一种便于拆卸的美甲装置的制作方法

本实用新型涉及美容技术领域，具体涉及一种便于拆卸的美甲装置。

背景技术：

美甲是一种能够在指甲的狭窄面积上进行的创造艺术形式，深受年轻时尚女士的喜爱。美甲装置在使用过程中，通过将指头伸入到美甲装置上开设的通道内，之后，利用美甲装置内的喷涂机对指甲进行喷绘。由于喷涂机是使用墨水对指甲进行喷绘，因此，在喷绘过程中容易产生溅射，可能会由墨水溅落到皮肤上或衣物上，从而会导致皮肤和衣物染上污渍，因此通常需要设置封盖组件以防止墨水溅落。

然而，现有技术中，封盖组件通常卡扣连接于壳体，不易从壳体上进行安装和拆卸，经常性的对封盖组件进行拆装，无疑会导致美甲时间的延长，从而耽误人们的空余时间。

综上，现有的美甲装置有待改进。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种便于拆卸的美甲装置，具有便于安装和拆卸的优势。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种便于拆卸的美甲装置，它包括：

壳体，所述壳体上开设有操作口；

设置在壳体内的喷涂机；以及，

可拆卸地装配在壳体上且靠近操作口一侧的封盖组件；

所述封盖组件包括：

卡扣连接于壳体的主盖体，所述主盖体上开设有与操作口相连通的观察口；

设置在主盖体上的磁铁；

可拆卸地装配于主盖体上的副盖体；以及，

设置在副盖体上且靠近磁铁一侧的磁片。

优选的，所述主盖体上相对于磁铁开设有容置孔，所述磁铁设置在容置孔内。

优选的，所述主盖体包括：设置在主盖体上且远离磁片一侧的抵接块，所述抵接块位于容置孔的轮廓范围内。

优选的，所述主盖体还包括：设置在主盖体上且靠近磁片一侧的限位块，所述限位块具备弹性且位于容置孔的轮廓范围内。

优选的，所述副盖体还包括：设置在副盖体上且靠近磁片一侧卡接件，所述磁片设置在卡接件内。

优选的，所述副盖体上且靠近卡接件的一侧设置有楔形块，所述卡接件上且靠近楔形块的侧壁上开设有容置槽，所述楔形块上远离容置槽的一端到靠近容置槽的一端宽度逐渐减小。

优选的，所述副盖体上远离磁片的一端且靠近主盖体一侧的插接件，所述主盖体上靠近封盖的一侧且相对于插接件对位开设有限位孔，所述插接件用于插接在限位孔内。

采用上述技术方案后，本实用新型的有益效果为：

本实施例通过在主盖体上设置磁铁，并在副盖体上设置与磁铁相吸附的磁片，通过施加远离壳体一侧的力就可以将副盖体从壳体上分离，从而简化了副盖体的拆卸过程、缩减了副盖体的拆卸时间；通过磁铁与磁片的相互吸附作用，可以使副盖体能快速、容易地安装到主盖体上。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实施例的结构示意图；

图2是本实施例的分解结构示意图；

图3是本实施例的封盖组件的分解结构示意图；

图4是图3中a区域的放大图；

图5是图3中b区域的放大图；

图6是本实施例主盖体的主视图；

图7是图6中m-m方向的剖面图；

图8是图7中的放大图；

图9是本实施例主盖体的结构示意图；

图10是图9中的放大图；

附图标记说明：10、壳体；20、喷涂机；30、封盖组件；31、主盖体；311、抵接块；312、限位块；32、磁铁；33、副盖体；331、卡接件；332、楔形块；333、插接件；34、磁片；a、操作口；b、观察口；c、容置孔；d、容置槽；e、限位孔。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。

如图1-10所示，本实施例涉及一种便于拆卸的美甲装置，它包括：壳体10，壳体10上开设有操作口a。设置在壳体10内的喷涂机20。可拆卸地装配在壳体10上且靠近操作口a一侧的封盖组件30。封盖组件30包括：卡扣连接于壳体10的主盖体31，主盖体31上开设有观察口b，观察口b与操作口a相连通。设置在主盖体31上的磁铁32。可拆卸地装配于主盖体31上的副盖体33。设置在副盖体33上且靠近磁铁32一侧的磁片34。

基于以上结构，现有技术中在需要观察喷涂机20的喷绘情况时，需要将封盖组件30整体取下，通过操作口a观察喷绘情况。在本实施例中，由于主盖体31卡扣连接于壳体10，因此，要取下整个封盖组件30首先要解除卡扣连接，不能直接将封盖组件30取下，从而导致了美甲过程中操作的繁琐。本实施例中由于主盖体31上设置有磁铁32，副盖体33上设置有磁片34，利用磁铁32与磁片34之间的相互吸引力可以将副盖体33连接到主盖体31上；在副盖体32上施加远离壳体10一侧的力就可以将副盖体32从主盖体31上分离，从而可以通过观察口b观察到喷涂机20的使用状况。基于此，通过在主盖体31上设置磁铁32，并在副盖体33上设置与磁铁32相吸附的磁片34，通过施加远离壳体10一侧的力就可以将副盖体33从主盖体31上分离，从而简化了副盖体33的拆卸过程、缩减了副盖体33的拆卸时间；通过磁铁32与磁片34的相互吸附作用，可以使副盖体33能快速、容易地安装到主盖体31上。

作为一种实施例，副盖体33由透明材料制成。基于以上结构，为观察喷涂机20的喷绘过程，尽管将副盖体33和主盖体31之间设置磁铁32和磁片已经可以较为容易地将副盖体33取下，但经常性地拆卸副盖体33不仅会导致副盖体33与主盖体31之间的吸附作用减弱、还会导致美甲过程变得极为复杂。因此将副盖体33由透明材料制成，在美甲过程中，可以直观地观察到喷绘的具体过程，无需再将副盖体33取下。

作为一种实施例，副盖体33由不透明的材料制成。基于以上结构，当副盖体33透明时，许多人在美甲过程中观察到喷涂机20对指甲进行喷绘可能会产生心理阴影，为消除人们在美甲过程中的担忧，将副盖体33设置有不透明的结构，人们无法观察到美甲的具体过程，从而可以消除心理阴影。

作为一种实施例，副盖体33包括：设置在主盖体31上的内盖，内盖由透明材料制成，通孔b开设在内盖上。以及，设置在内盖上且远离喷涂机20一侧的外盖，外盖由不透明的材料制成。基于以上结构，为使美甲装置同时具备消除人们心理阴影和便于观察的特点，将副盖体33设置为由内盖和外盖组成的结构，再美甲过程中，由于设置有外盖，因此人们无法观察到喷绘过程，从而不会产生心理阴影；当需要对喷绘过程进行观察时，可以打开外盖(其中外壳可以铰接在内盖上)以通过透明的内盖观察喷绘过程。

为便于安装磁铁32，主盖体31上相对于磁铁32开设有容置孔c，磁铁32设置在容置孔c内。基于以上结构，磁铁32可以通过嵌装等多种方式安装到主盖体31上，但将磁铁32通过嵌装等安装到主盖体31上，无疑增大了磁铁32的安装难度。而在主盖体31上开设容置孔c，将磁铁32设置在容置孔c内，利用容置孔c的内部与磁铁32的侧壁相抵接的特点对磁铁32进行限位，从而可以保证磁铁32的稳定性。

为保证磁铁32安装的稳定性，主盖体31包括：设置在主盖体31上且远离磁片34一侧的抵接块311，抵接块311位于容置孔c的轮廓范围内。基于以上结构，通过将磁铁32由远离主盖体31的一侧安装到容置孔c内，为防止磁铁32插入过深，导致磁铁32掉落到主盖体31内，通过设置抵接块311，磁铁32插入到一定深度时，抵接块311对磁铁32的插入深度进行限位，从而可以防止磁铁32掉落到主盖体31内。

为进一步地保证磁铁32安装后的稳定性，主盖体31还包括：设置在主盖体31上且靠近磁片34一侧的限位块312，限位块312具备弹性且位于容置孔c的轮廓范围内。基于以上结构，由于设置有限位块312，因此磁铁32不能轻易地安装到容置孔c内，而将限位块312具备弹性，因此可以使用工具或手指拨动限位块312以暂时将限位块312推移到容置孔c的轮廓外侧，从而可以将磁铁32插入到容置孔c内。待磁铁32插入到容置孔c内后，再松开对于限位块312的作用力，使限位块312重新落入到容置孔c的轮廓范围内。综上，利用限位块312、抵接块311以及容置孔c的内壁构成一容置空间，而将磁铁32置于该容置空间内，可以保证磁铁32不轻易发生晃动，从而保证了磁铁32的稳定性以及其对副盖体33的吸附作用，进而保证了副盖体33的稳定性。

为保证磁片34的稳定性，作为一种优选方案，本实施例的副盖体33还包括：设置在副盖体33上且靠近磁片34一侧卡接件331，磁片34设置在卡接件331内。

为进一步地保证磁片34的稳定性，本实施例的副盖体33上且靠近卡接件331设置有楔形块332，卡接件331上且靠近楔形块332的侧壁上开设有容置槽d，楔形块332上远离容置槽d的一端到靠近容置槽d的一端宽度逐渐减小。基于以上结构，在安装磁片34的过程中，通过将磁片34架设到楔形块332上且远离容置槽d的一端，并将磁片34随楔形块332的表面逐渐滑动到容置槽d内，由此将磁片34设置到容置槽d内。由于楔形块332上远离容置槽d的一端到靠近容置槽d的一端宽度逐渐减小，即表示远离容置槽d的一侧楔形块宽度较大，从而可以利用楔形块332对磁片34进行限位，防止其从容置槽d内脱离。

为使副盖体33能对位安装在主盖体31上，本实施例的副盖体33上在远离磁片34的一端且靠近主盖体31的一侧设置有插接件333，主盖体31上靠近副盖体33的一侧且相对于插接件333对位开设有限位孔e，插接件333用于插接在限位孔e内。基于以上结构，在安装副盖体33的过程中，利用插接件333与限位孔e的对位连接关系，可以保证副盖体33的一端与主盖体31对位连接；而副盖体33的另一端则表示利用磁片34和磁铁32的相互作用对位吸附在主盖体31上。综上，由于副盖体33的两端都对位连接在主盖体31上，从而可以保证副盖体33可以对位安装在主盖体31上。

以上，仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案所做的其它修改或者等同替换，只要不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。