1.一种用于行电刺激针灸技术的针身绝缘钢针，包括钢针本体，其特征在于：还包括CuO材料层和SiO2材料层，CuO材料层和SiO2材料层顺序覆盖在钢针本体除两端之外的针身上。
2.如权利要求1所述的用于行电刺激针灸技术的针身绝缘钢针，其特征在于：所述材料层为纳米膜。
3.如权利要求2所述的用于行电刺激针灸技术的针身绝缘钢针，其特征在于：所述的CuO纳米膜的厚度为10～30nm，优选为15-25nm。
4.如权利要求2或3所述的用于行电刺激针灸技术的针身绝缘钢针，其特征在于：所述的SiO2纳米膜的厚度为20～150nm，优选为30-100nm，还优选为50-90nm。
5.一种如权利要求1～4任一项所述的针身绝缘钢针的制备方法，其特征在于：采用溅射法在所述钢针本体的针身上形成CuO纳米膜和SiO2纳米膜，
将钢针本体固定于磁控溅射仪中的样品板上，遮蔽钢针本体的两端，将CuO和SiO2靶材分别置于两个靶腔中；
在针身上溅射得到CuO纳米膜，磁控溅射仪的工作条件为：在惰性气体保护下，工作压力为0.2～1.1Pa(例如0.5Pa)，直流电功率为55～120W(优选100-120W)；
然后，在表面修饰有CuO纳米膜的钢针上溅射制备得到SiO2纳米膜，磁控溅射仪的工作条件为：在惰性气体保护下，工作压力为0.03～1.0Pa，直流电功率为55～120W(优选80-95W)。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述的钢针本体与CuO和SiO2靶材之间的距离为80～550mm，优选100-400nm，例如300nm。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于：所述的磁控溅射仪中的主控室的压力为2×10-7～3×10-3Pa，优选为1×10-6～1×10-5Pa。
8.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于：所述的磁控溅射仪在制备CuO纳米膜及制备SiO2纳米膜时的溅射温度为20～350℃，例如40-100℃。
9.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于：所述的磁控溅射仪在制备CuO纳米膜时的溅射时间为20～200s，优选40-100s，例如50s或82s。
10.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于：所述的磁控溅射仪在制备SiO2纳米膜时的溅射时间为60～600s，优选500-600s，例如550s。