专利名称：清洗组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种清洗组合物，更具体地，涉及一种用于诸如液晶显示器，等离子体显示器，柔性显示器和类似显示器的平板显示器(在下文中，称之为“FPDS”)的清洗组合物。
背景技术：
FPDs,其典型实例是液晶显示器(IXDs)，是通过膜形成，曝光，蚀刻以及诸如此类 与半导体装置同样的工艺制造的。但是，在这些工艺中，具有Ium或以下尺寸的各种有机或者无机粒子附着到基板的表面，从而导致基板的污染。当带着附着其上的粒子进行随后的工艺时，在膜上形成针孔或坑，及线路断裂或桥接，从而降低产品良率。因此，为了除去这些粒子，实施清洗工艺，因而开发出各种清洗剂。这些清洗剂的除去有机或无机微粒的能力必须是优异的，且它们必须不腐蚀基板或由铝、铝合金、铜、铜合金或者类似物制成的且形成于基板上的金属线。此外，为了容易地实施随后的工艺，需要这些清洗剂提高清洗后基板的涂布性能。韩国专利登记号10-0305314公开了一种包括不含金属离子的碱性水溶液和具有2至10个羟基(-0H)的多羟基基团的清洗剂。但是，由于这种清洗剂不包含诸如乙二醇醚的有机溶剂，所以存在的问题是其不具有足够的除去诸如油及其类似物的有机污染物的能力，和其不能充分显示出在清洗后赋予基板表面亲水性的效果。此外，韩国专利登记号10-073052公开了一种包括乙二醇醚，水溶性有机溶剂和铵基化合物的清洗剂。然而，这种清洗剂在其能够被有效使用在除去光致抗蚀剂工艺方面是有利的，但在其未赋予基板表面亲水性方面和大量的有机溶剂残留在基板上方面是有问题的，因而增加了基板的表面接触角。此外，韩国专利登记号10-0522845公开了一种清洗剂，包括选自胺类和氟化物的至少一种溶解促进剂；和水溶性高分子化合物如聚乙烯吡咯烷酮。但是这种清洗剂也有问题，硅基玻璃基板或者氮化硅膜被添加的氟化物腐蚀，和金属如铜也被腐蚀。
发明内容
因此，想出了本发明以解决上述问题，本发明的目的是提供一种清洗剂，其具有除去在制造FPD基板工艺过程中污染玻璃基板或者金属膜的有机污染物或者粒子的优异能力，其具有防止由铝、铝合金、铜、铜合金或者类似物制成的金属线被腐蚀的优异能力，和其具有赋予基板表面亲水性以提高清洗后基板的涂层性能的优异能力。为了完成以上目的，本发明的一个方面提供了一种能赋予基板的表面亲水性的清洗组合物，包括基于组合物总量，0. 0001 5wt%的选自由聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、纤维素、聚丙烯酸(PAA)、聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮组成的组中的至少一种水溶性高分子化合物；0. 01 5wt*%的多元醇化合物；0. 05 IOwt %的氢氧化季铵；0. 05 40wt*%的由以下分子式I表示的乙二醇醚基有机溶剂；和剩余的水。
分子式I
权利要求
1.一种能赋予基板的表面亲水性的清洗组合物，包含，基于所述组合物的总量0.0001 5wt%的选自由聚乙烯醇，聚乙二醇，纤维素，聚丙烯酸，聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮组成的组中的至少一种水溶性高分子化合物； 0.01 5wt%的多元醇化合物； 0.05 IOwt %的氢氧化季铵； 0.05 40被％的由以下分子式I表示的乙二醇醚基有机溶剂；和 剩余的水 [分子式I]
2.根据权利要求I所述的清洗组合物，其中所述的多元醇化合物包括选自由乙二醇、丙二醇、1，3-丙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、2，3-丁二醇、1，4-丁二醇、2-甲基-1，3-丙二醇、甘油、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、季戊四醇、木糖醇、甘露醇、山梨醇、赤藓糖醇、侧金盏花醇、苏糖醇、阿拉伯糖醇和塔罗糖醇组成的组中的至少一种。
3.根据权利要求I所述的清洗组合物，其中所述的氢氧化季铵包括选自由氢氧化四甲铵，氢氧化四乙铵，氢氧化四丙铵，和氢氧化四丁铵组成的组中的至少一种。
4.根据权利要求I所述的清洗组合物，其中所述的由以上分子式I表示的乙二醇醚基有机溶剂包括选自由乙二醇单甲醚，二乙二醇单甲醚，二乙二醇单乙醚，乙二醇单乙醚，三乙二醇单乙醚，三乙二醇单甲醚，二丙二醇单乙醚，丙二醇单甲醚组成的组中的至少一种。
5.一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，包含使用权利要求I至4中的任意一种所述清洗组合物清洗基板的步骤。
全文摘要
本发明公开了一种能赋予基板的表面亲水性的清洗组合物，包括基于组合物的总量，0.0001～5wt％的选自由聚乙烯醇，聚乙二醇(PEG)，纤维素，聚丙烯酸(PAA)，聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮组成的组中的至少一种水溶性高分子化合物；0.01～5wt％的多元醇化合物；0.05～10wt％的氢氧化季铵；0.05～40wt％的由以下分子式表示的乙二醇醚基有机溶剂；和剩余的水。
文档编号C11D7/32GK102965214SQ201110270579
公开日2013年3月13日 申请日期2011年8月31日 优先权日2011年8月31日
发明者尹嚆重, 洪宪杓, 房淳洪, 金炳默 申请人:东友Fine-Chem股份有限公司