水位调节机构及挂烫机的制作方法

本实用新型涉及一种家用电器领域，特别涉及一种水位调节机构及具有该水位调节机构的挂烫机。

背景技术：

蒸汽挂烫机通常用于织物的褶皱熨整，还可以用作织物、玩具的消毒、去味等的处理。目前挂烫机主要由主机、独立水箱、操作手柄及附件组成，其中主机内设有蒸汽发生器，其中水箱与蒸汽发生器之间设有电磁泵，电磁泵的入口与水箱的出口连接，电磁泵的出口与蒸汽发生器连接。使用时，将水箱加满水后安装于主机的水箱固定槽上，接通电源，电磁泵和蒸汽发生器工作，通过电磁泵把水箱内的水输送到蒸汽发生器内，以供蒸汽发生器持续产生蒸汽，当蒸汽达到一定的温度时，即可熨烫衣物。

然而，目前已有的挂烫机，大部分是通过增加电磁泵的功率以及蒸汽发生器的功率，以改变产生的蒸汽的多少的同时也改变蒸汽的压力大小，这种方式对电控的要求较高，成本较大；且当蒸汽发生器内产生的蒸汽压力较大时，会出现蒸汽发生器内的水倒流而导致出汽中断或者明显减弱的情况，无法获得强力的蒸汽。

技术实现要素：

为解决现有存在的技术问题，本实用新型实施例提供一种成本更低、且蒸汽压力可调的水位调节机构及具有该水位调节机构的挂烫机。

为达到上述目的，本实用新型实施例的技术方案是这样实现的：

一种水位调节机构，包括：蒸汽发生装置，所述蒸汽发生装置内包括加热水腔及容置于所述加热水腔内的加热器；水箱，所述水箱与所述蒸汽发生装置之间形成有气压通道和进水通道，所述气压通道高于所述进水通道；烫头，所述烫头与所述蒸汽发生装置连接，所述烫头包括设有多个出气孔的蒸汽面及用于调节所述出气孔的总面积大小的调节组件。

其中，所述调节组件包括覆盖于所述蒸汽面的调节盖，所述调节盖上设有尺寸不小于任一所述出气孔的尺寸的调节孔，所述调节盖包括不遮挡所述出气孔的第一位置及至少部分遮挡所述出气孔的第二位置。

其中，将所述调节盖从所述第一位置切换至所述第二位置的过程中，所述调节盖遮挡所述出气孔的总面积大小逐渐增加。

其中，所述水箱包括第一进气管，所述蒸汽发生装置包括第二进气管，所述第一进气管与所述第二进气管连接形成所述气压通道，所述第一进气管和所述第二进气管的一端设有止口结构。

其中，所述第一进气管和所述第二进气管相互接触的圆周表面之间设有密封圈。

其中，所述第一进气管和所述第二进气管相互接触的圆周表面之间还设有凹陷，所述凹陷位于靠近所述止口结构的一端与所述密封圈之间。

其中，所述凹陷的数量为多个，所述凹陷呈圆环状，多个所述凹陷沿所述气压通道的径向分布于所述气压通道靠近所述止口结构的一端与所述密封圈之间，且所述多个凹陷的尺寸从所述气压通道靠近所述止口结构的一端向所述密封圈所在的位置逐渐增加。

其中，所述第二进气管的尺寸小于所述第一进气管的尺寸，所述第二进气管的外圆周表面与所述第一进气管的内圆周表面连接形成所述气压通道。

其中，所述密封圈呈中空状。

一种挂烫机，包括水位调节机构，该水位调节机构包括蒸汽发生装置，所述蒸汽发生装置内包括加热水腔及容置于所述加热水腔内的加热器；水箱，所述水箱与所述蒸汽发生装置之间形成有气压通道和进水通道，所述气压通道高于所述进水通道；烫头，所述烫头与所述蒸汽发生装置连接，所述烫头包括设有多个出气孔的蒸汽面及用于调节所述出气孔的总面积大小的调节组件。

本实用新型实施例中，该水位调节机构内的蒸汽发生装置与水箱之间设置有气压通道和进水通道，气压通道高于进水通道，烫头包括可以调节出气孔面积大小的调节组件，当蒸汽发生装置内加热器的功率恒定时，蒸汽发生装置的加热水腔内平均单位时间内产生的蒸汽量恒定，此时调节组件改变出气孔面积的大小，以增加烫头的出汽压力；其次当蒸汽发生装置内部的蒸汽压力增加时，由于蒸汽发生装置与水箱之间设置有气压通道，水箱与蒸汽发生装置内的蒸汽压力可保持相等，从而避免了出现蒸汽发生装置内水倒流的情况，因此，该水位调节机构无需采用电磁泵，更无需对电磁泵进行控制，而通过设置对出气孔大小进行调节的调节组件实现烫头出汽的压力可调，且通过连通于蒸汽发生装置与水箱之间的气压通道避免了强蒸汽压力下水的倒流，简化了控制模块成本，系统稳定性也更高。

附图说明

图1为一实施例中水位调节机构的结构示意图；

图2为一实施例中烫头的截面图；

图3为另一实施例中水位调节机构的结构示意图；

图4为图3中圈IV部分的放大图。

具体实施方式

以下结合说明书附图及具体实施例对本实用新型技术方案做进一步的详细阐述。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

图1所示为本申请一实施例提供的水位调节机构的结构示意图。该水位调节机构包括水箱10、蒸汽发生装置30及与蒸汽发生装置30连接的烫头40。该蒸汽发生装置30内包括加热水腔31及容置于该加热水腔31内的加热器32。该水箱10与该蒸汽发生装置30之间形成有气压通道35和进水通道36，该气压通道35高于该进水通道36。该烫头40与该蒸汽发生装置30连接，请结合参阅图2，该烫头40包括设有多个出气孔的蒸汽面42及用于调节该出气孔420的总面积大小的调节组件43。

上述实施例提供的水位调节机构中，蒸汽发生装置30与水箱10之间设置有气压通道35和进水通道36，气压通道35高于进水通道36，烫头40包括可以调节出气孔面积大小的调节组件43，当蒸汽发生装置30内加热器32的功率恒定时，蒸汽发生装置30的加热水腔31内在平均单位时间内产生的蒸汽量恒定，此时调节组件43改变出气孔420面积的大小，以增加烫头40通过出气孔420的出汽速度；其次当蒸汽发生装置30内部的蒸汽压力增加时，由于蒸汽发生装置30与水箱10之间设置有气压通道35，水箱10与蒸汽发生装置30内的蒸汽压力可保持相等，从而避免了出现蒸汽发生装置30内水倒流到水箱10内的情况，该水位调节机构无需采用电磁泵，更无需对电磁泵进行控制，通过设置对出气孔420大小进行调节的调节组件43实现烫头40出汽的压力可调，且通过连通于蒸汽发生装置30与水箱10之间的气压通道35，避免了该水位调节机构蒸汽压力可调过程中蒸汽发生装置30内压力过大造成水倒流，相对于采用电磁泵进行控制来调节水位的已知技术而言简化了控制成本，系统稳定性也更高。

在一个可选的实施例中，该调节组件43包括覆盖于该蒸汽面42的调节盖431，该调节盖431上设有尺寸不小于任一该出气孔的尺寸的调节孔，该调节盖431包括不遮挡该出气孔42的第一位置(2-1)及至少部分遮挡该出气孔42的第二位置(2-2)。该烫头40通过蒸汽管道与蒸汽发生装置30的加热水腔31连通，包括与蒸汽管道连接的环形的导流侧面41及连接于该导流侧面41末端的蒸汽面42。该导流侧面41的尺寸从与蒸汽管道连接的一端向与该蒸汽面42连接的一端逐渐增加。出气孔420均匀地设置于蒸汽面42上。调节盖431可拆卸地安装于蒸汽面42的外侧，当调节孔分别与该出气孔420对齐时，调节盖431位于不遮挡出气孔420的第一位置；当调节孔与出气孔420之间部分错开时，调节盖431位于部分遮挡出气孔420的第二位置。

通过调整调节盖431的位置，从而可以调节烫头40的出气孔420的总面积大小。当蒸汽发生装置30开始工作产生大量的蒸汽，蒸汽可以通过气压通道35到达水箱10，使得水箱10内的气压始终与蒸汽发生装置30内加热水腔31的气压保持相等，如此，水箱10内的水可以稳定的流入蒸汽发生装置30的加热水腔31内。加热器32在工作过程中功率稳定，在稳定情况下每分钟产生的蒸汽量稳定，而烫头40通过出气孔420进行出汽，当烫头40在单位时间内通过出气孔420出汽的蒸汽量与加热器32在单位时间内产生的蒸汽量相等时，则水位调节机构达到稳定状态，此时，烫头40的出汽速度与加热器32在单位时间内产生的蒸汽量与烫头40的出气孔420的总面积的比值呈正比。通过调节组件43调节烫头40的出气孔420的总面积大小，从而相应改变烫头40的出汽速度，达到蒸汽压力可调以及形成强力蒸汽的目的。

在一个可选的实施例中，将该调节盖431从该第一位置切换至该第二位置的过程中，该调节盖431遮挡该出气孔420的总面积的大小逐渐增加。通过设计调节盖431上调节孔的分布形态及尺寸，使得调节盖431相对于蒸汽面42的相对运动过程中，对出气孔420的遮挡可以逐渐变化，从而对水位调节机构的蒸汽压力的调节可以达到逐渐变化的目的。

在另一个实施例中，请结合参阅图3和图4，气压通道35是由水位调节箱和蒸汽发生装置相互连接形成的。该水箱10包括第一进气管11，该蒸汽发生装置30包括第二进气管33，该第一进气管11与该第二进气管33连接形成该气压通道35，该第一进气管11和该第二进气管33之间的一端设有止口结构353。

通过第一进气管11和第二进气管33形成该气压通道35时，可以包括第一进气管11的外圆周表面与第二进气管33的内圆周表面相互接触、和第一进气管11的内圆周表面与第二进气管33的外圆周表面相互接触两种情况。本申请实施例中，由于气压通道35主要用于实现蒸汽发生装置30内的高压蒸汽通过其流向水箱10内，从而可以优选设置该第二进气管33的尺寸小于该第一进气管11的尺寸，该第二进气管33的外圆周表面与该第一进气管11的内圆周表面连接形成该气压通道35，也就是说，该第一进气管11环设于该第二进气管33的外圆周表面形成该气压通道35，此时，第一进气管11的内圆周表面与第二进气管33的外圆周表面相互接触，使得第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352位于水位调节机构的内部的一端靠近水箱10，在第一进气管11和第二进气管33之间连接不可避免的存在装配间隙352的前提下，减少高压蒸汽从蒸汽发生装置30流向水箱10时对第一进气管11和第二进气管33之间相互连接处的冲击作用力。

具体的，该止口结构353包括形成第一进气管11和第二进气管33之间的外止口和内止口。止口结构353形成于该第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352位于水位调节机构的内部的一端。可以理解的，第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352位于水位调节机构的内部的一端具体是根据第一进气管11和第二进气管33的相对位置而决定的，当第一进气管11环设于第二进气管33的外围时，则第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352位于水位调节机构的内部的一端为该气压通道35靠近水箱10的一端，反之，当第二进气管33环设于第一进气管11的外围时，则第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352位于水位调节机构的内部的一端为气压通道35靠近蒸汽发生装置30的一端。本实施例中，该第一进气管11环设于该第二进气管33的外圆周表面形成该气压通道35，使得第一进气管11和第二进气33管之间的装配间隙352位于水位调节机构的内部的一端靠近为水箱10的一端，相应的，该止口结构353形成于该气压通道35靠近水箱10的一端。具体的，该内止口形成于第二进气管33的末端，外止口形成于第一进气管11的内圆周表面，第一进气管11和第二进气管33连接时，外止口与内止口相互扣合且外止口包覆于内止口的外围。该止口结构353相当于在第一进气管11和第二进气管33相互接触的圆周表面之间增加的刚性密封结构，从而可以进一步地减少水位调节机构的内部的高压蒸汽进入到第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352，减小高压蒸汽对第一进气管11和第二进气管33相互连接处的冲击作用力。

进一步的，该第一进气管11和该第二进气管33相互接触的圆周表面之间设有至少一个密封圈351。密封圈351设置于第一进气管11和第二进气管33相互接触的圆周表面之间，可以增加气压通道35的密封性能。在一个具体的实施例中，密封圈351呈中空状，如此，在密封圈351的材料本身不具备形变能力的前提下，密封圈351具有较好的形变能力，从而可以避免第一进气管11和第二进气管33通过紧配合连接时造成对密封圈351的磨损，降低第一进气管11和第二进气管33之间的装配难度。

进一步的，该第一进气管11和该第二进气管33相互接触的圆周表面之间还设有至少一个凹陷354，该至少一个凹陷354位于靠近该止口结构353的一端与该至少一个密封圈351之间。该第一进气管11和该第二进气管33相互接触的圆周表面之间设置有凹陷354，该凹陷354将对高压蒸汽进入到第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352后到达密封圈351形成一定的阻力，减少高压蒸汽对密封圈351的侵蚀而损害其密封性能。

进一步的，该至少一个凹陷354的数量为多个，每一凹陷354呈圆环状，该多个凹陷354沿该气压通道35的径向分布于该气压通道35靠近该止口结构353的一端与该至少一个密封圈351之间，且该多个凹陷354的尺寸从该气压通道35靠近该止口结构353的一端向该至少一个密封圈351所在的位置逐渐增加。凹陷354数量的增加可以对高压蒸汽进入到第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352后达到密封圈351所在的位置时形成更多的阻力，而凹陷354的尺寸逐渐增加，可以对高压蒸汽进入到第一进气管11和第二进气管33之间的装配间隙352形成逐渐递增的阻力，以能够更加有效的维持气压通道35的密封性。

本实用新型实施例另一方面，提供一种挂烫机，该挂烫机包括上述任一实施例所提供的水位调节机构。其中，该挂烫机通过该水位调节机构，通过于水箱10和蒸汽发生装置30之间设置的气压通道35和进水通道36，于挂烫机工作过程中，利用气压平衡实现水位的自动调节。

以上实施例所提供的水位调节机构，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以该权利要求的保护范围为准。