技术总结
本发明公开了一种岩质边坡植被生长基质条件再造方法。包括以下步骤：岩质边坡上按照与坡面法线夹角10°内的方向选位钻孔；在钻孔底部填装碎石厚度25‑35cm；中间填装沙土厚度25‑35cm；表层填装腐殖土厚度45‑55cm；将植被根部种植在腐殖土中。所述植被为沙地柏、铺地柏、爬山虎的任意一种或者混合。孔径为45‑55mm，孔深为0.95～1.25m，孔距为1‑1.4m，排距为1.3‑1.5m。本发明给植物的生长、根系延伸和充足的基质条件提供空间，而且所选取的孔网参数，是考虑到既不能破坏岩质边坡的自身稳定性，也要满足植物自身正常生长的空间和生长基质的需要。
技术研发人员：柴修伟;倪小山;阎要峰;杨美洪;许奎;徐亮;李智;赵军;李明义
受保护的技术使用者：武汉工程大学;湖北兴发化工集团股份有限公司
文档号码：201611266546
技术研发日：2016.12.31
技术公布日：2017.05.17