专利名称：涂覆磨料的方法
背景技术：
本发明涉及涂覆的超硬研磨材料，尤其研磨砂粒(grit)的方法。
研磨砂粒，例如金刚石和立方氮化硼颗粒，广泛用于锯切、钻孔、研磨、抛光和其它研磨和切削应用中。在这些应用中，砂粒通常被由诸如Fe、Co、Ni、Cu之类的金属及其合金组成的基质包围(金属粘结)。或者，可使用树脂(树脂粘结)或玻璃质(玻璃粘结)基质，其中基质的选择是磨料将在其中使用的特定应用的函数。
在制造研磨工具中使用研磨砂粒不是没有问题。在制造切削工具的过程中，例如在烧结含有金刚石颗粒的锯部件的过程中，可能存在氧气，其作为在形成粘结基质的金属粉末内的溶解氧气或者在大气内的气态形式。在烧结温度下，所述氧气易于进攻金刚石颗粒的表面，这会削弱颗粒。在一些应用中，粘结基质可由金属组成，所述金属典型地用作金刚石合成的溶剂/催化剂。这种金属的实例是Fe、Co和Ni。在熔融状态下，这些金属能够溶解金刚石，所述金刚石一旦冷却，则沉淀形成石墨。金刚石表面的该石墨化过程不仅削弱颗粒，而且还导致在粘结体内颗粒的较差保留。
用由第IVa、Va和VIa族过渡金属(Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo和W)或其合金，和/或其各自的碳化物组成的金属涂覆金刚石表明改进研磨砂粒的性能。特别地，在金属粘结应用，例如锯切、研磨和钻孔中广泛使用涂覆的金刚石。
对于保护金刚石颗粒的涂层来说，必须在粘结基质与颗粒之间形成阻挡层。换句话说，它应该是不可渗透的并且致密的，以使得粘结基质的组分不能通过并且与颗粒表面接触。这些组分能够通过涂层的一种方式是借助于固态扩散通过涂层。作为选择，如果涂层是不完整的、破裂的或者多孔的，则这些组分可能通过涂层到达颗粒表面。涂层最初可能是致密的并且不可渗透的，但是在烧结过程期间可能由于例如与粘结基质熔合而因此发生相变，这导致了形成较少致密的合金或者可能是多孔的涂层，其使得粘结基质组分通过涂层到达颗粒表面。
以上提及的一些故障模式可依赖于时间或温度。对于短的烧结时间来说，不可能存在充足的时间形成问题，但在侵蚀性烧结条件下，例如长的烧结时间或者高的烧结温度下，这些故障模式可变得显而易见。
在研磨砂粒上沉积金属层的方法包括PVD方法，例如在L.Holland，Chapman and Hall，1st Edition 1956，“Vacuum Depositionof Thin Films”中所述。也可使用例如M J Hampden-Smith和T T Kodas在“Chemical Vapour Deposition”，Vol.1，No.1，1995中所述的气相CVD方法。可供替代的热扩散方法涉及混合研磨砂粒与氧化的金属粉末，并在惰性氛围(通常真空)下加热，例如如V G Chuprina(Soviet Powder Metallurgy and Metal Ceramics 1992，Vol.31，No.7，pp.578-83和ibid 1992，Vol.31，No.8，pp.687-92)中所述。在涉及由金属卤化物气相沉积的方法中，在合适的气体环境(例如，含有一种或更多种下述惰性气体、氢气、烃、减压的非氧化环境)内，将待涂覆的颗粒暴露于含待涂覆的金属(例如Ti)的金属卤化物下。该金属卤化物可由作为该方法一部分的金属生成。
使混合物经历热循环处理，在此过程中，金属卤化物将Ti输送到颗粒表面上，在此它被释放并化学结合到颗粒上。使用例如Oki和Tanikawa在Proceedings of 1st International Conference on MoltenSalt Chemistry and Technology，p.265，1983中所述的熔融的碱金属卤化物，还提供用第IVa、Va和VIa族过渡金属涂覆金刚石的方式。后一方法使用与CVD方法类似的化学。
美国专利No.5024680公开了多次涂覆的金刚石砂粒用于在工具基质内改进的保留。涂覆的砂粒包括化学结合到金刚石上的强碳化物前体的金属碳化物，优选铬的第一涂层，和化学结合到第一金属层上的抗氧化的碳化物前体，优选钨、钽或钼的第二金属涂层。可添加合金化金属，例如镍的第三金属涂层。通过金属气相沉积(化学气相沉积该层据说没有提供优势)，施加第一金属层到砂粒上，接着通过化学气相沉积施加第二金属层，从而生产涂覆的砂粒。
公知诸如Fe、Co和Ni之类的元素可石墨化金刚石。在其中碳化铬用作涂覆材料的情况下，在防止这种石墨化方面，例如在铁的情况下，它不是特别有效，这限制其有效性。
第二层还具体地为厚层。因此，需要具有化学结合到第一层上的第二层，从而要求使用高温涂覆方法或者独立的加热步骤以产生这种化学结合。
美国专利No.5232489公开了在研磨工具内具有改进的磨耗性能的多层涂覆的金刚石磨料颗粒。该涂层包括单一均匀的碳化物形成金属基础层，优选铬，它化学结合到金刚石磨料颗粒的表面上。沉积基础层的合适方法据说是一种填充盐粘固方法。其它用于沉积基础层的方法据说包括化学气相沉积(CVD)，尤其低压化学气相沉积(LPCVD)。至少一层形成非碳化物的辅助层通过无电沉积，施加到基础层上。它典型地由镍/磷或钴/磷组成。
使用无电沉积的外层限制可能的外层到相对少数过渡金属，例如Ni和Co上。这些金属，尽管它们可给予复合涂层一些有利的性能，但缺点是它们可渗透底层的金属金属碳化物层并在随后的烧结循环过程中催化金刚石的石墨化。这导致涂层从金刚石上解粘结。
另一局限是，这些金属为典型地在保持涂覆金刚石颗粒所使用的基质中发现的金属。因此在使它们作为金刚石上的额外的涂层存在时，具有很少附加的优点。
发明概述根据本发明，生产涂覆的超硬研磨材料的方法包括下述步骤使用热涂覆方法，施加能够(单独或结合地)形成碳化物、氮化物或硼化物的元素到研磨材料的表面上作为内层，并通过物理气相沉积或化学气相沉积，施加选自过渡金属、碳化物、氮化物、硼化物、氧化物和碳氮化物形成金属、金属碳化物、金属氮化物、金属硼化物、金属氧化物和金属碳氮化物、硼氮化物和硼碳氮化物中的涂覆材料的至少一层外层。
典型地，内层元素来自于周期表第IVa、Va、VIa、IIIb和IVb族，且包括例如钒、钼、钽、铟、锆、铌、钨、铝、硼和硅。
施加内层或涂层可借助任何合适的热涂覆方法，其中包括涉及由金属卤化物气相沉积的方法，CVD方法或热扩散方法，这导致内层内的金属与基质之间的化学结合。
选择施加外涂层，以便微调涂层的物理和化学性能，以便实现这种涂层的通常竞争性要求之间的平衡。该优势包括-在超硬研磨材料上提供比采用热涂覆技术可实现的更厚的涂层，于是它变得更坚固且能够耐受较高的温度并能够延迟例如在研磨工具组件的粘结基质内侵蚀性元素的穿过，于是防止化学进攻，例如基质或其部分的氧化或石墨化；-提供涂层，所述涂层具有防止侵蚀性元素穿过的组成，于是保护内层和基质防止化学进攻导致的劣化或者其它劣化过程；-提供涂层，所述涂层具有抗氧化进攻或在随后的制造步骤，例如烧结过程中抗基质元素进攻的组成，在该情况下，将牺牲涂层的任何一种或两种主要作用(保留和保护基质)；和-改进涂覆体系与基质的相容性，这将导致涂覆体系与基质之间改进的粘结。
优选通过物理气相沉积，例如反应性溅射，施加外涂层，在所述反应性溅射中，允许反应性气体进入溅射室，从而导致反应性气体的化合物和正在溅射的元素的沉积。实例包括通过分别允许烃或氮进入而形成的碳化钛或氮化钛。
超硬研磨材料典型地为金刚石或cBN基材料，且可包括金刚石或cBN砂粒、PCD基质、热稳定的PCD(TSPCD)基质、PcBN基质、CVD金刚石膜、单晶金刚石基质。
优选实施方案的说明尽管本发明的方法可用于涂覆任何超硬研磨材料，但为了方便起见，参考涂覆金刚石砂粒来说明本发明的方法。
金刚石砂粒颗粒是在制造烧结的金属粘结工具中常规地使用的那些。它们通常是均匀大小的，一般为0.1-10mm。这类金刚石砂粒颗粒的例子包括0.1-60微米的微米砂粒、40微米-200微米的磨轮砂粒、180微米-2毫米的锯切砂粒、1毫米-10毫米的单晶、几平方毫米-至多200毫米直径圆盘的CVD插件、几平方毫米-104毫米直径圆盘的PCD插件、0.1-60微米的微米范围的cBN砂粒、40微米-200微米的磨轮砂粒、几毫米-至多104mm直径圆盘的PCBN插件。
在热涂覆方法中首先将金刚石颗粒涂覆以提供内层，该内层可以是金属层或者金属碳化物、氮化物或碳氮化物层。在cBN的情形中，这种内涂层将通常是金属氮化物或硼化物或者硼氮化物层。在该热涂覆方法中，在用于进行这种粘结的合适的热条件下将金属基的涂料涂覆在金刚石基质上。可以使用的典型热涂覆技术包括例如涉及由金属卤化物气相沉积的方法、CVD法或热扩散真空涂覆或者金属汽相沉积方法。优选的是由金属卤化物气相沉积和CVD法。
在涉及由金属卤化物气相沉积的方法中，在合适的气态环境(例如包含一种或多种以下条件的非氧化环境惰性气体、氢气、烃、减压)中将要被涂覆的颗粒暴露于含有要被涂覆的金属(例如Ti)的金属卤化物下。该金属卤化物可由作为该方法一部分的金属生成。
将混合物进行热循环，在这期间金属卤化物将Ti传送到颗粒的表面，在那里其被释放并且化学结合在颗粒上。
可使用冷涂覆技术，例如PVD或热涂覆技术，例如CVD，沉积一层或多层外层。优选PVD。这是一种低温方法，在其中产生了不足以造成显著的碳化物形成的热。因此，如果单独使用，则其将导致对金刚石颗粒差的粘合性。施加外涂层的PVD方法的一个实例是反应性溅射。在该方法中，通过允许气体，例如C、N或O进入反应室内，金属，例如Ti以稳定的碳化钛、氮化钛或二氧化钛形式沉积。可通过改变允许进入的气体量来调节各化合物之间的比值。因此，可实现例如Ti∶C的变化。还可同时由两种或更多种位置溅射，从而得到具有不同比值或组成的化合物。与内层所采用的热涂覆方法的情况(它受到碳扩散通过涂层本身的速度限制)相比，一层或多层外层在金刚石颗粒上提供较厚的涂层。外层还便于微调其性能和行为。
在一个实施方案中，外涂层具有与内层相同的组成，例如碳化钛。尽管组成可以是相同，但沉积这两层使用不同的方法使得人们可改性第二层的微结构，从而使得例如它更加内聚，因此不那么可渗透。所得到的厚的碳化钛涂层更加坚固，且能够耐受较高的温度或更加侵蚀性的环境。当制造研磨工具且没有金属例如通过涂层扩散到粘结基质内并进攻金刚石颗粒时，它还提供较大的反应时间。结果，使用碳化钛涂覆的金刚石颗粒在其中过去太侵蚀性的应用中变得可能。
在该实施方案中，PVD施加外层还提供数层不同的碳化钛组成或碳化钛组成梯度。可通过反应性溅射或者通过溅射碳化钛，来施加这些层。在施加中，可通过使碳化钛外层的性能和晶格常数与碳化钛内层相匹配，提高外层与内层的粘结，同时提高外层与金属粘结基质的粘结。因此它使得可在其中对金属粘结基质的粘结常规地不充分的应用中使用碳化钛涂层。一个实例是碳化钨，可使用它来防止金刚石表面的石墨化。
在进一步的实施方案中，内层是通过CVD施加的碳化钛层，而一层或多层外层由尤其适合于侵蚀性烧结条件的金属碳氮化物，例如碳氮化钛形成。它尤其适合于形成对来自其金属粘结基质的Co、Fe和Ni的扩散阻挡层，从而使它可在低Cu、在Fe、Co和Cu或铁或高铁的热压技术中使用。可控制Ti∶(C，N)与C∶N之比，以优化外层的性能。再者，它提供多层或者提供在PVD层内碳氮化钛的梯度排列。这又使得可微调它适合于其中碳氮化钛涂层与金属粘结基质之间常规地不形成良好粘结的那些应用。因其抗化学性可用的类似实例是碳氮化钛铝。金属与非金属之比，金属之间或者非金属之间的比值全部可连续(产生梯度)或者不连续(产生多层)变化，以便微调涂层的化学和或物理性能。
在进一步的实施方案中，可作为金属涂层形式形成外层，金属涂层选自第IVa、Va、VIa族过渡金属中的金属和合金，其中包括钨、钛、铬、钼、和锆，和选自第一行过渡金属中的金属(Ti到Cu)，尤其适合于磁控管溅射的非磁性金属或合金。合金可包括以上提及的金属与选自铂族金属和第Ib组金属中的金属。实例是铜或镍钛和镍铬。在钨的情况下，它提供防止碳化钛涂层与基质粘结的涂层。因此，它可用于使用青铜粘结和含有亚铁金属粘结的侵蚀性烧结条件。也可微调它以便更好地粘结到金属粘结基质上。也可通过改变金属组成，微调内部涂层的耐化学性、扩散、熔点和与基质合金化的倾向。
现仅仅以例举的方式，参考下述非限制实施例，更详细地描述本发明。
实施例1根据本领域通常已知的通用方法，用CVD方法涂覆来自ElementSix，40/45 US筛目大小的金刚石砂粒，产生TiC涂覆的金刚石。然后将CVD TiC涂覆的金刚石用作第二涂覆步骤的基质。
将3000克拉40/45 US筛目大小的该TiC涂覆的金刚石放入具有旋转圆筒和大的纯钛金属板作为目标物的磁控管溅射涂覆器内。给涂覆腔室抽真空，允许氩气进入，并打开电源，形成等离子体。溅射功率增加到5000W，同时旋转圆筒，以确保在所有金刚石颗粒上均匀的涂层。继续两次160分钟的溅射钛金属试验，其中在继续之前取出在第一次试验之后的样品以供分析。使涂覆的金刚石冷却，之后从腔室中取出。
在第二次试验之后，进行该涂覆的金刚石的分析，所述分析由由X-射线衍射法、X-射线荧光法、涂层的化学测定、光学和扫描电子显微图像分析和颗粒破裂及随后在SEM上进行横截面分析所组成。
肉眼看，该涂层看起来为灰色的金属色。该着色看起来均匀地分布在每一颗粒上，且每一颗粒看起来相同。涂层均匀且没有任何未涂覆的区域。在SEM上的观察结果再次表明聚集颗粒的均匀涂层和略微粗糙的形态、该特定的涂层得到3.4％的测定结果(assay)。该批料所使用的该尺寸的TiC涂层典型地具有0.77％的测定结果。其余3.4％因此可归因于在TiC顶部的钛层。使颗粒断裂并在SEM中观察，两层涂层可仅仅通过微结构区分。在CVD TiC亚涂层顶部，测量PVD涂层为1微米。当使用XRD分析时，发现金刚石、TiC和Ti金属。XRF分析显示出100％Ti。
实施例2与实施例1一样生产CVD TiC涂覆的金刚石。然后，该TiC涂覆的金刚石用作第二涂覆步骤的基质。将500克拉40/45 US筛目大小的该TiC涂覆的金刚石放入具有旋转圆筒和大的纯钛金属板作为目标物的磁控管溅射涂覆器内。给涂覆腔室抽真空，允许氩气进入，并打开电源，形成等离子体。溅射功率增加到5000W，同时旋转圆筒，以确保在所有金刚石颗粒上均匀的涂层。继续溅射钛金属120分钟。使涂覆的金刚石冷却，之后从腔室中取出。
进行该涂覆的金刚石的分析，由X-射线衍射法、X-射线荧光法、涂层的化学测定、光学和扫描电子显微图像分析和颗粒破裂及随后在SEM上进行横截面分析所组成。
肉眼看，该涂层看起来为灰色的金属色。该着色看起来均匀地分布在每一颗粒上，且每一颗粒看起来相同。涂层均匀且没有任何未涂覆的区域。在SEM上的观察结果再次表明聚集颗粒的均匀涂层和略微粗糙的形态、该特定的涂层得到3.77％的测定结果。该批料所使用的该尺寸的TiC涂层典型地具有0.77％的测定结果。其余3.77％因此可归因于在TiC顶部的钛层。使颗粒断裂并在SEM中观察，两层涂层再次可仅仅通过微结构区分。在CVD TiC亚涂层顶部，测量PVD涂层为1-2微米。当使用XRD分析时，发现金刚石、TiC和Ti。XRF分析显示出100％Ti。
实施例3与实施例1一样生产CVD TiC涂覆的金刚石。然后，该TiC涂覆的金刚石用作涂层用基质。将1000克拉40/45 US筛目大小的该TiC涂覆的金刚石放入具有旋转圆筒和大的纯硅金属板作为目标物的磁控管溅射涂覆器内。给涂覆腔室抽真空，允许氩气进入，并打开电源，形成等离子体。溅射功率在目标物上增加到5A(400V)，同时旋转圆筒，以确保在20sccm的氩气压力下，在所有金刚石颗粒上均匀的涂层。允许丁烷气体进入，以实现30sccm的压力。与碳反应的硅的溅射继续5小时。使涂覆的金刚石冷却，之后从腔室中取出。
进行该涂覆的金刚石的分析，由X-射线衍射法、X-射线荧光法、涂层的化学测定、光学和扫描电子显微图像分析和颗粒破裂及随后在SEM上进行横截面分析所组成。
肉眼看，该涂层看起来在颗粒之间具有彩虹效果，其中看到红色、绿色、蓝色和金黄色。该涂层均匀且没有任何未涂覆的区域。在SEM上的观察结果表明均匀的涂层且具有光滑的形态。两层结构明显是显而易见的，SiC层的厚度为约0.25微米。该特定的涂层得到0.59％的测定结果。该批料所使用的该尺寸的TiC涂层典型地具有0.45％的测定结果。其余0.59％因此可归因于在TiC顶部的SiC层。当使用XRD分析时，发现金刚石、TiC和认为是SiC的物质。XRF分析显示出78％Ti和22％Si。
实施例4与实施例1一样生产CVD TiC涂覆的金刚石。然后，该TiC涂覆的金刚石用作涂层用基质。将1000克拉40/45 US筛目大小的该TiC涂覆的金刚石放入具有旋转圆筒和大的纯铝金属板作为目标物的磁控管溅射涂覆器内。给涂覆腔室抽真空，允许氩气进入，并打开电源，形成等离子体。溅射功率在铝目标物上增加到8A(290V)，同时旋转圆筒，以确保在20sccm的氩气压力下，在所有金刚石颗粒上均匀的涂层。允许氧气进入，以实现30％的发光测量。与氧气反应的铝的溅射继续1小时。使涂覆的金刚石冷却，之后从腔室中取出。
进行该涂覆的金刚石的分析，由X-射线衍射法、X-射线荧光法、涂层的化学测定、光学和扫描电子显微图像分析和颗粒破裂及随后在SEM上进行横截面分析所组成。
肉眼看，该涂层看起来完全不同于CVD TiC层。在更紧密检查时，在颗粒上看到薄的乳状白色涂层。在SEM上观察显示出在CVD TiC顶部上非常薄的光滑涂层。双层结构不明显，全部层的厚度为约0.6微米。该特定的涂层得到0.69％的测定结果。该批料所使用的该尺寸的TiC涂层典型地具有0.45％的测定结果。其余0.69％因此可归因于在TiC顶部的Al2O3层。当使用XRD分析时，发现金刚石和TiC。XRF分析显示出85％Ti和15％Al。
实施例5与实施例1一样生产CVD TiC涂覆的金刚石。然后，该TiC涂覆的金刚石用作涂层用基质。将1000克拉40/45 US筛目大小的该TiC涂覆的金刚石放入具有旋转圆筒和大的纯铝金属板作为目标物的磁控管溅射涂覆器内。给涂覆腔室抽真空，允许氩气进入，并打开电源，形成等离子体。溅射功率在目标物上增加到6A(290V)，同时旋转圆筒，以确保在20sccm的氩气压力下，在所有金刚石颗粒上均匀的涂层。允许C4H10气体进入，以实现50％的发光测量。与碳反应的铝的溅射继续1小时。使涂覆的金刚石冷却，之后从腔室中取出。
进行该涂覆的金刚石的分析，由X-射线衍射法、X-射线荧光法、涂层的化学测定、光学和扫描电子显微图像分析和颗粒破裂及随后在SEM上进行横截面分析所组成。
肉眼看，该涂层看起来具有灰褐色且由反射彩虹的效果。涂层看起来均匀且不具有任何未涂覆的区域。在SEM上的观察表明非常薄的均匀涂层和相对光滑的形态。两层结构不明显，外部层的厚度为约0.25微米。该特定的涂层得到0.71％的测定结果。该批料所使用的该尺寸的TiC涂层典型地具有0.45％的测定结果。其余0.71％因此可归因于在TiC顶部的AlC层。当使用XRD分析时，仅仅发现金刚石和TiC。XRF分析显示出77％Ti和23％Al。
权利要求
1.生产涂覆的超硬研磨材料的方法，其包括下述步骤使用热涂覆方法，施加能够(单独或结合地)形成碳化物、氮化物或硼化物的元素到研磨材料的表面上作为内层，并通过物理气相沉积或化学气相沉积，施加选自过渡金属、碳化物、氮化物、硼化物、氧化物和碳氮化物形成金属、金属碳化物、金属氮化物、金属硼化物、金属氧化物和金属碳氮化物、硼氮化物和硼碳氮化物中的涂覆材料的至少一层外层。
2.权利要求1的方法，其中通过热涂覆方法施加内层或涂层，所述热涂覆方法选自涉及由金属卤化物气相沉积的方法，CVD方法和热扩散方法。
3.权利要求1或2的方法，其中由选自周期表第IVa、Va、VIa、IIIb和IVb族中的元素形成内层。
4.权利要求3的方法，其中由选自钒、钼、钽、铟、锆、铌、钨、铝、硼和硅中的元素形成内层。
5.前述任何一项权利要求的方法，其中通过物理气相沉积施加外涂层。
6.权利要求5的方法，其中使用反应性气体通过反应性溅射施加外涂层，所述反应性溅射导致反应性气体的化合物和正在溅射的元素发生沉积。
7.权利要求6的方法，其中外涂层是通过分别允许烃或氮气进入而形成的钛、硅或铝的碳化物或氮化物。
8.前述任何一项权利要求的方法，其中超硬研磨材料是金刚石或cBN基的材料。
9.权利要求8的方法，其中超硬材料是金刚石或cBN砂粒、PCD基质、热稳定的PCD(TSPCD)基质、PcBN基质、CVD金刚石膜或单晶金刚石基质。
10.前述任何一项权利要求的方法，其中内层和外涂层具有相同的组成，但不同的微结构。
11.权利要求10的方法，其中内层和外涂层均是碳化钛。
12.权利要求1-9任何一项的方法，其中内层是碳化钛，和外涂层是碳氮化钛或碳氮化钛铝。
13.权利要求1-9任何一项的方法，其中外涂层形成为金属涂层，所述金属涂层选自第IVa、Va、VIa族过渡金属中的金属和合金，碳化物、氮化物、硼化物、氧化物和碳氮化物形成金属、金属碳化物、金属氮化物、金属硼化物、金属氧化物和金属碳氮化物、硼氮化物和硼碳氮化物。
14.权利要求13的方法，其中合金包括一种或更多种铂族金属或周期表第Ib族的金属。
15.权利要求13的方法，其中金属是钛金属。
全文摘要
生产超硬研磨材料，尤其涂覆的金刚石和CBN材料的方法。第一步，使用热涂覆方法，施加能够(单独或结合地)形成碳化物、氮化物或硼化物的元素到研磨材料的表面上。通过物理气相沉积或化学气相沉积，在内层上施加选自过渡金属、碳化物、氮化物、硼化物、氧化物和碳氮化物形成金属、金属碳化物、金属氮化物、金属硼化物、金属氧化物和金属碳氮化物、硼氮化物和硼碳氮化物中的涂覆材料的至少一层外层。典型地，内层元素来自于周期表第IVa、Va、VIa、IIIb和IVb族中的元素，且包括例如钒、钼、钽、铟、锆、铌、钨、铝、硼和硅。优选通过反应性溅射施加外涂层，其中允许反应性气体进入溅射室，从而导致反应性气体的化合物和正在溅射的元素发生沉积。
文档编号C04B41/45GK1934211SQ200580006496
公开日2007年3月21日 申请日期2005年1月13日 优先权日2004年1月15日
发明者D·P·伊根, J·A·安吉尔斯, M·L·菲什 申请人:六号元素有限公司