一种多格花盆的制作方法

本发明涉及一种多格花盆。

背景技术：

随着我国经济的迅猛发展，生态环境污染恶化日趋严重。特别是严重的水污染导致了水体富营养化，加剧了水资源的短缺，水生态环境的恶化促使洪涝灾害的频发。人们意识到了水利建设的快速发展与生态环境保护的不协调，给生态环境和社会经济的可持续发展构成了威胁，因而引发了新的治水理念变革。

伴随着“948计划”的实施，表明我国的环保、景观、水利等建设已经开始由规模化向集约化、科技化转变。为防止水土流失，冲刷侵蚀，一般在天然河道、湖泊、水库铺设一层护坡的铺面层，常用的有刚性衬砌铺面结构和柔性衬砌铺面结构，其中，刚性衬砌铺面结构如干花盆石、浆花盆石、现浇混凝土等，存在总体成本高，不易植草绿化，不具有生态性，不适应冻胀、沉降，而且耐久性差等缺陷；而现在一般采用柔性衬砌铺面结构最常用的材料是多格花盆。但是采用多格花盆存在一定的缺陷：一般在天然河道、湖泊、水库铺设的多格花盆容易被水流冲刷，相互之间牵制能力差，多格花盆出现沉降的现象，水土流失，破坏坡面的整体结构。

技术实现要素：

本发明针对现有技术存在的问题，目的在于提供一种多格花盆，能植草绿化，改善生态环境，增加相互之间的牵制能力，防止出现沉降的现象，保证整个坡面结构的完整。

本发明采用如下技术方案：

一种多格花盆，其特征在于：包括花盆基体，花盆基体上设有种植通孔，花盆基体的左侧设有镶嵌尾部，镶嵌尾部上设有第一凹槽，镶嵌尾部上设有两个第二凹槽，第二凹槽分别设于第一凹槽的两侧，花盆基体的右侧设有第一限位凸起，第一限位凸起与第一凹槽相匹配，第一限位凸起的两侧分别设有第二限位凸起，第二限位凸起与第二凹槽相匹配，花盆基体的上侧设有第三凹槽，花盆基体的下侧设有第三限位凸起，第三限位凸起与第三凹槽相匹配，花盆基体上设有灌浆通孔，灌浆通孔呈圆形。

进一步，花盆基体的内部中设有排水管，排水管连通种植通孔。

本发明由于采用了上述技术方案，具有以下有益效果：

本发明多格花盆上的种植通孔上种植适合当地气候环境的常绿木本植物，使得花盆坡面与常绿木本植物一体，形成一个生态环境，可以涵养水源，减少水土流失，净化空气，保护生态，美化环境的特点，达到天然河道、湖泊、水库和坡面绿化为一体；本发明中第一限位凸起与第一凹槽相匹配，第二限位凸起与第二凹槽相匹配，这样使得处于同一平面横向上的相邻两块多格花盆左右互嵌在一起，相互牵制，第三限位凸起与第三凹槽相匹配，这样使得处于同一平面竖向上的相邻两块多格花盆前后互嵌在一起，相互牵制，这样在铺设过程中，处于同一平面上的多格花盆相互牵制，防止出现花盆下沉的现象，同时处于上下结构堆砌的多格花盆，可以将灌浆通孔相互对齐，往灌浆通孔中贯入混凝土，加固整个坡面结构；本发明中设有排水管，排水管连通种植通孔，这样使得相互之间的多格花盆中的种植通孔相互连通，可以平衡种植通孔中土壤的水分，保证常绿木本植物正常成长。

附图说明

下面结合附图对本发明作进一步说明：

图1为本发明一种多格花盆的结构示意图；

图2为图1的A向结构示意图；

图3为本发明一种多格花盆铺设时的结构示意图。

具体实施方式

如图1至图3所示，本发明中一种多格花盆，包括花盆基体1，花盆基体1上设有种植通孔2，种植通孔2上种植适合当地气候环境的常绿木本植物，使得花盆坡面与常绿木本植物一体，形成一个生态环境，可以涵养水源，减少水土流失，净化空气，保护生态，美化环境的特点，达到天然河道、湖泊、水库和坡面绿化为一体。花盆基体1的左侧设有镶嵌尾部3，镶嵌尾部3上设有第一凹槽31，镶嵌尾部3上设有两个第二凹槽32，第二凹槽32分别设于第一凹槽31的两侧，花盆基体1的右侧设有第一限位凸起4，第一限位凸起4与第一凹槽31相匹配，第一限位凸起4的两侧分别设有第二限位凸起5，第二限位凸起5与第二凹槽32相匹配，花盆基体1的上侧设有第三凹槽6，花盆基体1的下侧设有第三限位凸起7，第三限位凸起7与第三凹槽6相匹配，花盆基体1上设有灌浆通孔8，灌浆通孔8呈圆形，本发明中第一限位凸起4与第一凹槽31相匹配，第二限位凸起5与第二凹槽32相匹配，这样使得处于同一平面横向上的相邻两块多格花盆左右互嵌在一起，相互牵制，第三限位凸起7与第三凹槽6相匹配，这样使得处于同一平面竖向上的相邻两块多格花盆前后互嵌在一起，相互牵制，这样在铺设过程中，处于同一平面上的多格花盆相互牵制，防止出现花盆下沉的现象，同时处于上下结构堆砌的多格花盆，可以将灌浆通孔8上下相互对齐，往灌浆通孔8中贯入混凝土，加固整个坡面结构。花盆基体1的内部中设有排水管9，排水管9连通种植通孔2，这样使得相互之间的多格花盆中的种植通孔2相互连通，可以平衡种植通孔2中土壤的水分，保证常绿木本植物正常成长。

以上仅为本发明的具体实施例，但本发明的技术特征并不局限于此。任何以本发明为基础，为解决基本相同的技术问题，实现基本相同的技术效果，所作出地简单变化、等同替换或者修饰等，皆涵盖于本发明的保护范围之中。