口,在3月初给山药晒种,晒种时间为15-20天;

步骤二:基肥:在整地前8-10天每亩施加腐熟的有机肥3500-4500kg、硫酸钾复合肥80-100kg、51%硫酸钾50-60kg、尿素20-30kg、磷酸二铵20-30kg;

步骤三:整地作畦:4月中旬整地,将土地翻整一遍,然后起畦,设置畦宽1.1-1.2m,畦高17-19cm,沟深15-17cm,沟宽23-26cm;

步骤四:下种:作完畦立即下种,每畦种两行,开穴深度为6-7cm,芽头方向一致,株距为25-28cm,下种后每亩施加1500-2000kg粪水,然后覆土平畦;

步骤五:支架:当幼苗长到15-20cm时,用竹竿搭成人字形支架;

步骤六:除病虫害:6月中旬用50%甲基托布津1000倍溶液喷洒,8月初用65%代森锌1000倍溶液喷洒并每隔7天喷洒一次,连续喷洒两次;

步骤七:追肥:7月初每亩施加粪水1500-2000kg,7月下旬施加粪水2000-2300kg。

本发明的有益效果:本发明通过前期合理的晒种和后期施肥除病虫害,使得山药种能够高效的发芽出苗,并生长出壮苗,且在生长的过程中不受病虫害的影响。

具体实施方式

本发明所述的一种山药的种植方法,具体步骤如下:

步骤一:晒种:选择完好无病害的山药种,将山药种切成长17-20cm的段,并用80%的赛升蘸涂切口,在3月初给山药晒种,晒种时间为15-20天;

步骤二:基肥:在整地前8-10天每亩施加腐熟的有机肥3500-4500kg、硫酸钾复合肥80-100kg、51%硫酸钾50-60kg、尿素20-30kg、磷酸二铵20-30kg;

步骤三:整地作畦:4月中旬整地,将土地翻整一遍,然后起畦,设置畦宽1.1-1.2m,畦高17-19cm,沟深15-17cm,沟宽23-26cm;

步骤四:下种:作完畦立即下种,每畦种两行,开穴深度为6-7cm,芽头方向一致,株距为25-28cm,下种后每亩施加1500-2000kg粪水,然后覆土平畦;

步骤五:支架:当幼苗长到15-20cm时,用竹竿搭成人字形支架;

步骤六:除病虫害:6月中旬用50%甲基托布津1000倍溶液喷洒,8月初用65%代森锌1000倍溶液喷洒并每隔7天喷洒一次,连续喷洒两次;

步骤七:追肥:7月初每亩施加粪水1500-2000kg,7月下旬施加粪水2000-2300kg。

实例一:

步骤一:晒种:选择完好无病害的山药种,将山药种切成长18cm的段,并用80%的赛升蘸涂切口,在3月初给山药晒种,晒种时间为18天;

步骤二:基肥:在整地前10天每亩施加腐熟的有机肥4000kg、硫酸钾复合肥90kg、51%硫酸钾55kg、尿素25kg、磷酸二铵25kg;

步骤三:整地作畦:4月中旬整地,将土地翻整一遍,然后起畦,设置畦宽1.2m,畦高18cm,沟深16cm,沟宽26cm;

步骤四:下种:作完畦立即下种,每畦种两行,开穴深度为7cm,芽头方向一致,株距为27cm,下种后每亩施加1700kg粪水,然后覆土平畦;

步骤五:支架:当幼苗长到17cm时,用竹竿搭成人字形支架;

步骤六:除病虫害:6月中旬用50%甲基托布津1000倍溶液喷洒,8月初用65%代森锌1000倍溶液喷洒并每隔7天喷洒一次,连续喷洒两次;

步骤七:追肥:7月初每亩施加粪水1600kg,7月下旬施加粪水2000kg。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的仅为本发明的优选例,并不用来限制本发明,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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