核磁共振检查幽闭缓释与适应装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种医用检查辅助装置，尤其是一种核磁共振检查中使用的用于消除患者不适感的装置，具体地说是一种核磁共振检查幽闭缓释装置，它通过给患者提供亲人或医护人员图像来降低患者的不适感。
【背景技术】
[0002]目前，核磁共振是一种重要的检查手段，它是利用超导磁场成像技术对患者组织进行断层扫描并获得精确图像的装置，由于核磁共振的磁场十分强大，因此任何金属物质不能进入扫描区域，扫描区域尤如时光隧道，更如火化炉，患者在进行头部扫描时需要一动不动在幽闭的隧道内仰卧至少半小时以上，由于扫描区域中没有任何图像和声音，很多患者会产生严重的幽闭感觉，十分不适，甚至有人做过一次后回忆起检查过程有一种经历死亡的感觉，再也不愿进行第二次核磁共振检查。
[0003]为此，有人提仪，如果在扫描过程中能让患者看到亲人或医护人员的图像，则能从很大程度上缓解幽闭感觉，在深隧的检查区域中看到亲人或医护人员的图像或照片就不会感到孤单，为此人们也根据核磁共振的特点设计了一种反光装置，但这种反光装置通用性差，无法调整，只能适合单机型和单个身体部位固定架使用而难以推广。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的是针对现有的核磁共振检查过程中易造成患者产生幽闭症的问题，设计一种通用性强，使用调整方便的核磁共振检查幽闭缓释装置。
[0005]本实用新型的技术方案是:
[0006]一种核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是它包括与核磁共振检查头架相配的底座I，所述的底座I上设有与所述的头架相连的定位机构2 ;底座I的一边连接有侧板3，侧板3的上部连接有下铰轴4，下铰轴4上安装有下轴壳5，下铰轴4与下轴壳5之间能相对转动并通过螺钉实现周向定位；下轴壳5上连接有能随之转动的、安装有下成像单元6的下成像单元安装板7，下成像单元安装板7的上部插装有调高板8，调高板8通过穿过下成像单元安装板7的锁紧螺钉实现定高；在调高板8的上部连接有上铰轴9，上铰轴9上安装有上轴壳10，上轴壳能作相对于上铰轴9的周向转动和轴向移动并通过锁紧螺钉实现轴向和周向定位，上轴壳10固定连接有上反射镜安装板11，直接供被检查患者观察的反射镜安装在所述的上反射镜安装板11上。
[0007]所述的定位机构2为卡插在头架框条上的弹性卡爪或由U形框架201和定位螺栓202组成，U形框架201插入头架框条中并通过定位螺栓202锁紧定位。
[0008]所述的下铰轴4和下轴壳5之间为紧配合，上铰轴9和上轴壳10之间也为紧配合。
[0009]所述的下成像单元6为插装在下成像单元安装板7上的插槽中的下反射镜或图片，下反射镜能将被检查患者周边环境人员反射到直接供被检查患者观察的反射镜中以使患者睁眼应能看到熟悉的人或物从而消除患者的幽闭不适感。
[0010]所述的底座I由左框和右框组成，左框或右框插装在右框或左框中，并通过锁定螺钉锁紧。
[0011]所述的锁紧单元为穿过下成像单元安装板7的锁紧螺钉。
[0012]所述的锁紧单元为位于成像单元安装板7侧边的单向棘爪，调高板8的两端边设有相应的棘齿，所述的棘爪连接有压紧块，压下压紧块，棘爪与棘齿分离，调高板能在成像单元安装板7的插槽中自由上下移动。
[0013]本实用新型的有益效果:
[0014]本实用新型结构简单，通用性强，能安装在各种身体固定架上，并能根据患者的需要调整反光镜的高度及角度，如果无陪同人员还可通过让患者观察图片(可采用智力图、找差异等分散患者的注意力，将患者的注意力进行转移)来消除幽闭感。
【附图说明】
[0015]图1是与本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。
[0017]如图1所示。
[0018]一种核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，它包括与核磁共振检查头架相配的底座1，所述的底座I可由两种尺寸的管状左框和右框组成，左框或右框插装在右框或左框中，并通过锁定螺钉锁紧。所述的底座I上设有与所述的头架相连的定位机构2，定位机构2可采用卡插在头架框条上的弹性卡爪或由U形框架201和定位螺栓202组成，U形框架201插入头架框条中并通过定位螺栓202锁紧定位，其中以U形框架201和定位螺栓202组成的定位机构的通用性较好，它能适应不同的头架，U形框架201可设计成万向转动结构，定位螺栓202的数量可为一个或一个以上，以适应不同的定位锁紧需要。底座I的一边连接有侧板3，侧板3的上部连接有下铰轴4，下铰轴4上安装有下轴壳5，下铰轴4与下轴壳5之间能相对转动并通过螺钉实现周向定位；下轴壳5上连接有能随之转动的、安装有下成像单元6的下成像单元安装板7，下成像单元安装板7的上部插装有调高板8，调高板8通过锁紧单元实现定高，锁紧单元可为穿过下成像单元安装板7的锁紧螺钉，也可为位于成像单元安装板7侧边的单向棘爪，调高板8的两端边设有相应的棘齿，所述的棘爪连接有压紧块，压下压紧块，棘爪与棘齿分离，调高板能在成像单元安装板7的插槽中自由上下移动。在调高板8的上部连接有上铰轴9，上铰轴9上安装有上轴壳10，上轴壳能作相对于上铰轴9的周向转动和轴向移动并通过锁紧螺钉实现轴向和周向定位，因此，上轴壳10的长度应小于上较轴9的长度。上轴壳10固定连接有上反射镜安装板11，直接供被检查患者观察的反射镜安装在所述的上反射镜安装板11上。具体实施时，所述的下铰轴4和下轴壳5之间最好为紧配合，上铰轴9和上轴壳10之间也为紧配合，使用时只需扳动对应的位置即可达到所需的角度，再通过锁紧螺钉实现定位。下成像单元6为插装在下成像单元安装板7上的插槽中的下反射镜或图片，下反射镜能将被检查患者周边环境人员反射到直接供被检查患者观察的反射镜中以使患者睁眼应能看到熟悉的人或物从而消除患者的幽闭不适感。
[0019]具体实施时，上轴壳10和下轴壳5还可用上轴套和下轴套来代替，而上铰轴9和下铰轴4应的两端应分别与对应的调高板8和侧板3上的轴耳固定相连。
[0020]上轴套与上铰轴之间以及下轴套和下铰轴之间可通过各自两端的棘轮棘爪实现角度调整和自定位，也可通过外加螺钉实现定角，为了实现双向调整，棘爪应配备相应的脱离棘轮的操作机构(如压块、杠杆等)以便两者之间能自由转动。
[0021]本实用新型的各部件全部采用与现有的头架相同的工程塑料制造以防止强磁场的作用。
[0022]本实用新型未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
【主权项】
1.一种核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是它包括与核磁共振检查头架相配的底座(I )，所述的底座(I)上设有与所述的头架相连的定位机构(2);底座(I)的一边连接有侧板(3)，侧板(3)的上部连接有下铰轴(4)，下铰轴(4)上安装有下轴壳(5)，下铰轴(4)与下轴壳(5)之间能相对转动并通过螺钉实现周向定位；下轴壳(5)上连接有能随之转动的、安装有下成像单元(6)的下成像单元安装板(7)，下成像单元安装板(7)的上部插装有调高板(8)，调高板(8)通过锁紧单元实现定高；在调高板(8)的上部连接有上铰轴(9)，上铰轴(9)上安装有上轴壳(10)，上轴壳能作相对于上铰轴(9)的周向转动和轴向移动并通过锁紧螺钉实现轴向和周向定位，上轴壳(10)固定连接有上反射镜安装板(11 )，直接供被检查患者观察的反射镜安装在所述的上反射镜安装板(11)上。2.根据权利要求1所述的核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是所述的定位机构(2 )为卡插在头架框条上的弹性卡爪或由U形框架(201)和定位螺栓(202 )组成，U形框架(201)插入头架框条中并通过定位螺栓(202)锁紧定位。3.根据权利要求1所述的核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是所述的下铰轴(4)和下轴壳(5)之间为紧配合，上铰轴(9)和上轴壳(10)之间也为紧配合。4.根据权利要求1所述的核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是所述的下成像单元(6)为插装在下成像单元安装板(7)上的插槽中的下反射镜或图片，下反射镜能将被检查患者周边环境人员反射到直接供被检查患者观察的反射镜中以使患者睁眼应能看到熟悉的人或物从而消除患者的幽闭不适感。5.根据权利要求1所述的核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是所述的底座Cl)由左框和右框组成，左框或右框插装在右框或左框中，并通过锁定螺钉锁紧。6.根据权利要求1所述的核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是所述的锁紧单元为穿过下成像单元安装板(7)的锁紧螺钉。7.根据权利要求1所述的核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是所述的锁紧单元为位于成像单元安装板(7)侧边的单向棘爪，调高板(8)的两端边设有相应的棘齿，所述的棘爪连接有压紧块，压下压紧块，棘爪与棘齿分离，调高板能在成像单元安装板(7)的插槽中自由上下移动。
【专利摘要】一种核磁共振检查幽闭缓释与适应装置，其特征是它包括与核磁共振检查头架相配的底座（1），所述的底座（1）上设有与所述的头架相连的定位机构（2）；底座（1）的一边连接有侧板（3），侧板（3）的上部连接有下铰轴（4），下铰轴（4）上安装有下轴壳（5），下铰轴（4）与下轴壳（5）之间能相对转动并通过螺钉实现周向定位；下轴壳（5）上连接有下成像单元安装板（7），下成像单元安装板（7）的上部插装有调高板（8）；在调高板（8）的上部连接有上铰轴（9），上铰轴（9）上安装有上轴壳（10），上轴壳能作相对于上铰轴（9）的周向转动和轴向移动并通过锁紧螺钉实现轴向和周向定位，上轴壳（10）固定连接有上反射镜安装板（11）。本实用新型结构简单，通用性强。
【IPC分类】A61M21/00, A61B5/055
【公开号】CN204708853
【申请号】CN201520370595
【发明人】卢光明, 汤黎明, 张志强, 许强, 杨刚
【申请人】中国人民解放军南京军区南京总医院
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年6月2日