技术特征：
1.一种近红外光响应抗菌涂层，其特征在于：该涂层为pda@msn@feco，包括负载于基底上用于光热响应的多巴胺层、负载于多巴胺层上的介孔二氧化硅以及负载于介孔二氧化硅孔道内的用于释放一氧化碳的羰基铁。2.根据权利要求1所述的近红外光响应抗菌涂层，其特征在于：所述介孔二氧化硅的平均粒径为100~500 nm，内部孔道的孔径范围为2~5 nm；所述羰基铁的负载量为10~20 wt%。3.根据权利要求1所述的近红外光响应抗菌涂层，其特征在于：所述羰基铁为fe(co)5或fe3(co)
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。4.根据权利要求1所述的近红外光响应抗菌涂层，其特征在于：所述基底选自钛合金、镁合金、留置针、留置管、聚氨酯、无纺布和硅片中的任一种。5.权利要求1-4任一项所述的近红外光响应抗菌涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将乙醇和去离子水混合，再加入氨水溶液和烷氧基硅烷进行反应，离心洗涤后再分散至去离子水中得到sio2分散液；将阳离子表面活性剂和醇胺加入到去离子水中，80~100℃的温度下搅拌至溶解，加入上述sio2水溶液搅拌后，再逐滴加入烷氧基硅烷，磁力搅拌，离心洗涤，得白色粉末产物，经过萃取、真空干燥得到msn；（2）将msn分散至有机溶剂，在液氮中冷冻、脱气，再加入羰基铁，在避光、n2保护条件下磁力搅拌，离心、洗涤、干燥后得到msn@feco；（3）将基底材料置于含有多巴胺的tris-hcl缓冲液中，磁力搅拌一段时间，用去离子水清洗，干燥后得到表面沉积聚多巴胺的基底材料；（4）将msn@feco分散至含有多巴胺的tris-hcl缓冲液中，加入表面沉积多巴胺的基底材料，磁力搅拌，用去离子水清洗，干燥处理后得到表面沉积pda@msn@feco的基底材料。6.根据权利要求5所述的近红外光响应抗菌涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，氨水溶液与烷氧基硅烷的体积比为5~7：1~3；其中，烷氧基硅烷为三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷中的一种或两种以上的混合。7.根据权利要求5所述的近红外光响应抗菌涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，阳离子表面活性剂与醇胺的质量比为80~100：1；其中，阳离子表面活性剂为十六烷基三甲基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵或二者的混合；所述的醇胺为二乙醇胺、三乙醇胺或二者的混合。8.根据权利要求5所述的近红外光响应抗菌涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中，msn与羰基铁质量比为2~5：1；有机溶剂为二氯甲烷、三氯甲烷或二者的混合。9.根据权利要求5所述的近红外光响应抗菌涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中，多巴胺的浓度为2~4 mg/ml，磁力搅拌时间为10~24 h，干燥温度为40~60℃，干燥时间为24~48 h。10.根据权利要求5所述的近红外光响应抗菌涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤（4）中，msn@feco的浓度为1~5 mg/ml，磁力搅拌时间为20~30 h，干燥温度为40~60℃，干燥时间为24~48 h。
技术总结
本发明公开了一种近红外光响应抗菌涂层及制备方法，该涂层为PDA@MSN@FeCO，包括负载于基底上用于光热响应的多巴胺层、负载于多巴胺层上的介孔二氧化硅以及负载于介孔二氧化硅孔道内的用于释放一氧化碳的羰基铁。发明以MSN为药物载体，负载热敏性CO供体，得到MSN@FeCO纳米材料，进一步利用PDA涂层的强黏附性，将MSN@FeCO负载至基底层，同时利用PDA的光热响应性能，在近红外光照下触发羰基铁释放CO分子，展现出良好的光热与CO协同抗菌疗效，实现安全可控的抗菌效果，该抗菌涂层的制备方法简单易行且成本较低，适用于生物医疗领域。适用于生物医疗领域。适用于生物医疗领域。
技术研发人员：孙静 孙阿勇 叶玮 吴小泉 刘静静 柳森 张超
受保护的技术使用者：淮阴工学院
技术研发日：2021.11.01
技术公布日：2022/2/8