种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开一种种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构，所述种植牙系统的基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的圆弧凹槽，所述圆弧凹槽的两侧与所述配合部的外壁之间通过所述圆弧凹槽的弧面平滑连接，而使得所述圆弧凹槽的两侧与所述配合部的外侧壁的交接处，不会因为突然下凹而在此处突然改变形状而产生应力集中。
【专利说明】种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及种植牙【技术领域】，具体涉及一种种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构。
【背景技术】
[0002]目前，市场上流行的牙种植体系统中，种植体与基台间的连接方式越来越多地采用圆锥面配合加抗旋转结构。而抗旋结构都是“有根”类型，所谓“有根”是指设于基台的外侧面的圆弧凹槽与基台的外侧面之间的连接处或多边形棱柱在与圆锥体的连接处“嘎然而止”，也即没有任何过渡而造成应力集中，而应力集中会大大减弱基台的强度，进而影响基台的使用寿命。
[0003]如申请号为CN20102023813.8的实用新型专利公开一种口腔种植体装置，该口腔种植体装置的基台采用了“有根”的六棱柱抗旋结构(即图6所示的方榫211)，在基台的六棱柱的根部即基台的方榫211与圆锥体(具体为图6的圆锥面212)连接处，存在一定程度的应力集中。
实用新型内容
[0004]本实用新型的主要目的在于解决当前的基台的抗旋转结构的应力集中比较严重的问题。
[0005]为到达上述之技术目的，本实用新型提供一种种植牙系统的基台，通过螺栓与种植体连接，所述种植体具有安装端面以及自所述安装端面开设的圆柱孔，所述圆柱孔的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔的延伸方向延伸的圆弧键:
[0006]所述种植牙系统的基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的圆弧凹槽，多个所述圆弧凹槽用以对应与多个所述圆弧键配合，以限制所述种植牙系统的基台与所述种植体相对转动。
[0007]优选地，所述圆弧凹槽的圆弧半径与其对应的圆弧键的圆弧半径相等且为0.3?1.0mm,所述圆弧凹槽的最大深度与其对应的圆弧键的最大高度相等且为0.12?0.2mm。
[0008]优选地，所述圆弧凹槽的靠近所述基台主体的一端呈圆弧倒角设置，以使所述圆弧凹槽的底面与所述配合部的外侧壁平滑连接。
[0009]优选地，所述圆弧凹槽的贯穿所述配合部的端面的端口，由所述圆弧凹槽的内部向外呈渐宽设置，以导引所述圆弧凹槽与所述圆弧键配合。
[0010]为到达上述之技术目的，本实用新型还提供一种种植牙系统的种植体与基台的组合结构，包括种植体、基台和连接所述种植体和所述基台的螺栓:
[0011]所述种植体具有安装端面以及自所述安装端面开设的圆柱孔，所述圆柱孔的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔的延伸方向设置的圆弧键；
[0012]所述基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的圆弧凹槽，多个所述圆弧凹槽对应与多个所述圆弧键配合，以限制所述基台与所述种植体相对转动。
[0013]优选地，所述圆弧凹槽的圆弧半径与其对应的圆弧键的圆弧半径相等且为0.3?1.0mm,所述圆弧凹槽的最大深度与其对应的圆弧键的最大高度相等且为0.12?0.2mm。
[0014]优选地，所述圆弧凹槽的靠近所述基台主体的一端呈圆弧倒角设置，以使所述圆弧凹槽的底面与所述配合部的外侧壁平滑连接。
[0015]优选地，所述圆弧凹槽的贯穿所述配合部的端面的端口，由所述圆弧凹槽的内部向外呈渐宽设置，以导引所述圆弧凹槽与所述圆弧键配合。
[0016]优选地，所述圆弧键的靠近所述安装端面的一端呈倒角设置，以使所述圆弧键具有朝向所述圆柱孔的中心的导引面。
[0017]优选地，所述种植体还具有连接所述安装端面和所述圆柱孔设置的圆锥孔，所述导引面呈圆锥面设置，且所述导引面与所述圆锥孔的内表面位于同一内圆锥面上，所述配合部包括插置于所述圆柱孔中的插置端、以及连接所述基台主体和所述插置端且与所述圆锥孔配合的圆锥段。
[0018]本实用新型提供的种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构，所述种植牙系统的基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的圆弧凹槽，所述圆弧凹槽的两侧与所述配合部的外壁之间通过所述圆弧凹槽的弧面平滑连接，而使得所述圆弧凹槽的两侧与所述配合部的外侧壁的交接处，不会因为突然下凹而在此处突然改变形状而产生应力集中。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]图1为本实用新型提供的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的一实施例中的剖视结构示意图；
[0020]图2为图1所示的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的种植体的剖视结构示意图；
[0021]图3为图1所示的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的种植体的剖切后的立体结构示意图；
[0022]图4为图1所示的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的种植体的横截面的结构示意图；
[0023]图5为图1所示的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的基台的立体结构示意图；
[0024]图6为图5所示的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的基台的横截面的结构示意图。
[0025]本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
【具体实施方式】
[0026]以下结合说明书附图及具体实施例进一步说明本实用新型的技术方案。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0027]本实用新型提供一种种植牙系统的种植体与基台的组合结构，图1至图6为本实用新型提供的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的一实施例。请参阅图1，所述种植牙系统的种植体与基台的组合结构100包括种植体1、基台2和螺栓3。
[0028]请参阅图1至图3，所述种植体I包括安装端面10以及自所述安装端面10向下凹设的多级孔腔(未标号)，所述多级空腔包括依次连接的位于上段的圆锥孔11、位于中间段的圆柱孔12、位于下段的螺纹孔13，其中，所述圆柱孔12的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔12的延伸方向设置的圆弧键121。
[0029]请参阅图1及图5至图6，所述基台2包括基台主体20、自所述基台主体20的一端延伸而与所述圆柱孔12配合的配合部21、以及贯穿所述基台主体20和所述配合部21设置的阶梯孔22。所述配合部21的外侧壁设有多个沿着所述配合部21的延伸方向延伸且贯穿所述配合部21的端面设置的圆弧凹槽211，多个所述圆弧凹槽211对应与多个所述圆弧键121配合，以限制所述基台2与所述种植体I相对转动。所述圆弧凹槽211的两侧与所述配合部21的外壁之间通过所述圆弧凹槽211的弧面平滑连接，而使得所述圆弧凹槽211的两侧与所述配合部21的外侧壁的交接处，不会因为突然下凹而在此处突然改变形状而产生应力集中。
[0030]所述螺栓3容置于所述阶梯孔22中，且穿过所述阶梯孔22而与所述种植体I的螺纹孔13连接，以将所述基台2与所述种植体I连接。
[0031]请参阅图3至图6，所述圆弧凹槽211的两侧与所述配合部21的侧壁的交界处越平滑，该交界越不容易出现应力集中，然而，当所述圆弧凹槽211的两侧与所述配合部21的侧壁的交界处过于平滑时，所述圆弧凹槽211的两侧对与其对应的圆弧键121起不到阻挡作用，也即所述基台2和所述种植体I之间就有可能发生转动，为此，于本实施例中，所述圆弧凹槽211的圆弧半径R与其对应的圆弧键121的圆弧半径R相等且为0.3?1.0mm，所述圆弧凹槽211的最大深度与其对应的圆弧键121的最大高度相等且为0.12?0.2mm。
[0032]请参阅图2至图4，于本实施例中，所述多个圆弧键121呈等间距分布(图示中所述圆弧键121的数量为6个)。所述圆弧键121的靠近所述安装端面10的一端呈倒角设置，以使所述圆弧键121具有朝向所述圆柱孔12的中心的导引面1211，以导引所述圆弧凹槽211与圆弧键121配合。进一步地，于本实施例中，所述导引面1211呈圆锥面设置，且所述导引面1211与所述圆锥孔11孔的内表面位于同一内圆锥面上，因而，在加工所述圆锥孔11孔时，可以一并将所述圆弧键121的导引面1211进行加工，进而可以简化加工工艺。
[0033]请参阅图1及图5至图6,于本实施例中，所述配合部21包括插置于所述圆柱孔12中的插置端21a、以及连接所述基台主体20和所述插置端21a且与所述圆锥孔11配合的圆锥段21b，所述圆弧凹槽211的靠近所述基台主体20的一端呈圆弧倒角设置，以使所述圆弧凹槽211的底面与所述配合部21的外侧壁平滑连接，以使得所述圆弧凹槽211的靠近所述基台主体20的一端与所述配合的外侧壁之间不会因形状突然变化而产生应力集中。
[0034]此外，于本实施例中，具体请参阅图5，所述圆弧凹槽211的贯穿所述配合部21的端面的端口 211a由所述圆弧凹槽211的内部向外呈渐宽设置，也即所述圆弧凹槽211的贯穿所述配合部21的端面的端口 21 Ia为喇叭口，而导引所述圆弧凹槽211与所述圆弧键121进行配合。
[0035]以上仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制其专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接运用在其他相关的【技术领域】，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种种植牙系统的基台，通过螺栓与种植体连接，所述种植体具有安装端面以及自所述安装端面开设的圆柱孔，所述圆柱孔的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔的延伸方向延伸的圆弧键，其特征在于: 所述种植牙系统的基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的圆弧凹槽，多个所述圆弧凹槽用以对应与多个所述圆弧键配合，以限制所述种植牙系统的基台与所述种植体相对转动。
2.如权利要求1所述的种植牙系统的基台，其特征在于，所述圆弧凹槽的圆弧半径与其对应的圆弧键的圆弧半径相等且为0.3?1.0mm,所述圆弧凹槽的最大深度与其对应的圆弧键的最大高度相等且为0.12?0.2mm。
3.如权利要求1所述的种植牙系统的基台，其特征在于，所述圆弧凹槽的靠近所述基台主体的一端呈圆弧倒角设置，以使所述圆弧凹槽的底面与所述配合部的外侧壁平滑连接。
4.如权利要求1所述的种植牙系统的基台，其特征在于，所述圆弧凹槽的贯穿所述配合部的端面的端口，由所述圆弧凹槽的内部向外呈渐宽设置，以导引所述圆弧凹槽与所述圆弧键配合。
5.一种种植牙系统的种植体与基台的组合结构，包括种植体、基台和连接所述种植体和所述基台的螺栓，其特征在于: 所述种植体具有安装端面以及自所述安装端面开设的圆柱孔，所述圆柱孔的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔的延伸方向设置的圆弧键； 所述基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的圆弧凹槽，多个所述圆弧凹槽对应与多个所述圆弧键配合，以限制所述基台与所述种植体相对转动。
6.如权利要求5所述的种植牙系统的种植体与基台的组合结构，其特征在于，所述圆弧凹槽的圆弧半径与其对应的圆弧键的圆弧半径相等且为0.3?1.0mm,所述圆弧凹槽的最大深度与其对应的圆弧键的最大高度相等且为0.12?0.2mm。
7.如权利要求5所述的种植牙系统的种植体与基台的组合结构，其特征在于，所述圆弧凹槽的靠近所述基台主体的一端呈圆弧倒角设置，以使所述圆弧凹槽的底面与所述配合部的外侧壁平滑连接。
8.如权利要求5所述的种植牙系统的种植体与基台的组合结构，其特征在于，所述圆弧凹槽的贯穿所述配合部的端面的端口，由所述圆弧凹槽的内部向外呈渐宽设置，以导引所述圆弧凹槽与所述圆弧键配合。
9.如权利要求5所述的种植牙系统的种植体与基台的组合结构，其特征在于，所述圆弧键的靠近所述安装端面的一端呈倒角设置，以使所述圆弧键具有朝向所述圆柱孔的中心的导引面。
10.如权利要求9所述的种植牙系统的种植体与基台的组合结构，其特征在于，所述种植体还具有连接所述安装端面和所述圆柱孔设置的圆锥孔，所述导引面呈圆锥面设置，且所述导引面与所述圆锥孔的内表面位于同一内圆锥面上，所述配合部包括插置于所述圆柱 孔中的插置端、以及连接所述基台主体和所述插置端且与所述圆锥孔配合的圆锥段。
【文档编号】A61C8/00GK204106230SQ201420568439
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年9月29日 优先权日:2014年9月29日
【发明者】王五星 申请人:深圳市安特高科实业有限公司