专利名称：带有特殊凸起部的足跖矫形垫的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种新型的足跖矫形垫(orthèse plantaire)或矫形底垫(semelle orthopédique)。
背景技术：
该底垫可以实施成可拆卸的形式，或足跖矫形垫又或干净垫，或者该底垫可以不是可拆卸的，并且构成一粘贴的干净垫，或构成鞋子的首垫层的上部。
在矫形外科中，一般根据需要制作足跖矫形垫，至少要由矫形外科医生对需要穿带矫形垫的人确定足跖矫形垫。其结果是几乎要单独地进行手工制作，因此导致高成本。
发明内容
本发明的目的是克服这些缺点。
已经通过本发明发现，在现实中，可以制出单一的矫形垫或矫形底垫的型件，其能够治疗大多数的个体病例，并且这与个人的解剖学和病理学特征无关。因此可以通过本发明惊人地工业制出相同的底垫(为左足和右足的形状，并且显然考虑不同的尺码)，它们可以满足所遇到的80％以上、甚至90％以上直到95％的病症中对矫形底垫的需求。因此只有少量的病理症状需要不同的底垫，这些底垫应单独地适应这些不常见的病理症状。
本发明的目的是一种足跖矫形垫，这种足跖矫形垫从前向后在一基本为平面的区域17上包括称为下跖骨头位的区域，即对于第一跖骨位的一区域11和对于第四和第五跖骨位的一区域12；并且在这些互相分开的区域后面包括一后跖骨头位空隙区或后跖骨头位支承区13，这些区域具有基本如图1所示的轮廓，和基本如图2的剖面中出现的凸起部分。
优选地，足跖矫形垫可以可选地还包括一向后部的内半穹形区14和一外半穹形区15，足跖矫形垫终止于一足跟环16，所述区域具有基本如图1所示的轮廓，和基本如图2中的剖面示出的凸起部分。
在一符合本发明的足跖矫形垫中，所有这些区域的结合实现几乎通用的足跖矫形垫的特征，从一水平几何参照平面起，所述区域分别具有以下特征
-下跖骨头位区11和12具有一介于0.5mm到10mm之间的高度，并且它们是平的，或稍微向前倾斜；[10]-后跖骨头位空隙区13在不同跖骨头位的后面有一中间隆起(其横截面上具有一平的或凸起的形状，并且在纵向截面上具有一向后倾斜的形状)，该区域的最大高度为2-10mm，优选为4-5mm；[11]-或者用一位于第二、第三和第四跖骨头位后面的后跖骨头位支承区代替后跖骨头位空隙区，所述区域的最大高度为2-10mm；[12]-内半穹形区14在一纵向平面内整体上凸起，并且与足部的内足底弓相吻合，且在一横向平面内它是凹陷的、或凸起的，或者呈拱耳形；该区域一般在它的长度方向上是凹陷的，并且它的横截面有规律地凹陷、凸起或呈拱耳形，最大高度在2mm-25mm之间，所述区域从跟骨位的约后1/3部位处向第一跖骨颈部位的后面纵向延伸，并且横向地一直延伸到足部宽度的约2/3部位处；[13]-外半穹形区在纵向平面中是凸起的，其从跟骨位的约后三分之一处向第五跖骨头位的后面延伸，支撑外足底弓，并且横向地一直延伸到足部的大约一半宽度处，横向截面是凹陷的、平面倾斜的或凸起的；[14]-足跟环区16的形状为凹陷的半环形，两分支的纵向截面的高度恒定，或者稍微向前倾斜，剖截面轻微凸起、平面倾斜或凹陷。
阅读下面参照附图进行的作为非限定例子的描述，本发明的其他特征和优点将更加清楚地体现出来，附图如下[16]-图1表示一符合本发明的足跖矫形垫的俯视图，该图示出矫形垫的所有区域；[17]-图2表示在一具体实施例中该矫形垫的俯视图，其中矫形垫由多组部安装形成，其中有些组部是叠置的，以便形成符合图1的矫形垫的区域，该图2还表示多个沿线1-1至7-7的截面，所述截面相对放置在一水平面中的底垫是竖直的；[18]-图3表示下跖骨头位(sous-capitales)部分的纵向剖面；[19]-图4表示足跟环的俯视图和在不同高度的纵向和横向的截面；[20]-图5表示根据内半穹形部的一纵向截面视图和根据其三个变型的三个横向截面；[21]-图6表示中间的后跖骨头位支承区(zone d′appui rétro-capitale)的纵向和横向截面；[22]-图7表示根据可形成后跖骨头位空隙区(barre rétro-capitale)的组部的不同变型的纵向截面和横向截面；[23]-图8表示外半穹形部的纵向截面和横向截面的变型。
具体实施例方式图1所示足跖矫形垫在其下部有一基底10，所述基底例如在一种平面材料的厚片材中切割而成，并形成一平的首垫层。某些区域凸起地布置于该基底上，所述区域即第一跖骨的一下跖骨头位区11、第四和第五跖骨的一下跖骨头位区12、一后跖骨头位空隙区或后跖骨头位支承区13、一内半穹形区14、一外半穹形区15和一足跟环16。
根据本发明，图1所示的布置确定不同区域的轮廓线，当然这些区域在它们的宽度或长度上可以变化。所述区域的长度和/或宽度优选可以相对于图中出现的尺寸在±10％的限度内改变，并优选在±7％的限度内变化，这些尺寸与矫形垫的尺码成正比。
区域11至16的存在使得出现一保持平坦的辅助区域，即对于趾骨的前部区域17，并可能还有一在足跟环处并且也被半穹形部限定的内平面区域18，但是该区域也可以略呈凹陷。
不同区域11-16与平面区域17和18连接，并且对于相邻区域通过柔性的连接线互相连接，从而避免任何可能形成令脚感觉不适的凸缘的突然过渡区。
可以通过不同的方式形成不同的区域。因此，第一实施例可以从一适当切割、并且变形和硬化的平面片材制出符合图1的矫形垫，以便使得在单独一部件中呈现不同的区域11至18。
另一实施例在于通过模制形成矫形垫。
另一实施例可以在于按图1所示的线条切割而形成区域11至16，然后把这些区域并置且例如通过粘贴或缝合固定在片体或首垫层上，所述片体或首垫上出现有平面区域17和18。
另一实施方式——其为示于图2的实施例——在于制出一些局部叠置和组装的组部，组装优选通过粘贴进行。
例如，在图2看到，矫形垫包括一第一组部A，所述第一组部的前端分别形成区域11和12。在它的中间部分，一组部B形成后跖骨位空隙区。所述组部B在其表面可以设置一组部C，该组部C在组部B的中部加厚所述组部B。
另一组部D形成外半穹形部15，并且向前和向内侧延伸。该组部延伸出矫形垫10的外侧。
一组部E形成足跟环16，并且该组部为U形，该U形组部E延伸到内、外半穹形部下面。
一组部F形成内半穹形部，该内半穹形部局部地重叠在组部A的内跖骨位部分上，局部地重叠在组部D的中央部分上，且局部地重叠在组部E的其中一分支上。和通常一样，该半穹形部14在内侧延伸到底垫10的轮廓之外。
这些组部的轮廓如下[37]组部A[38]-前边界21、22在足印上，它们对应于距离前足掌印的前边界前部几毫米的下足趾间隙，以便考虑到在脚步趾行阶段足底脂肪组织(capiton plantaire)和跖骨的前移。从严格的解剖学的观点看，该边界位于与脚趾的近侧骨干相对齐处。从几何的观点看，前边界位于底垫的切割线上3/4(1/6；3/10)部位处。每一构件占据这个宽度的1/6。
-后边界如果单独制作下跖骨头位部件，后边界23位于利斯弗朗关节(即跗趾关节articulation de Lisfranc)处；如果下跖骨头位部件与后跖骨头位部件以单体件形式连接为一体，该边界对应于跖骨颈部位的边界；[40]-侧向边界24、25、26、27它们对应于前足掌在其宽度的1/6部位处的横向分割部。
凸起11和12的高度优选在0.5mm到10mm之间。这些区域可以是平的，或稍微向前倾斜。
参照图3，看到组部A确定的第一、第四和第五跖骨位的下及前跖骨头位构部(éléments sous et antérocapitaux)可能的纵向截面的三种变型，最大厚度基本位于跖骨颈部位处，跖骨颈部位与1/6部位的边界之间的倾斜或平面表面是暴露的，以便形成区域11或12，而位于利斯弗朗关节颈部之间的后部分将被组部B覆盖。
组部B[44]该组部用于形成后跖骨头位空隙(BRC)区，或作为变型，形成后跖骨头位支承(ARC)区[45]-BRC这是一正好位于跖骨头位后面的构部，这些跖骨头位整体构成跖骨盘位(palette métatarsienne)。该构部整体有一中间隆起(正好在第二和第三跖骨头位的后面)，它的下边界是无关紧要的；[46]-纵向上，正是这样一构部其正好在跖骨头位的后面具有一最大的挠曲高度(hauteur de flèche)，并且该构部规则地向它的下边界倾斜转变成平面；[47]-除了构部位于第二、第三和第四跖骨头位后面外，ARC与前面的构部相同。
对于BRC，边界是[49]-前边界31它对应于跖骨颈部位线；[50]-后边界32它对应于利斯弗朗关节的关节间隔线；[51]-内侧边界33它对应于与鞋子的内凸起相适应的凸出边，该凸出边在2-4mm之间变化。
-外侧边界34，其向外凸出，凸伸部在2-4mm之间变化。
对ARC，边界是[54]-前边界沿着第二、第三和第四跖骨的颈部位的边界；[55]-后边界位于利斯弗朗关节间隔线的相交处的点，或正好位于足部几何轴线相交处的点，或者正好位于后足轴线的相交处的点；[56]-侧向边界稍微凸起，宽度等于对应第二、第三和第四跖骨的3/6部位处。在内部为横向的2/6部位处，在外部为纵向的2/6部位处，横向的5/6部位处，纵向的2/5部位处。
厚度优选在1-10mm之间。
参照图7，该图表示向后倾斜的后跖骨头位空隙区的中间部分的纵向截面视图。在横截面中，它可能是平的，或者是带有一沟槽的凸起，如图2的剖面4-4所示，或者它仍是平的，并带有一中间隆起，而没有侧沟槽，或者它是凸起的，并带有一沟槽和一些侧向翼。
最厚部分的高度最少为2-5mm，直到最大为8或9mm。
在图6中看到，当它实施成后跖骨头位支承区的形式时，它有一与后跖骨头位空隙区类似的纵向中间截面，但是只延伸在中央跖骨下面，即第二、第三和第四跖骨下面，因此具有凸起横截面，所述凸起横截面的最大高度在第二、第三或第四跖骨下面。高度可以从最小为2-5mm，变化到最大为8或9mm。
内半穹形部F[62]这是一与足部的内足底弓吻合的构部。它在一纵向平面中是整体凸起的。在一横向平面中，它或者是完全凸起的，或者是完全凹陷的，或者呈拱耳形(oreille de )，即在它的上部是凹陷的，而在其下部是凸起的。它可以在跟骨的后1/3部位之后一直往前延伸到第一跖骨颈部位。横向上它可以一直延伸到足部宽度的2/3部位处。
边界为[64]-前边界41第一跖骨的颈部；[65]-后边界42跟骨长度的1/2处，或跟骨长度的1/3处；[66]-内侧边界43适配凸边直线或稍微向内凸起的边界；[67]-外侧边界44向外凸起的线条，最大宽度在与舟骨对齐处。在首垫层宽度的1/2部位处。
参照图5，一方面看到该内半穹形部的凸起部分的纵向截面，另一方面看到其横向截面的三种变型。对于纵向截面的凸起部分，最大高度可以在对齐舟骨、或者对齐舟骨关节(articulation scapho-cunéenne)、或者对齐内利斯弗朗关节(cunéo-métatarsienne)的内边缘处。
在横向上，在其最大高度处取得的截面可以有规律地凸起，或者呈拱耳形，或者有规则地凹陷。
高度在2-25mm之间变化。
外半穹形部D[72]这是一与脚的外足底弓或外拱形吻合的构部(见根据Kapandji的足部外拱形的结构)。在一纵向平面中，该外半穹形部整体凸起，但也可以是平的，甚至凹陷的。
在一横向平面中，该外半穹形部或者完全凸起，或者完全凹陷，或者呈拱耳形，即在它的上部凹陷，而在其下部凸起。该外半穹形部可以从跟骨的后三分之一部位后一直向前延伸到第五跖骨头位的后面；横向上它可以延伸到足部的2/3宽度处。
边界为[75]-前边界51第五跖骨的颈部位；[76]-后边界52跟骨长度的前1/3部位处，或跟骨宽度的1/2部位处；[77]-内侧边界在对齐第五跖骨的茎突的首垫层的1/2宽度处；[78]-外侧边界稍微向外凸出的适配凸边。
参照图8看到该外半穹形部的一纵向截面和三种横向截面的变型。最大高度基本在与 或茎突对齐处。
横向凸起部可以是凹陷的，或倾斜平面的，甚至是凸出的。
高度在2-25mm之间。
足跟环E[83]这是一与足跟部(跟骨)的印痕相吻合并予以加强的构部。该足跟环沿着跟骨在地面上的后支撑的解剖学轮廓。该足跟环具有一凸起部分和一厚度，该凸起部分和厚度可形成足跟在地面的支承。该构部给出的凸起部分基本上是凹面的。
边界为[85]-前-内边界61它与舟骨关节相对；[86]-前-外边界62与外利弗斯朗关节相对的首垫层外边缘；[87]-内边界63在它的内部，边界或多或少是凸起的。在它的前部，该部分的宽度等于首垫层宽度的内1/3，然后在后部它是凹陷的。凹陷部分的宽度在其外部等于首垫层宽度的内1/5。在前部，它在内部凸起，其宽度等于首垫层的外四分之一，然后在它的后部是凹陷的，且宽度对应于外1/5；[88]-侧边界64、65这是与鞋子相适应的适配凸边相对应的边界。这些边界是凸起的，大约3-5mm的最大凸边位于构部长度的1/2处。
参照图4看到纵向凸起部分，在左边的图中，所述凸起部分或者高度基本恒定，或者稍微向前倾斜。横剖面1-1、2-2、3-3处的凸起部分可以尤其稍微凸出，或者在对应剖面1-1的前部为倾斜的平面，或者对于剖面2-2和3-3其是倾斜的平面或稍微凹陷。高度可以在2mm到25mm之间变化。
符合本发明的矫形垫可以用不同的方式实现。
整体上说，足跖矫形垫之下优选存在一空间，该空间是空的或包含一种轻质或带孔隙的材料，矫形垫本身保证变形阻力，而该变形是由于重量和作用力而产生的。
例如，一符合图1的矫形垫可以用单一片材通过注模进行制造，或者优选在一带有配以适当区域的模具的压力机中通过变形制造，以便提供一矫形垫，虽然该矫形垫是刚性的，但也带有一定弹性，并且大体通过它的周边搁靠于一只鞋子的基底或底垫本身上，矫形垫凸起部分之间的空间例如是空的。
正如已经描述的，在另一实施例中，矫形垫可以这样制造分别生产它的不同组成部分，然后把这些组成部分组装在一起，并且例如通过粘贴固定在平面基底10上。
正如在图2看到的，作为变型，可以通过组成部分的局部叠放——其中某些部分延伸在其它部分下面——而得到不同的组成部分。
最后，矫形垫可以与整个鞋底垫一起制造，但不构成一个以后要集成到底垫中的干净垫。例如可以通过适当材料模压得到。通常所用的材料的肖式硬度在0-200之间。
总之，符合本发明的矫形垫可以构成一干净垫，或形成该干净垫的上部，或属于安装首垫层的一部分，或者成为外垫体的一部分，根据鞋子的不同类型，符合本发明的矫形垫可以是附加的，或者相反地与干净垫、或安装首垫或外垫形成为一体，矫形垫可以是相对于鞋子可拆卸的，也可以是不可拆卸的。
权利要求
1.足跖矫形垫，该矫形垫从前向后在一基本为平面的区域(17)上包括称为下跖骨头位的区域，即对于第一跖骨位的一区域(11)和对于第四和第五跖骨位的一区域(12)；并且在这些互相分开的区域后面包括一后跖骨头位空隙区或后跖骨头位支承区(13)，这些区域具有基本如图1所示的轮廓，和基本如图2的剖面中出现的凸起部分。
2.如权利要求1所述的足跖矫形垫，该矫形垫朝所述后跖骨头位空隙区或后跖骨头位支承区(13)后面包括一内半穹形区(14)和一外半穹形区(15)，矫形垫终止于一足跟环(16)，这些区域具有基本如图1所示的轮廓，和基本如图2的剖面中出现的凸起部分。
3.足跖矫形垫，该矫形垫从前向后包括在一基本为平面的区域(17)上包括称作下跖骨头位的区域，即对于第一跖骨位的一区域(11)和对于第四和第五跖骨位的一区域(12)；并在这些互相分开的区域后面包括一区域(13)，该区域或者形成后跖骨头位空隙区，或者形成后跖骨头位支承区；并且可选地，朝后部包括一内半穹形区(14)、一外半穹形区(15)和一足跟环(16)，这些区域具有以下特征—下跖骨头位区(11)和(12)具有一介于0.5mm到10mm之间的高度，并且它们是平的，或稍微向前倾斜；—内半穹形区(14)在一纵向平面内整体上凸起，并且与足部的内足底弓相吻合，且在一横向平面内它是凹陷的、或凸起的，或者呈拱耳形；该区域一般在它的长度方向上是凹陷的，并且它的横截面有规律地凹陷、凸起或呈拱耳形，最大高度在2mm-25mm之间，所述区域从跟骨的后1/3部位处向第一跖骨颈部位的后面纵向延伸，并且横向地一直延伸到足部宽度的2/3部位处；—外半穹形区在纵向平面中是凸起的，其从跟骨的约后三分之一处向第五跖骨头位的后面延伸，支撑外足底弓，并且横向地一直延伸到足部的大约一半宽度处，横向截面是凹陷的、平面倾斜的或凸起的；—足跟环区(16)的形状为凹陷的半环形，两分支的纵向截面的高度恒定，或者稍微向前倾斜，剖面轻微凸起、平面倾斜或凹陷。
4.如权利要求3所述的足跖矫形垫，其特征在于，该矫形垫有一后跖骨头位空隙区(13)，该区在跖骨头位后面具有一隆起(其横截面上形状是平面的或凸起的而纵截面上形状是向后倾斜的)，所述区的最大高度在2mm-10mm之间。
5.如权利要求3所述的足跖矫形垫，其特征在于，该矫形垫具有一位于第二、第三和第四跖骨头位后面的后跖骨头位支承区，该区的最大高度在2mm-10mm之间。
6.如权利要求1至5中任一项所述的足跖矫形垫，该矫形垫在它的下表面下面具有一空的或充填有带孔隙材料的空间。
7.如权利要求1至5中任一项所述的足跖矫形垫，该矫形垫在它的下表面下面包括一种实心材料。
8.如权利要求1至7中任一项所述的足跖矫形垫，其特征在于，该矫形垫相对于鞋子是可拆卸的。
9.如权利要求1至7中任一项所述的足跖矫形垫，其特征在于，该矫形垫相对于鞋子不是可拆卸的。
10.如权利要求1至5中任一项所述的鞋垫，其特征在于，它形成鞋的完整底垫的上部。
11.如权利要求1至9中任一项所述的足跖矫形垫，其特征在于，该矫形垫属于鞋子的安装首垫层的一部分。
12.如权利要求1至9中任一项所述的足跖矫形垫，其特征在于，该矫形垫属于鞋子外垫体的一部分。
全文摘要
足跖矫形垫，该矫形垫从前向后在一基本为平面的区域(17)上包括称为下跖骨头位的区域，即对于第一跖骨位的一区域(11)和对于第四和第五跖骨位的一区域(12)；并且在这些互相分开的区域后面包括一后跖骨头位空隙区或后跖骨头位支承区(13)，这些区域具有基本如图1和图2所示的轮廓。
文档编号A43B13/38GK1960651SQ200580017992
公开日2007年5月9日 申请日期2005年4月27日 优先权日2004年5月3日
发明者埃里克·帕兰 申请人:埃里克·帕兰