专利名称：化学品供应系统用进液管清洗装置的制作方法
技术领域：
化学品供应系统用进液管清洗装置本实用新型涉及化学品供应技术领域，具体地说是一种化学品供应系统用进液管
清洗装置。桶式供应系统(Drum OTS)常用于集成电路或半导体制造行业中的高纯度化学品供应系统中，当存储化学品的桶内的化学品使用完毕之后，会将作为标准桶的重要附件进液管(Detube)取出，并在补充完化学品的桶移入化学品供应系统指定位置后，对该进液管进行必要的清洗程序。通常是使用供应系统内置的去离子水或超纯水枪(DI or UPff GUN)对进液管进行冲洗以完成清洗程序，但是该冲洗式清洗法在实际使用时存在以下不足之处:一方面，由于冲洗时进液管上的化学品与水混合为一体，从而导致化学品随着冲洗的水散落在设备的各个位置，使得供应系统的操作空间变得污秽不堪；另一方面，由于供应系统内部空间比较狭小，这也使得比较长的进液管的清洗变得非常困难。综上，现有的对进液管进行清洗的方法具有清洗操作困难、自动化程度低以及无法确保清洗效果的缺点，且由于喷射清洗对于清洗效果的不确定性，操作人员经常会额外增加清洗的时间来确保进液管被彻底洗净，从而增加了清洗程序所需要的时间和纯水的消耗量。因此，若能提供一种进液管清洗装置(Detube Cleaner),以解决上述存在的问题，将具有非常重要的意义。本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种化学品供应系统用进液管清洗装置，不仅降低了操作 人员的操作难度，使得清洗操作更简单、方便，而且提高了清洗过程的自动化程度，缩短了清洗时间，提高了清洗效率。为实现上述目的设计一种化学品供应系统用进液管清洗装置，包括清洗腔体，所述清洗腔体为底端敞口的倾斜式容器，所述清洗腔体内设有清洗区1，所述清洗腔体侧面设有溢流区3，所述清洗腔体顶端设置有端盖5，所述端盖5与清洗腔体侧面呈倾斜式结构，所述清洗腔体底端连接有安装支架6。所述清洗腔体设有两个，所述清洗腔体侧面设有一个共用的溢流区3。所述溢流区3的容积与清洗区I的容积比例大于等于1:2。所述清洗腔体采用高分子材料制成，所述高分子材料为PP、PVDF或PTFE。本实用新型同现有技术相比，结构新颖、简单，通过使用该进液管清洗装置对化学品供应系统的进液管进行清洗，一方面，降低了操作人员的操作难度，使得清洗操作更简单、方便，另一方面，提高了清洗过程的自动化程度，缩短了清洗时间，提高了进液管清洗程序的效率；同时，由于在进水管道中设置有气动阀门和流量控制阀门，能够准确控制清洗与溢流的过程，以确保清洗效果的可靠性，进一步降低了清洗程序所用纯水的消耗量；此外，本实用新型采用了紧凑型及人体工程设计，使得清洗装置在化学品供应系统中的占地空间比较小，安装起来非常灵活、方便，并具有较高的使用效率，不会因清洗导致污液四处乱溅，值得推广应用。
图1是本实用新型的结构示意图；图2是本实用新型的侧面结构示意图；图3是本实用新型的内部结构示意图；图4是本实用新型的连接示意图；图5是本实用新型的安装布局示意图一；图6是本实用新型的安装布局示意图二 ；图中:1、清洗区2、进水管道3、溢流区4、废液排放管道5、端盖6、安装支架。
以下结合附图对本实用新型作以下进一步说明:如附图所示，本实用新型包括:清洗腔体，清洗腔体为底端敞口的倾斜式容器，清洗腔体内设有清洗区1，清洗腔体底部连接进水管道2，清洗腔体侧面设有溢流区3，溢流区底部连接废液排放管道4，清洗腔体顶端设置有端盖5，端盖与清洗腔体侧面呈倾斜式结构，清洗腔体底端连接有安装支架6，该安装支架采用IOmm的PP板制成。本实用新型的基 本原理为，使用内部注入超纯水的清洗容器，将进液管管壁面完全浸入清洗容器的方式，使得壁管表面的化学品与超纯水互溶，同时采取清洗容器底部注入新水，并在顶部溢流的方式，形成固定的超纯水扰流流场，将管壁面的污染物有效的带出互溶区域，形成有效的清洗效果。其应用原理是制作具有独立互溶区和溢流区的清洗容器，形成具有溢流效果的清洗区，同时在清洗容器底部进水管道处布置能够进行自动控制清洗起始及终止时间的气动阀门，并增加流量控制阀，形成对于特定清洗效果的准确控制。为实现上述基本原理，首先需要使用与化学品兼容的高分子材料，如PP、PVDF或PTFE等，制作倾斜式清洗腔体，并在清洗腔体侧面布置溢流区，为确保溢流过程中污水不回流，溢流区需要根据溢流速度设置固定深度的溢流区，通常溢流区的容积与清洗区的容积比例大于等于1:2 ;另外，由于常见的桶式化学品供应系统(Drum CDS)由双桶组成，为确保清洗效率及系统的备份使用要求，进液管清洗装置(DetuberCleaner)可根据需要制作成双联形式，即具有两个独立的清洗腔体，并同时共用一个联通的溢流区，各个清洗腔体底部配置完全相同的两组纯水进水管道，共用的溢流区底部配置一组废液排放管道。而且，针对具有特殊规格的进液管，需要根据其长度调整整个清洗装置的倾斜角度，该角度原则上不对溢流效果造成影响，但会对清洗装置在化学品供应系统中所占的空间，以及对溢流区的长度和操作人员的使用便利程度上具有一定的影响，通常该角度设置在45度(±15° )左右。本实用新型并不受上述实施方式的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种化学品供应系统用进液管清洗装置，其特征在于:包括清洗腔体，所述清洗腔体为底端敞口的倾斜式容器，所述清洗腔体内设有清洗区(I )，所述清洗腔体侧面设有溢流区(3)，所述清洗腔体顶端设置有端盖(5)，所述端盖(5)与清洗腔体侧面呈倾斜式结构，所述清洗腔体底端连接有安装支架(6 )。
2.如权利要求1所述的进液管清洗装置，其特征在于:所述清洗腔体设有两个，所述清洗腔体侧面设有一个共用的溢流区(3 )。
3.如权利要求1或2所述的进液管清洗装置，其特征在于:所述溢流区(3)的容积与清洗区(I)的容积比例大于等于1:2。
4.如权利要求3所述的进液管清洗装置，其特征在于:所述清洗腔体采用高分子材料制成，所述高分子材料为P P、PVDF或PTFE。
专利摘要本实用新型涉及化学品供应技术领域，具体地说是一种化学品供应系统用进液管清洗装置，包括清洗腔体，所述清洗腔体为底端敞口的倾斜式容器，所述清洗腔体内设有清洗区(1)，所述清洗腔体侧面设有溢流区(3)，所述清洗腔体顶端设置有端盖(5)，所述端盖(5)与清洗腔体侧面呈倾斜式结构，所述清洗腔体底端连接有安装支架(6)；本实用新型同现有技术相比，不仅降低了操作人员的操作难度，使得清洗操作更简单、方便，提高了清洗过程的自动化程度，缩短了清洗时间，而且能够准确控制清洗与溢流的过程，确保清洗效果的可靠性，降低了清洗程序所用纯水的消耗量，且采用紧凑型设计，也使得清洗装置在化学品供应系统中的占地空间更小，安装更灵活、方便。
文档编号B08B9/027GK203108882SQ20122072541
公开日2013年8月7日 申请日期2012年12月25日 优先权日2012年12月25日
发明者简建至, 江献茂, 黄丙军 申请人:冠礼控制科技(上海)有限公司