一种几何拼图的制作方法

文档序号:11069531阅读:626来源:国知局
一种几何拼图的制造方法与工艺

本实用新型涉及一种装置,更具体地涉及一种几何拼图。



背景技术:

几何学是数学的一个重要分支,在学生刚刚开始几何学的学习时,教师通常会通过展示一些基本的几何图形来使学生能够直观的认识这些几何形状,如三角形、圆形、正方形、平行四边形等,在之后学生通过一些几何拼图来拼接成各种几何图案,从而加深对于图形的理解,但是目前的拼图需要许多不同的模块才能完成不同图形的拼接,这些模块通常会有十几种,甚至几十种,数量众多的模块一方面不易保管,易丢失,由于模块的种类众多,制造成本也随之提高,且模块种类越多,越容易拼接出不同的几何图案,不利于学生创造性思维的开发,拼接中趣味性较低。



技术实现要素:

针对现有技术的缺陷,本实用新型提供了一种几何拼图。

一种几何拼图,包括公块和母块,所述公块为一等边直角三角形,直角三角形的三个角分别为45度、45度和90度,在所述公块直角三角形的一直角边上设置有第一凸起1和第一凹槽2,在另一直角边上设置有第二凸起4和第二凹槽5,在斜边上设置有第三凸起6和第三凹槽7,所述第一凸起1到45度角的顶点的距离与所述第一凹槽2到90度角的顶点的距离相等,所述第二凸起4到90度角的顶点的距离与所述第二凹槽5到45度角的顶点的距离相等,所述第一凹槽2到90度角的顶点的距离与所述第二凸起4到90度角的顶点的距离相等,所述母块与所述公块为同样大小的等边直角三角形,所述母块上设置有与所述公块相反凸起和凹槽,即在与所述公块第一凸起1、第二凸起4、第三凸起6相对应位置的母块上设置有凹槽,在与所述公块第一凹槽2、第二凹槽5和第三凹槽7相对应位置的母块上设置有凸起。

本实用新型的有益效果是:结构简单、成本低,能使学生对运动原理有更加深刻的认识,同时提高学生学习物理的兴趣,具有很好的物理教学效果。

附图说明

图1是本实用新型拼图公块的结构示意图;

图2是本实用新型拼图母块的结构示意图;

图3是利用本实用新型拼图所拼接出的一图案;

图4是利用本实用新型拼图所拼接出的另一图案。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明,使本实用新型的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按比例绘制附图,重点在于示出本实用新型的主旨。

如图1、2所示,一种几何拼图,包括公块和母块,所述公块为一等边直角三角形,直角三角形的三个角分别为45度、45度和90度,在所述公块直角三角形的一直角边上设置有第一凸起1和第一凹槽2,在另一直角边上设置有第二凸起4和第二凹槽5,在斜边上设置有第三凸起6和第三凹槽7,所述第一凸起1到45度角的顶点的距离与所述第一凹槽2到90度角的顶点的距离相等,所述第二凸起4到90度角的顶点的距离与所述第二凹槽5到45度角的顶点的距离相等,所述第一凹槽2到90度角的顶点的距离与所述第二凸起4到90度角的顶点的距离相等,即图中C与C’相等,所述母块与所述公块为同样大小的等边直角三角形,所述母块上设置有与所述公块相反凸起和凹槽,即在与所述公块第一凸起1、第二凸起4、第三凸起6相对应位置的母块上设置有凹槽,在与所述公块第一凹槽2、第二凹槽5和第三凹槽7相对应位置的母块上设置有凸起。进一步的,公块和母块上还可以设置有镂空的图形3,图形3起到装饰、美观的作用。

本实用新型中公块和母块可以采用塑料或橡胶等材质制成,公块和母块上的凸起和凹槽相互配合,即凸起可以插入凹槽中,本新型中公块上的凸起可以插入到母块的凹槽中,同样母块上的凸起也可以插入公块的凹槽中,这样公块和母块便可以连接在一起,通过多个公块和母块相互拼接可以拼接出多种不同的几何图形。图3是利用本实用新型拼图所拼接出的一图案,该图案中包括正方形、长方形、正三角形等图形;图4是利用本实用新型拼图所拼接出的另一图案,该图案中包含了平行四边形、梯形等图形。

本实用新型仅采用公块和母块这样两种模块组成,丢失其中的任何一块都不影响其它模块的拼接;模块简单,制造成本低;且模块间具有多种拼接方式,可以通过简单的母块和公块拼接出多种不同的几何图案,趣味性高,能引导学生积极思考,有利于学生创造性思维的开发。

在以上的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是以上描述仅是本实用新型的较佳实施例而已,本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,因此本实用新型不受上面公开的具体实施的限制。同时任何熟悉本领域技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。

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