专利名称：一种义齿基托式布源器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种布源器，尤其涉及一种义齿基托式布源器。
背景技术：
上颂恶性肿瘤约占口腔颂面部恶性肿瘤的10%左右，手术常作为此类患者的首选 治疗方法。按照恶性肿瘤切除的手术原则，上颂恶性肿瘤的手术治疗需切除部分乃至全部 上颂骨，从而造成组织缺损和口鼻腔瘘，对患者的容貌、进食及语言等功能造成影响。而且， 上颂骨周围涉及许多重要组织，恶性肿瘤的进一步扩大切除常受到许多限制，造成肿瘤残 留或切缘阳性，术后需要追加放射治疗。但常规外放射治疗易引起皮肤坏死，伤口不愈合、 口干、放射性龋齿、张口受限及放射性骨坏死等并发症，严重影响患者的生活质量。因此，需 要探讨一种既能保证疗效，又能尽量保存患者器官功能的方法。放射性粒子组织间近距离治疗恶性肿瘤有高度的“适形”性，局部控制率高，且创 伤和副反应小，是一种较理想的放射治疗方式。放射性粒子近距离治疗指应用放射性同位 素技术在距肿瘤5cm的范围甚至在肿瘤组织内进行治疗，使肿瘤组织获得治疗所需的放射 剂量。放射性粒子近距离放疗采用低能量放射源，放射线在组织中迅速衰减，对周围正常组 织的照射剂量远低于肿瘤组织。与传统的体外照射相比，近距离放疗具有以下优点近距离放疗采用近距离 (0. 5 5cm)照射，因此放射源的放射性活度小；近距离放疗射线能量大部分被组织吸收， 而体外放疗大部分能量被准直器、限束器等屏蔽；近距离放疗过程中，离放射源近的组织剂 量高，离放射源远的组织剂量较低，而对于体外照射，射线必须经过皮肤和正常组织才能达 到肿瘤，为了得到高而均勻的肿瘤剂量，通常需要选择各种不同能量的射线和多野照射等 较为繁杂的技术。近距离放疗中，因肿瘤靶区邻近放射源，射线的能量大部分被肿瘤组织吸 收，从而可以大大提高对肿瘤的照射剂量；另一方面，肿瘤靶区外的剂量下降很快，周边正 常组织受照射量较小，从而显著降低了正常组织的放射性损伤。图1为目前国内常用的永久性植入放射性粒子源的结构示意图。该放射性粒子 源100包括外壳101、放射性粒子层102、内芯103。外壳101呈圆柱体，长度4. 5mm，横截面 直径0.8mm，主要材料为镍钛合金。放射性粒子层102由起治疗作用的放射性粒子源形成。 内芯103的主要材料为银，植入到人体后作为标识体，在χ射线照射下可显示放射性粒子源 100在人体内的位置。端头104为将带有放射性粒子层102的内芯103放入外壳101后通 过激光焊接形成的圆形端头。尽管粒子体积很小，但是上颂腭部表面粘膜非常薄，无法承载粒子。在进行上颂骨 恶性肿瘤的放射性粒子治疗中，很难或者无法按照治疗计划要求植入放射性粒子源。这就 产生了放射治疗中的放疗“冷区”，影响了肿瘤的局部控制率。例如，根据国际 !分期法， 处于T1-T2期的上颂腭部腺源性恶性肿瘤。在国际TNM分期法中根据肿瘤(Tumor)的大小，将肿瘤分为4个阶段，分别用Tl、 T2、T3和T4来表示，以说明癌细胞在每个方面侵犯的严重程度和范围。处于Tl期的肿瘤最大直径小于2cm ；处于T2期的肿瘤最大直径为2 4cm ；处于T3期的肿瘤最大直径超过 4cm ；T4期为肿瘤穿透包膜，并直接侵犯相邻结构的情况。因此，目前需要一种布源器，易于固定在表面粘膜较薄而无法承载粒子的组织器 官周围。用于治疗该组织器官周围的肿瘤，例如，上颂腭部腺源性恶性肿瘤。
实用新型内容在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式
部分 中进一步详细说明。本实用新型的实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护 的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保 护范围。为了解决上述技术问题，本实用新型公开了一种义齿基托式布源器，包括基托主 体，呈适应口腔上腭形状的弯曲舌形，在所述基托主体的上表面具有凹槽；放射性粒子源， 放置在所述凹槽内；以及至少两个固定件，设置在所述基托主体的四周，用于在口腔中固定 所述义齿基托式布源器。根据本实用新型的一个方面，所述凹槽单层多行平行排列，且相邻凹槽的中心之 间的间距为8mm 10mm。根据本实用新型的一个方面，所述固定件的一端连接所述基托主体，另一端为卡 环结构。根据本实用新型的一个方面，所述固定件为四个，分别位于所述基托主体的前部 和后部的左右两侧。根据本实用新型的一个方面，所述基托主体包括布源层和金属层，其中所述布源 层固定在所述金属层上表面。根据本实用新型的一个方面，所述布源层的厚度大于等于所述放射性粒子源的横 截面直径。根据本实用新型的一个方面，所述金属层的厚度大于等于1. 0mm。根据本实用新型的一个方面，所述固定件一体连接在所述金属层的四周。根据本实用新型的一个方面，所述布源层卡接在所述金属层的上表面。根据本实用新型的一个方面，所述布源层粘附在所述金属层的上表面。本实用新型的义齿基托式布源器，易于固定在表面粘膜较薄而无法承载粒子的组 织器官周围。可以用于治疗表面粘膜较薄，无法承载放射性粒子源的组织器官的恶性肿瘤。
本实用新型的下列附图在此作为本实用新型的一部分用于理解本实用新型。附图 中示出了本实用新型的实施例及其描述，用来解释本实用新型的原理。在附图中，图1为目前国内常用的永久性植入放射性粒子源的结构示意图；图2为根据本实用新型一个实施方式的义齿基托式布源器的示意图；图3为沿图2所示的线1-1’剖开得到的义齿基托式布源器的剖视图；图4为根据本实用新型一个实施方式的金属层的剖视图；图5为根据本实用新型另一个实施方式的基托主体的顶视图。
具体实施方式
在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本实用新型更为彻底的理 解。然而，对于本领域技术人员来说显而易见的是，本实用新型可以无需一个或多个这些细 节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本实用新型发生混淆，对于本领域公知的一些 技术特征未进行描述。根据本实用新型的义齿基托式布源器，可以用于治疗根据国际 M分期法，处于 T1-T2期的上颂腭部腺源性恶性肿瘤。局部手术切除(保留上颂骨及腭板)后，病理切片发 现切缘存在肿瘤细胞或者肿瘤细胞距切缘小于5mm时，可以选择本义齿基托式布源器进行 碘-125放射性粒子近距离治疗。图2为根据本实用新型一个实施方式的义齿基托式布源器的示意图。如图2所示， 义齿基托式布源器200包括基托主体201、放射性粒子源202以及固定件203。基托主体201具有适应口腔上腭形状的弯曲舌形结构。沿图2所示的线1-1’剖 开，基托主体201呈现向基托主体201的上表面弯曲的轮廓，以适应口腔内部上颂的形状。 基托主体201的具体尺寸可以依据患者的口腔上腭形状进行适当调整，例如，儿童和成年 人的上颂尺寸具有大小的差异。基托主体201作为放射性粒子源202的载体，其上表面具 有放置放射性粒子源202的凹槽。所述凹槽的尺寸与放射性粒子源202的尺寸相同，并且 凹槽的排列方式是依据巴黎系统原则制定的，即在靶区内进行放射性粒子的布源，凹槽在 基托主体201的上表面单层多行平行排列，且相邻凹槽的中心之间的间距为8mm 10mm。放射性粒子源202中密封用于治疗肿瘤的放射性粒子，放射性粒子源202的结构 和外形可以实施为与图1所示的放射性粒子源相同。在基托主体201四周设有至少两个固定件203，固定件203用于将义齿基托式布源 器200固定在患者的口腔内，例如固定在牙齿上。优选地，固定件203的一端连接基托主体 201，另一端为卡环结构。根据本实用新型的一个实施方式，基托主体201上设有四个固定 件203，分别位于基托主体201的前部和后部的左右两侧，以将义齿基托式布源器200稳定 地固定在牙齿上。其中，前部和后部为患者佩戴义齿基托式布源器200后相对于观察者的 位置，即佩戴后距离嘴唇较近的为前部，较远的为后部。图3为沿图2所示的线1-1’剖开得到的义齿基托式布源器的剖视图。义齿基托式 布源器设计为双层结构，即基托主体301包括布源层301a和金属层301b，其中布源层301a 固定在金属层301b的上表面。布源层301a主要采用聚合物材料制成，例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。为了容 纳放射性粒子源302，布源层301a的厚度大于等于放射性粒子源302的横截面直径。例如， 目前国内的放射性粒子源302的横截面直径为0. 8mm,因此布源层301a的厚度大于等于 0. 8_，优选地为 0. 8-1. 2_。金属层301b除了用作布源层301a的支撑体外，还连接有图2所示的固定件203。 金属层301b和图2所示的固定件203可以采用无辐射的、与人体组织相容性较好的金属材 料制成，例如，钴、铬、钛中的一种或多种。金属层301b有利于保护舌体等正常组织免受放 射性粒子源的辐射，实验证明利用1.0mm厚的钴铬合金层可以屏蔽约98%的射线。根据本 实用新型一个实施方式，金属层301b与图2所示的固定件203采用相同的材料制成，固定 件203 —体连接在金属层301b的四周。优选地，金属层301b的厚度大于等于1.0mm。更优选地，金属层301b的厚度约等于1. 0mm。布源层和金属层之间可以通过卡接的方式固定在一起，布源层卡接在金属层的上 表面。图4为根据本实用新型一个实施方式的金属层的剖视图。如图4所示，在金属层401b 上表面的边缘处形成有开口向内的凹口 404，凹口 404用于固定布源层，即将布源层嵌入金 属层401b内部。图5为根据本实用新型另一个实施方式的基托主体的顶视图。如图5所示，在金 属层501b上表面的边缘处形成有若干个固定爪505，固定爪505用于固定布源层501a，即 将布源层501a固定在金属层501b的上表面。根据本实用新型再一个实施方式，金属层与布源层还可以采用粘附方式连接在一 起，布源层粘附在金属层的上表面。具体地说，将熔化的布源层材料浇注在上表面较粗糙的 金属层上，冷却后布源层会粘附在金属层的上表面。本实用新型的义齿基托式布源器，易于固定在表面粘膜较薄而无法承载粒子的组 织器官周围。可以用于治疗表面粘膜较薄，无法承载放射性粒子源的组织器官周围的肿瘤。此外，义齿基托式布源器制作完成后，患者试戴数日，必要时进行调改，以免创伤、 咬合等因素干扰治疗。因此，本实用新型的义齿基托式布源器相比于常规组织间放射性粒 子植入，还具有布源准确、稳定，微创，便于调整粒子的位置、活度，便于调整放射治疗剂量 等优点。另外，佩戴布源器后可以提高患者的生活质量。本实用新型已经通过上述实施例进行了说明，但应当理解的是，上述实施例只是 用于举例和说明的目的，而非意在将本实用新型限制于所描述的实施例范围内。此外本领 域技术人员可以理解的是，本实用新型并不局限于上述实施例，根据本实用新型的教导还 可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本实用新型所要求保护的范围以 内。本实用新型的保护范围由附属的权利要求书及其等效范围所界定。
权利要求一种义齿基托式布源器，其特征在于，包括基托主体，呈适应口腔上腭形状的弯曲舌形，在所述基托主体的上表面具有凹槽；放射性粒子源，放置在所述凹槽内；以及至少两个固定件，设置在所述基托主体的四周，用于在口腔中固定所述义齿基托式布源器。
2.如权利要求1所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述凹槽单层多行平行排列， 且相邻凹槽的中心之间的间距为8mm 10mm。
3.如权利要求1所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述固定件的一端连接所述 基托主体，另一端为卡环结构。
4.如权利要求1所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述固定件为四个，分别位于 所述基托主体的前部和后部的左右两侧。
5.如权利要求1所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述基托主体包括布源层和 金属层，其中所述布源层固定在所述金属层上表面。
6.如权利要求5所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述布源层的厚度大于等于 所述放射性粒子源的横截面直径。
7.如权利要求5所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述金属层的厚度大于等于 1. Omm0
8.如权利要求5所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述固定件一体连接在所述 金属层的四周。
9.如权利要求5所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述布源层卡接在所述金属 层的上表面。
10.如权利要求5所述的义齿基托式布源器，其特征在于，所述布源层粘附在所述金属 层的上表面。
专利摘要本实用新型公开了一种义齿基托式布源器，包括基托主体，呈适应口腔上腭形状的弯曲舌形，在所述基托主体的上表面具有凹槽；放射性粒子源，放置在所述凹槽内；以及至少两个固定件，设置在所述基托主体的四周，用于在口腔中固定所述义齿基托式布源器。本实用新型的义齿基托式布源器，易于固定在表面粘膜较薄而无法承载粒子的组织器官周围。
文档编号A61N5/10GK201701652SQ20102023609
公开日2011年1月12日 申请日期2010年6月24日 优先权日2010年6月24日
发明者俞光岩, 刘树铭, 宋铁砾, 张建国, 张 杰, 王兵, 石妍, 谭京, 郑磊, 黄明伟 申请人:张建国