一种气密性好的口红管的制作方法

文档序号:24196396发布日期:2021-03-09 18:12阅读:346来源:国知局
一种气密性好的口红管的制作方法

1.本实用新型涉及化妆品包装技术领域,尤其是涉及一种气密性好的口红管。


背景技术:

2.为了适应市场发张的需求,口红膏体的水分含量越来越多,以达到口红滋润女性消费者嘴唇的效果,这就使得口红管必须要有良好的气密性,才能防止口红膏体里的水分挥发。因此需要一种气密性结构良好的口红管,以保证口红管具有良好的气密性。但是目前市场上部分的口红管包材具有气密性的结构很少,有气密性结构的口红会有很大的盖底分离力,导致消费者很难拔出来,而拉力小的口红气密性又不是很好。


技术实现要素:

3.本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种气密性好的口红管。
4.为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
5.一种气密性好的口红管,包括相互套接的外盖和外底,其特征在于:所述外盖所用材料为pp材料,所述外盖的内壁上设有凸起的气密环和凹陷的凹槽环,所述气密环与外底的口部过盈配合,所述外底上设有与凹槽环过盈配合的凸环,所述凸环与凹槽环配合的过盈量为0.005mm。
6.所述外底的内部通过第一强扣结构连接有螺旋柱,所述螺旋柱的下部与外底通过蕾丝结构相对固定,所述螺旋柱的上部通过第二强扣结构转动连接有中束,所述中束与外底间隙配合,所述螺旋柱内螺接有用于放置膏体的珠子,所述珠子的上部位于中束内。
7.所述第一强扣结构包括设于外底内壁上的第一凸起以及设于螺旋柱上第一凹槽,所述第一凸起卡入第一凹槽内固定。
8.所述第二强扣结构包括设于螺旋柱上的第二凸起以及设于中束内壁的第二凹槽,所述第二凸起卡入第二凹槽内转动连接。
9.所述蕾丝结构为位于螺旋柱和外底上周向间隔设置的凸棱,当螺旋柱卡入外底时,位于螺旋柱上的凸棱卡入两个外底凸棱所形成的空隙内。
10.本实用新型的有益效果是:外壳材料选用具有良好的力学性能和柔韧性能的pp材料,当外盖包覆在外底时,气密环与外底过盈配合使其达到气密性的要求,通过调整外盖内部的整圈凹槽与外底口部的整圈凸环的过盈量,从而保证盖底分离力的要求,使得口红管的气密性好的同时拉力不至于过大。
附图说明
11.图1为本实用新型的结构示意图;
12.图2为图1中a处放大图;
13.图3为图1中b处的第二强扣结构的放大图;
14.图4为图1中c处的第一强扣结构的放大图;
15.图5为图1中d处的蕾丝结构的放大图;
16.图中:外盖1、气密环11、凹槽环12、中束2、第二凹槽21、珠子3、螺旋柱4、第二凸起41、第一凹槽42、限位环43、外底5、凸环51、第一凸起52、蕾丝结构6。
具体实施方式
17.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步描述:
18.如图1~5所示一种气密性好的口红管,包括相互套接的外盖1和外底5,所述外盖1所用材料为具有良好的力学性能和柔韧性能的pp材料,所述外盖1的内壁上设有凸起的气密环11和凹陷的凹槽环12,所述气密环11与外底5的口部过盈配合,所述气密环11的加工公差为
±
0.02mm,所述外底5上设有与凹槽环12过盈配合的凸环51,所述凸环51与凹槽环12配合的过盈量为0.005mm,使整支口红管在保证气密性的条件下,盖底分离力也满足225~2500gf的使用要求,从而使口红管拉拔具有良好的手感,不至于消费者在使用时因拉力太大而很难拔开。
19.所述外底5的内部通过第一强扣结构连接有螺旋柱4,所述螺旋柱4的下部与外底5通过蕾丝结构6相对固定,所述蕾丝结构6为位于螺旋柱4和外底5 上周向间隔设置的凸棱,当螺旋柱4卡入外底5时,位于螺旋柱4上的凸棱卡入两个外底5凸棱所形成的空隙内,使得外底5在旋转时带动螺旋柱4一起旋转,当外底5进行旋转时能够带动螺旋柱4一起转动,所述螺旋柱4的上部通过第二强扣结构转动连接有中束2,所述螺旋柱4的外周设有限位环43,中束2 位于限位环43的上方,所述中束2与外底5间隙配合,所述螺旋柱4内螺接有用于放置膏体的珠子3,所述珠子3包括位于中束2内的底托以及螺接于螺旋柱 4内的螺杆,在使用口红管时,旋转外底5,使得螺旋柱4同时旋转,将珠子3 的下部从螺旋柱4内旋出,使得膏体从中束2内露出口进行使用,结构可靠,使用方便。
20.所述第一强扣结构包括设于外底5内壁上的第一凸起52以及设于螺旋柱4 上第一凹槽42,所述第一凸起52卡入第一凹槽42内固定,使得螺旋柱4压入外底5后不易从外底脱离。
21.所述第二强扣结构包括设于螺旋柱4上的第二凸起41以及设于中束2内壁的第二凹槽21,所述第二凸起41卡入第二凹槽21内转动连接,使得中束2压入螺旋柱4后不易与螺旋柱4脱离,并且用手按住中束2后螺旋柱4可以在中束2内转动。
22.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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