专利名称：自洁釉及其制备工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种透明釉及其制备工艺，特别是一种易于洁净的自洁釉及其制备工艺。
背景技术：
随着社会的发展，人们生活条件的改善，人们对美的追求以及对健康生活的要求越来越高，宾馆、酒店以及家庭对卫生陶瓷的要求也越来越高。现有陶瓷器具的釉面的光滑度不是很理想，经过一段时间的使用会发现，釉面容易沾染污物、形成黑斑等情况，釉面“藏污纳垢”，清洁时需要清洁剂的辅助；使用时间更久后会发现，釉面会发黄且不易清除，釉面也显得暗淡无光，这时候的釉面更容易沾染污物，清洁也比较困难。发明内容
本发明提供一种自洁釉及其制备工艺，以克服现有技术中存在的陶瓷釉面光滑度不是很理想，釉面容易沾污且清洁比较困难，釉面会发黄且不易清除等问题。
本发明采用如下技术方案自洁釉，包括底釉和面釉，底釉涂于基体上，面釉涂于底釉上，该面釉的制备按重量份包括下述原料长石15 22份、石英25 ；35份、氧化铝0. 5 3. 5份、方解石4 8份、 高岭土 1 4份、氧化锌2 7份、白云石1 4份、硅灰石1 5份、熔块25 40份。
上述底釉的制备按重量份包括下述原料长石30 40份、石英15 20份、氧化铝1 3份、方解石7 11份、高岭土 2 4份、氧化锌1 4份、白云石2 5份、硅酸锆 8 13份、硅灰石5 9份。
自洁釉制备工艺，包括以下步骤a.配料，按重量份面釉配料为长石15 22份、石英25 35份、氧化铝0.5 3. 5 份、方解石4 8份、高岭土 1 4份、氧化锌2 7份、白云石1 4份、硅灰石1 5份、 熔块25 40份；b.将配料进行球磨20 22小时得面釉釉浆；c.检测面釉釉浆研磨细度，细度控制在325目标准检验筛筛余量为0.05 0. 20% ；d.面釉釉浆过筛除铁；e.调整面釉釉浆性能，面釉釉浆比重控制在1.70 1. 72克/毫升，流动性控制在90 110秒/100毫升，吸干时间为28 35分钟，调整后备用；f.底釉釉浆喷涂于基体上；g.将面釉釉浆喷涂于底釉上；h.在最高为1180 1200摄氏度的温度曲线下烧成16 20小时，获得产品。
更具体地，步骤b中球磨时，面釉配料中加入球、水和CMC，其重量比例为，面釉配料球水CMC=1 :1. 5 :0. 5 :0. 003。
步骤d中釉浆过筛除铁4次。
步骤f中上述底釉釉浆由下述方法制备按重量份底釉配料为长石30 40份、 石英15 20份、氧化铝1 3份、方解石7 11份、高岭土 2 4份、氧化锌1 4份、白云石2 5份、硅酸锆8 13份、硅灰石5 9份；底釉配料中加入球、CMC以及水进行球磨，球磨18 20小时得底釉釉浆，底釉釉浆过筛除铁，调节比重、流动性以及吸干时间等性能后备用。
步骤f中上述底釉釉浆通过喷涂设备喷涂于基体上，喷涂3 5遍。
步骤g中上述面釉釉浆喷涂于底釉上，放置4 8小时后再进行步骤h的烧成。
步骤f中底釉的厚度控制在0. 6 0. 8mm ；步骤g中面釉的厚度控制在0. 05 0. 15mm。
步骤h中烧成最高温度为1185 1190摄氏度。
由上述对本发明的描述可知，和现有技术相比，本发明具有如下优点该自洁釉采用两次喷涂的方式制备，釉面亮度高、十分平滑，可有效地防止污垢的堆积及黑斑的形成； 使用HB铅笔不容易划现，污物难以吸附在釉面表面，清洁更容易。
具体实施方式
实施方式一自洁釉，包括底釉和面釉，底釉涂于基体上，面釉涂于底釉上，该面釉的制备按重量份包括下述原料长石18份、石英30份、氧化铝2份、方解石6份、高岭土 2份、氧化锌5份、 白云石3份、硅灰石4份、熔块30份。
上述底釉的制备按重量份包括下述原料长石38份、石英19份、氧化铝2份、方解石10份、高岭土 3份、氧化锌4份、白云石3份、硅酸锆12份、硅灰石9份。
自洁釉制备工艺，包括以下步骤a.按下述重量份配制面釉配料长石18份、石英30份、氧化铝2份、方解石6份、高岭土 2份、氧化锌5份、白云石3份、硅灰石4份、熔块30份。
b.面釉配料中加入球、水和CMC，其重量比例为，面釉配料球水CMC=1 1. 5 0. 5 0. 003，球磨20小时后得面釉釉浆；充分磨细的釉料玻化程度会提高，残留晶粒会减少，釉面细腻度、平整度会大大改善；CMC为羧甲基纤维素钠的英文简写，它具有无毒、无腐蚀、对人体无害、不污染环境、粘结力强、不霉变、不生虫等特点，CMC为该配料的添加剂；c.检测面釉釉浆研磨细度，细度控制在325目标准检验筛筛余量为0.15%左右；d.面釉釉浆过筛除铁4次；e.调整面釉釉浆性能，面釉釉浆比重控制在1.70 1. 72克/毫升，流动性控制在90 110秒/100毫升，吸干时间为28 35分钟，调整后备用；f.按重量份底釉配料为长石38份、石英19份、氧化铝2份、方解石10份、高岭土3 份、氧化锌4份、白云石3份、硅酸锆12份、硅灰石9份。
底釉配料中加入球、CMC以及水进行球磨，球磨18小时得底釉釉浆，底釉釉浆过筛除铁，调节比重、流动性以及吸干时间等性能后备用；g.底釉釉浆通过喷涂设备喷涂于基体上，喷涂4遍，底釉厚度控制0.7mm左右，底釉喷釉后的釉坯无釉部分应干净无釉，以免烧成后发生釉粘；h.底釉吸干刚结束时即将上述面釉釉浆均勻喷雾于底釉上，面釉的厚度控制在0. IOmm左右，喷涂时转盘应转动均勻，喷釉操作要稳，喷枪喷出的雾化状态要好，喷釉后的釉坯外观无釉泡、无棕眼、无明显波纹、无釉缕、无明显擦痕；喷涂完成后放置6小时，放置期间不允许流釉、薄釉和碎海绵以及其他杂尘；i.在最高温度为1185 1190摄氏度的曲线下烧成18小时，温度根据实际情况而定， 烧成后即获得产品，通过上述方法制备的自洁釉，釉面亮度高、十分平滑，可有效地防止污垢的堆积及黑斑的形成；使用HB铅笔不容易划现，污物难以吸附在釉面表面，清洁更容易。
实施方式二自洁釉，包括底釉和面釉，底釉涂于基体上，面釉涂于底釉上，该面釉的制备按重量份包括下述原料长石20份、石英25份、氧化铝1. 5份、方解石5. 5份、高岭土 2份、氧化锌4 份、白云石3份、硅灰石1. 5份、熔块37. 5份。
上述底釉的制备按重量份包括下述原料长石40份、石英18份、氧化铝1. 5份、方解石11份、高岭土 3. 5份、氧化锌3. 5份、白云石3. 5份、硅酸锆10份、硅灰石9份。
自洁釉制备工艺，包括以下步骤a.按下述重量份配制面釉配料长石20份、石英25份、氧化铝1. 5份、方解石5. 5份、 高岭土 2份、氧化锌4份、白云石3份、硅灰石1. 5份、熔块37. 5份。
b.面釉配料中加入球、水和CMC，其重量比例为，面釉配料球水CMC=1 1. 5 0. 5 0. 003，球磨22小时后得面釉釉浆；c.检测面釉釉浆研磨细度，细度控制在325目标准检验筛筛余量为0.05%左右；d.面釉釉浆过筛除铁4次；e.调整面釉釉浆性能，面釉釉浆比重控制在1.70 1. 72克/毫升，流动性控制在90 110秒/100毫升，吸干时间为28 35分钟，调整后备用；f.按重量份底釉配料为长石40份、石英18份、氧化铝1.5份、方解石11份、高岭土 3. 5份、氧化锌3. 5份、白云石3. 5份、硅酸锆10份、硅灰石9份；底釉配料中加入球、CMC以及水进行球磨，球磨20小时得底釉釉浆，底釉釉浆过筛除铁，调节比重、流动性以及吸干时间等性能后备用；g.底釉釉浆通过喷涂设备喷涂于基体上，喷涂3遍，底釉厚度控制0.6mm左右；h.上述面釉釉浆喷涂于底釉上，面釉的厚度控制在0.05mm,放置6小时；i.在最高温度为1180摄氏度曲线下烧成16小时，获得产品。
实施方式三自洁釉，包括底釉和面釉，底釉涂于基体上，面釉涂于底釉上，该面釉的制备按重量份包括下述原料长石15份、石英35份、氧化铝2. 5份、方解石8份、高岭土 4份、氧化锌5份、 白云石4份、硅灰石1. 5份、熔块25份。
上述底釉的制备按重量份包括下述原料长石37份、石英20份、氧化铝3份、方解石9份、高岭土 4份、氧化锌4份、白云石3份、硅酸锆13份、硅灰石7份。
自洁釉制备工艺，包括以下步骤a.按下述重量份配制面釉配料长石15份、石英35份、氧化铝2. 5份、方解石8份、高岭土 4份、氧化锌5份、白云石4份、硅灰石1. 5份、熔块25份。
b.面釉配料中加入球、水和CMC，其重量比例为，面釉配料球水CMC=1 1. 5 0. 5 0. 003，球磨21小时后得面釉釉浆；c.检测面釉釉浆研磨细度，细度控制在325目标准检验筛筛余量为0.10%左右；d.面釉釉浆过筛除铁4次；e.调整面釉釉浆性能，面釉釉浆比重控制在1.70 1. 72克/毫升，流动性控制在90 110秒/100毫升，吸干时间为28 35分钟，调整后备用；f.按重量份底釉配料为长石37份、石英20份、氧化铝3份、方解石9份、高岭土4份、 氧化锌4份、白云石3份、硅酸锆13份、硅灰石7份；底釉配料中加入球、CMC以及水进行球磨，球磨19小时得底釉釉浆，底釉釉浆过筛除铁，调节比重、流动性以及吸干时间等性能后g.底釉釉浆通过喷涂设备喷涂于基体上，喷涂5遍，底釉厚度控制0.8mm左右；h.上述面釉釉浆喷涂于底釉上，面釉的厚度控制在0.15mm,放置6小时；i.在最高温度1200摄氏度曲线下烧成18小时，获得产品。
上述仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均应属于侵犯本发明保护范围的行为。
权利要求
1.自洁釉，包括底釉和面釉，底釉涂于基体上，面釉涂于底釉上，其特征在于，所述面釉的制备按重量份包括下述原料长石15 22份、石英25 35份、氧化铝0. 5 3. 5份、方解石4 8份、高岭土 1 4份、氧化锌2 7份、白云石1 4份、硅灰石1 5份、熔块 25 40份。
2.如权利要求1所述的自洁釉，其特征在于，所述底釉的制备按重量份包括下述原料 长石30 40份、石英15 20份、氧化铝1 3份、方解石7 11份、高岭土 2 4份、氧化锌1 4份、白云石2 5份、硅酸锆8 13份、硅灰石5 9份。
3.自洁釉制备工艺，其特征在于，包括以下步骤a.配料，按重量份面釉配料为长石15 22份、石英25 35份、氧化铝0.5 3. 5 份、方解石4 8份、高岭土 1 4份、氧化锌2 7份、白云石1 4份、硅灰石1 5份、 熔块25 40份；b.将配料进行球磨20 22小时得面釉釉浆；c.检测面釉釉浆研磨细度，细度控制在325目标准检验筛筛余量为0.05 0. 20% ；d.面釉釉浆过筛除铁；e.调整面釉釉浆性能，面釉釉浆比重控制在1.70 1. 72克/毫升，流动性控制在90 110秒/100毫升，吸干时间为28 35分钟，调整后备用；f.底釉釉浆喷涂于基体上；g.将面釉釉浆喷涂于底釉上；h.在最高为1180 1200摄氏度的温度曲线下烧成16 20小时，获得产品。
4.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于步骤b中球磨时，面釉配料中加入球、水和CMC，其重量比例为，面釉配料球水=CMC=I 1. 5 0. 5 :0. 003。
5.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于步骤d中釉浆过筛除铁4次。
6.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于，步骤f中所述底釉釉浆由下述方法制备按重量份底釉配料为长石30 40份、石英15 20份、氧化铝1 3份、方解石 7 11份、高岭土 2 4份、氧化锌1 4份、白云石2 5份、硅酸锆8 13份、硅灰石 5 9份；底釉配料中加入球、CMC以及水进行球磨，球磨18 20小时得底釉釉浆，底釉釉浆过筛除铁，调节比重、流动性以及吸干时间等性能后备用。
7.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于步骤f中所述底釉釉浆通过喷涂设备喷涂于基体上，喷涂3 5遍。
8.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于步骤g中所述面釉釉浆喷涂于底釉上，放置4 8小时后再进行步骤h的烧成。
9.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于步骤f中底釉的厚度控制在0.6 0. 8mm ；步骤g中面釉的厚度控制在0. 05 0. 15mm。
10.如权利要求3所述自洁釉制备工艺，其特征在于步骤h中最高烧成温度为1185 1190摄氏度。
全文摘要
自洁釉及其制备工艺自洁釉，包括底釉和面釉，底釉涂于基体上，面釉涂于底釉上；底釉、面釉配料经球磨、过筛除铁、调整性能等处理制得备用釉浆，釉浆经喷涂、烧成等处理形成该自洁釉。该自洁釉采用两次喷涂的方式制备，釉面亮度高、十分平滑，可有效地防止污垢的堆积及黑斑的形成；使用HB铅笔不容易划现，污物难以吸附在釉面表面，清洁更容易。
文档编号C04B41/86GK102491792SQ201110387178
公开日2012年6月13日 申请日期2011年11月29日 优先权日2011年11月29日
发明者林文丛 申请人:福建省南安市华盛建材有限公司