一种新型紧布架的制作方法

文档序号:11418987阅读:343来源:国知局
一种新型紧布架的制造方法与工艺

本实用新型涉及一种新型紧布架,属于织物印染机械技术领域。



背景技术:

目前,织物在染整加工前都是折叠堆放在车间中,织物布料完全处于无张力、折叠堆放状态。若将该织物直接进入加工状态的机台加上,容易产生较多的折皱和歪斜,必将影响染整加工的顺利进行和印染产品的质量,如染色时,布料过多的褶皱会导致布料表面染色不均,尤其是折皱处不宜上色,大大降低印染产品的质量,还会影响染整加工的正常进行,故在布料进入到加工设备之前需要对布料进行张紧。



技术实现要素:

本实用新型针对现有技术存在的不足,提供一种能有效调整织物布料张力的新型紧布架。

本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:一种新型紧布架,包括平行排列的上紧布辊、下紧布辊、对称设置在所述上、下紧布辊两端的摆臂及用于驱动摆臂转动的转轴,所述上、下紧布辊的两端分别与所述摆臂的内侧固定连接,所述转轴与所述摆臂的外侧固定连接,所述转轴与所述上紧布辊的辊轴同轴心,所述上紧布辊与下紧布辊之间设有用于布料穿过的空隙。

本实用新型的有益效果是:织物布料由上、下紧布辊的空隙穿过,转轴带动摆臂及紧布辊转动实现调节织物布料张力的目的,用于驱动紧布辊转动的转轴可设置在摆臂的中部,当转轴设置在摆臂中部时,转轴旋转,上、下紧布辊的轴线绕转轴的轴线转动,尽管可以达到一定的紧布效果,但是存在紧布辊的转动半径小,织物布料张力调节有限,对于褶皱较多织物布料张力效果不佳;而当转轴与上紧布辊同轴设置时,下紧布辊可绕转轴、上紧布辊的轴线转动,转动半径增大,织物布料的紧布力度大,使得褶皱较多的织物布料张力调节后更加平整。总之,本实用新型结构简单,操作方便快捷,且调节织物布料张力大,适合调整褶皱较多的织物布料,使织物能平整进入加工设备而不产生任何褶皱。

在上述技术方案的基础上,本实用新型还可以做如下改进。

进一步的,所述摆臂的顶部及底部为圆弧结构,所述摆臂上用于安装所述转轴的上部的宽度大于所述摆臂下部的宽度。

采用上述进一步方案的有益效果是,由于转轴与上紧布辊同轴设置,转动半径增大,也增加了转轴的驱动力,为了节能,故通过摆臂上、下圆弧结构减少摆臂的自重,但为了保证摆臂的支撑强度,转动的轴心位置设置宽度大一些,而对于与下紧布辊的转动位置对应的摆臂的下部适当减少其宽度来减少耗能。

进一步的,所述上、下紧布辊采用φ60*5的不锈钢复合管制作而成。

采用上述进一步方案的有益效果是,不仅美观、环保,而且强度大。

进一步的,所述摆臂采用铝合金材料制作而成。

采用上述进一步方案的有益效果是,不但重量轻,方便安装维护,而且强度大,耐腐蚀性强。

进一步的,还包括用于驱动转轴旋转的驱动机构,所述驱动机构为电机,所述电机的输出轴与所述转轴连接。

采用上述进一步方案的有益效果是,通过电机带动转轴旋转,为紧布辊提供转动动力。

附图说明

图1为本实用新型的主视结构示意图;

图2为本实用新型的左视结构示意图;

图中,1、上紧布辊;2、下紧布辊;3、摆臂;4、转轴;5、空隙。

具体实施方式

以下结合实例对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。

如图1和图2所示,一种新型紧布架,包括平行排列的上紧布辊1、下紧布辊2、对称设置在所述上、下紧布辊两端的摆臂3及用于驱动摆臂转动的转轴4,所述上、下紧布辊的两端分别与所述摆臂的内侧固定连接,所述转轴与所述摆臂的外侧固定连接,所述转轴与所述上紧布辊的辊轴同轴心,所述上紧布辊与下紧布辊之间设有用于布料穿过的空隙5。

所述摆臂的顶部及底部为圆弧结构,所述摆臂上用于安装所述转轴的上部的宽度大于所述摆臂下部的宽度。由于转轴与上紧布辊同轴设置,转动半径增大,也增加了转轴的驱动力,为了节能,故通过摆臂上、下圆弧结构减少摆臂的自重,但为了保证摆臂的支撑强度,转动的轴心位置设置宽度大一些,而对于与下紧布辊的转动位置对应的摆臂的下部适当减少其宽度来减少耗能。

所述上、下紧布辊采用φ60*5的不锈钢复合管制作而成。不仅美观、环保,而且强度大。

所述摆臂采用铝合金材料制作而成。不但重量轻,方便安装维护,而且强度大,耐腐蚀性强。

还包括用于驱动转轴旋转的驱动机构,所述驱动机构为电机,所述电机的输出轴与所述转轴连接。通过电机带动转轴旋转,为紧布辊提供转动动力。

织物布料由上、下紧布辊的空隙穿过,转轴带动摆臂及紧布辊转动实现调节织物布料张力的目的,转轴与上紧布辊同轴设置时,下紧布辊可绕转轴、上紧布辊的轴线转动,转动半径增大,织物布料的紧布力度大,使得褶皱较多的织物布料张力调节后更加平整。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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