专利名称：一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种陶瓷釉及其应用技术。
背景技术：
传统陶瓷以白色为主，釉面只采用硅酸锆起白色作用，并无其他功能，而且传统陶瓷釉面在放大镜下是凹凸不平的，使得污垢、细菌
易于躲藏、繁殖；后来，在传统陶瓷烧制成品后，加入后期涂膜热处理，没有经过高温烧制，涂膜稳定性差，易剥落，最终失去了防污抗菌效果。
中国发明专利ZL02125311.0公开了一种具有纳米自洁釉面的卫生洁具，其特点在于面釉含有Ag203和ZnO纳米复合抗菌剂，而且是通过两次施釉、 一次烧制成所需的卫生洁具。该发明的卫生洁具，由于面釉含纳米复合材料，其微观区域均匀，表面光滑，具有抗污抗菌功能。但该发明由于必须通过两次施釉，成本较高。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术上的不足，提供一种具有自洁抗菌功能的陶瓷釉。
本发明的自洁抗菌陶瓷釉，最主要的特点是含有Ti元素和Ag元素。其具体组成为Si0252~72%、 Al2035~9°/。、 CaO6~10%、 K2O2~6%、 Na2O0.5~1.5%、 ZnO 0.5 3%、 U2O 1 3%、 Ti024~8%、 V2O51~3%、 Ag203 l~5%。百分数均为重量百分数。
本发明的另一个目的是提供上述自洁抗菌陶瓷釉的制备方法，包
括如下步骤
(1) 将钾长石37~45重量％，大理石10~15重量％，硅石35~40重量％，抗菌剂2~4重量％和钛白粉5~8重量％混合均匀，磨碎；所
述抗菌剂的成分为Ag203;
(2) 采用振动筛过滤，除铁；
(3) 除铁后再经2 4天时间沉污，使杂质沉在底层，经过滤后，制得自洁抗菌陶瓷釉。
本发明的进一步目的是提供利用上述自洁抗菌陶瓷釉制备得到的陶瓷产品。
在现有的陶瓷产品的陶瓷本体表面烧制一层自洁抗菌陶瓷釉，即可得到具有自洁抗菌功能的陶瓷产品。烧制的温度优选为1200~1270。C。
与现有技术相比，本发明的优点和有益效果是
(1) 本发明的自洁抗菌陶瓷釉由于加入了钛元素后，钛金属高温后浮上，填补了传统陶瓷釉的针孔。在釉层特定分子经高温排列后，令光谱的频率产生跳跃，原子电子层产生变化，吸收空气中的负电子，产生了一层肉眼看不到的，带负电子的氢氧根离子隔离保护层，也就形成了氧化钛的光触媒作用，去污、抗菌能力得到了发挥，也具有一定的氢氧根离子抗菌能力。
2) 本发明的自洁抗菌陶瓷釉由于加入银元素，杀菌能力大增，具有双重抗菌杀菌作用，并永久作用于产品的釉面，因而具有防污、抗菌、自洁功能。
(3) 本发明的自洁抗菌陶瓷釉配方，适合于采用一次施釉工艺，不单简化了制作工艺，还降低了成本。
(4) 本发明的自洁抗菌陶瓷釉烧制在陶瓷本体表面后，釉面平整度高，晶质细致紧密、光洁度好、无针孔、玻璃感极柔极佳，触摸感觉非常平滑。
图1为现有传统陶瓷产品釉面电子显微镜图；图2为实施例1所述陶瓷产品釉面电子显微镜图。
具体实施方式
实施例l
按以下配比准备陶瓷釉料钾长石39%，大理石11%，硅石38%，抗菌剂4%，钛白粉8%。均为重量百分比。
(1) 将钾长石、大理石、硅石、抗菌剂和钛白粉经球磨机混合，在球磨机中磨20个小时；
(2) 均匀混合后，再经3次振动筛过滤、除铁；
(3) 除铁后再经2天时间沉污，使剩下的少量杂质沉在低层，经过滤后，制得成品陶瓷釉，经测定，其成分及比例为Si0252%、 Al2〇39%、 CaO 10%、 K20 6%、 Na20 1%、 ZnO 3%、 Li20 3%、 TiO2 80/0、
V2053%、 Ag203 5%;
(4) 再将成品陶瓷釉喷在陶瓷胚体上经120(TC高温烧制得成品利用显微镜对现有传统陶瓷产品釉面进行观察，结果如图1，发现传统陶瓷产品釉面凹凸不平。
利用显微镜对实施例1所述陶瓷产品釉面进行观察，结果如图2，发现釉面很均匀光滑，能实现自洁功能。
实施例2
按以下配比准备陶瓷釉料钾长石40%，大理石13%，硅石38%，抗菌剂4%，钛白粉5%。均为重量百分比。
(1) 将钾长石、大理石、硅石、抗菌剂和钛白粉经球磨机混合，在球磨机中磨26个小时；
(2) 均匀混合后，再经4次振动筛过滤、除铁；
(3) 除铁后再经3天时间沉污，使剩下的少量杂质沉在低层，经过滤后，制得成品陶瓷釉，经测定，其成分及比例为Si02 68%、 AM)38%、 Ca0 9%、 K20 5%、 Na20 0.5%、 ZnO 0.5%、 U2O 1%、 Ti02 6%、
V20sl%、 Ag203l%;
(4) 再将成品陶瓷釉喷在陶瓷胚体上经127(TC高温烧制得成品。实施例3
按以下配比准备陶瓷釉料钾长石43%，大理石12%，硅石38%，抗菌剂2%，钛白粉5%。均为重量百分比。
(1) 将钾长石、大理石、硅石、抗菌剂和钛白粉经球磨机混合，在球磨机中磨24个小时；
(2) 均匀混合后，再经5次振动筛过滤、除铁；
(3) 除铁后再经4天时间沉污，使剩下的少量杂质沉在低层，经过滤后，制得成品陶瓷釉，经测定，其成分及比例为Si〇2 72%、 Al2〇3
5%、 Ca0 6%、 K20 2%、 NasO 1.5%、 ZnO 2.5%、 Li20 2%、 Ti024%、 V2052%、 Ag2033%;
(4)再将成品陶瓷釉喷在陶瓷胚体上经126(TC高温烧制得成品。 实施例1~3的所制得的自洁抗菌陶瓷釉的陶瓷产品，(一)从视觉 上，自洁抗菌陶瓷釉的陶瓷产品改变了以往产品由于陶瓷釉易与釉中 的锆颗粒发生反应，使釉面出现非常明显的圆形点状，并且在产品上 分布不规则的现象，使得釉面非常平整、细致；(二)从触觉上，自 洁抗菌陶瓷釉的陶瓷产品用手触摸的感觉比以往产品平滑非常多； (三)由于自洁抗菌陶瓷釉中加了钛元素，经高温后，吸收了空气中 的负电子，形成了氧化钛的光触媒作用，从而填补了以往产品表面的 针孔，使釉面的致密度更高，同时强度也得到增加，因而不易划花， 并且有效隔离污垢，起到自洁作用；(四)由于自洁抗菌陶瓷釉同时 加入了钛、银等两种环保物质，对人体无害，并且银离子经高温柔烧 后，有能起永久的抗菌、杀菌作用。
权利要求
1.一种自洁抗菌陶瓷釉，其特征在于含有Ti元素和Ag元素。
2. 如权利要求1所述的自洁抗菌陶瓷釉，其特征在于所述陶瓷釉 由如下重量百分比的组分组成Si02 52 72%、 AI2O3 5 9%、 CaO 6~10%、 K20 2~6%、 Na2O0.5~1.5%、 ZnO 0.5~3%、 Li20 1 3%、 Ti02 4~8%、 V205 l~3%、 Ag203 l 5%。
3. 权利要求2所述自洁抗菌陶瓷釉的制备方法，其特征在于包括以下步骤(1 )将钾长石37~45重量％，大理石10~15重量％，硅石35 40 重量％，抗菌剂2~4重量％和钛白粉5~8重量％混合均匀，磨碎；(2) 采用振动筛过滤，除铁；(3) 除铁后再经2 4天时间沉污，使杂质沉在底层，经过滤后， 制得自洁抗菌陶瓷釉。
4. 权利要求3所述自洁抗菌陶瓷釉的制备方法，其特征在于所述 抗菌剂的成分为Ag203。
5. —种陶瓷产品，包括陶瓷本体，其特征是陶瓷本体表面有一层 权利要求1所述的自洁抗菌陶瓷釉。
6. 权利要求5所述陶瓷产品的制备方法，其特征是将权利要求1 所述的自洁抗菌陶瓷釉覆盖在陶瓷本体表面烧制而成。
7. 如权利要求6所述陶瓷产品的制备方法，其特征在于所述烧制 的温度为1200~1270°C。
全文摘要
本发明公开了一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品。本发明的自洁抗菌陶瓷釉，关键于含有Ti元素和Ag元素。具体组成为SiO<sub>2</sub>52～72％、Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>5～9％、CaO6～10％、K<sub>2</sub>O2～6％、Na<sub>2</sub>O0.5～1.5％、ZnO0.5～3％、Li<sub>2</sub>O1～3％、TiO<sub>2</sub>4～8％、V<sub>2</sub>O<sub>5</sub>1～3％、Ag<sub>2</sub>O<sub>3</sub>1～5％。本发明的陶瓷产品，包括陶瓷本体，其特征是陶瓷本体表面有一层自洁抗菌陶瓷釉。本发明选用的配方适合于采用一次施釉工艺，陶瓷釉釉面平整度高，晶质细致精密、光洁度好、无针孔、玻璃感极柔极佳，触摸感觉非常平滑，并且达到超平滑釉面的自洁抗菌的永久效果。
文档编号C04B41/86GK101580342SQ200910040630
公开日2009年11月18日 申请日期2009年6月26日 优先权日2009年6月26日
发明者丁朝晖, 谢潮藩 申请人:潮州市澳丽泰陶瓷实业有限公司