一种高陡岩质边坡绿化的抗水土流失装置的制作方法

文档序号:11838877阅读:562来源:国知局
一种高陡岩质边坡绿化的抗水土流失装置的制作方法

本实用新型属于绿化设备领域,尤其是一种高陡岩质边坡绿化的抗水土流失装置。



背景技术:

我国多山地,这些地方多存在坡面与地面的角度大于45度的高陡岩质边坡,对建筑施工、采矿、公路修建带来安全隐患,特别是夏季,下大雨时经常出现滑坡。泥石流等自然灾害,堵塞山区公路,或者摧毁建筑设施,造成重大的财产损失,威胁附近人员的生命。因此,一种防止高陡岩质边坡滑坡、减缓水土流失的装置是目前所需要的。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种高陡岩质边坡绿化的抗水土流失装置,能够有效地防止高陡岩质边坡滑坡,减缓水流失,避免对周边设施造成破坏,降低山区设施如公路等的维护费用。

本实用新型的目的是这样实现的:一种高陡岩质边坡绿化的抗水土流失装置,包括坡体,所述坡体表面设置有土壤层,所述土壤层的表面设置有多根横挡梁和多根竖挡梁,所述横挡梁和竖挡梁均为混凝土结构,所述横挡梁和竖挡梁的底部均设置有地桩,所述地桩穿过土壤层并伸入坡体内;所述多根横挡梁和多根竖挡梁围成多个矩形的种植腔,所述种植腔内的土壤层中栽种有植被;所述土壤层与坡体之间设置有多根沿坡体倾斜方向分布的排水管,所述排水管设置有多个进水口,每个进水口处设置有过滤网。

进一步地,设置有覆盖横挡梁和竖挡梁的支撑网,所述支撑网的边缘通过插入坡体内的定位桩固定。

进一步地,所述坡体外设置有蓄水池,所述排水管的出口与蓄水池相连通,所述蓄水池连接有送水管。

进一步地,所述蓄水池内设置有水泵,所述送水管与水泵相连接。

进一步地,所述土壤层的厚度为20cm至50cm。

进一步地,相邻两根横挡梁之间的距离为1m至2m,相邻两根竖挡梁之间的距离为1m至2m。

本实用新型的有益效果是:利用横挡梁和竖挡梁阻挡土壤层,防止土壤层滑动,在土壤层中种植植被,起到保持水土的作用;当夏季下暴雨时,进入土壤层中的水分被排水管收集并排放至坡体外,防止打水将土壤层冲走。本装置,能够有效地防止高陡岩质边坡滑坡,减缓水流失,避免对周边设施造成破坏,降低山区设施如公路等的维护费用。

附图说明

图1是本实用新型的侧视剖视示意图;

图2是本实用新型的主视示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

如图1和图2所示,本实用新型的一种高陡岩质边坡绿化的抗水土流失装置,包括坡体10,所述坡体10表面设置有土壤层20,所述土壤层20的表面设置有多根横挡梁31和多根竖挡梁32,所述横挡梁31和竖挡梁32均为混凝土结构,所述横挡梁31和竖挡梁32的底部均设置有地桩33,所述地桩33穿过土壤层20并伸入坡体10内;所述多根横挡梁31和多根竖挡梁32围成多个矩形的种植腔,所述种植腔内的土壤层20中栽种有植被34;所述土壤层20与坡体10之间设置有多根沿坡体10倾斜方向分布的排水管40,所述排水管40设置有多个进水口41,每个进水口41处设置有过滤网。

实施时,利用混凝土浇筑横挡梁31、竖挡梁32和地桩33,使横挡梁31和竖挡梁32与相应的地桩33一体成型;将排水管40均匀分布在坡体10表面;在坡体10表面铺设土壤层20,并确保土壤层20的厚度均匀;将横挡梁31和竖挡梁32的地桩33敲入坡体10并使横挡梁31和竖挡梁32压紧土壤层20;再在土壤层20中撒上草本植物的种子,适当施肥和浇水即可。利用横挡梁31和竖挡梁32阻挡土壤层20,防止土壤层20滑动,在土壤层20中种植植被,起到保持水土的作用;当夏季下暴雨时,进入土壤层20中的水分被排水管40收集并排放至坡体10外,防止打水将土壤层20冲走。本装置,能够有效地防止高陡岩质边坡滑坡,减缓水流失,避免对周边设施造成破坏,降低山区设施如公路等的维护费用。

为了进一步地使横挡梁31和竖挡梁32保持稳定,设置有覆盖横挡梁31和竖挡梁32的支撑网50,所述支撑网50的边缘通过插入坡体10内的定位桩51固定。

所述坡体10外设置有蓄水池60,所述排水管40的出口与蓄水池60相连通,所述蓄水池60连接有送水管61。所述蓄水池60内设置有水泵62,所述送水管61与水泵62相连接。雨季时,排水管40将多余的雨水收集并排放至蓄水池60存储,到了旱季雨水较少时,利用水泵62将水抽出,对植被34进行灌溉,充分利用了水资源,避免了浪费。此外,多余的雨水经沉淀后还可以作为工厂用水等。

优选的,所述土壤层20的厚度为20cm至50cm。

优选的,相邻两根横挡梁31之间的距离为1m至2m,相邻两根竖挡梁32之间的距离为1m至2m。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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