专利名称：一种高压电瓷再生工艺方法
技术领域：
本发明涉及一种高压电瓷再生工艺。
背景技术：
根据现有资料统计分析，2011年我国电瓷生产产值约300亿元，在现有生产工艺条件下，电瓷生产过程中的瓷检合格率在80% 85%左右，出口灰釉产品70% 80%。其主要缺陷为开裂、针孔、铁点、碰瓷、缺釉、落砂。其中变形、开裂等共约占5% 8%左右，表面缺陷综合约占6% 10%。这一外观缺陷损失全国约有15亿元左右。对这些缺陷，过去的做法是采用有机材料进行修补。随着国内外电瓷产品对外观的要求越来越高，欧美市场及中亚高端客户现已禁止使用有机材料修补这一方法，这条路再也行不通了，如果不采取新的生产工艺进行补救，仅因外观缺陷而报废产品，将给社会造成巨大经济损失和环境污染。电瓷生产是一种劳动密集型产业，其生产技术水平和条件难以达到零缺陷的外观要求，根据这一状况，采取无机材料对电瓷再生产，使电瓷产品不因外表缺陷报废，进而有效的再生利用，可以说，电瓷再生技术具有广大的市场，如果该技术推广到全国电瓷行业，其经济效益每年将接近15亿元，节约瓷泥资源30万吨，节约标煤20万吨左右。
发明内容
本发明的目的就是提供一种利用无机材料，对有表面缺陷的电瓷产品进行再加工的生产方法，它不仅使部分已报废的产品重获新生，节约了能源，减少了次生垃圾的产生，变废为宝，而且大大地节约了瓷泥资源，有效地提高了劳动价值，保护了环境。本发明的技术方案是通过以下途径实现的它的主要工艺流程是配色、制釉、喷涂、上釉、烧成。其中配色工艺要求调配出相应颜色的无机釉料，该无机釉料的外观颜色必须与可再生产品的色彩完全一致，并与其膨胀系数相兼容。制釉工艺中，釉的粘度值控制在180 220帕斯卡 秒，表面张力为0. 25 0. 35N/m，润湿角大于90°。上釉工艺中，对有缺陷的电瓷产品的缺陷处进行精细的打磨抛光，然后再喷上一层薄薄的再生釉，釉层厚度控制在0. 15 0. 25mm之间。烧成工艺中，产品烧成温度控制在700°C 1000°C，且在釉中加入70% 85%已经烧制好的低温石英熔块，8% 20%的高岭土，2% 8%的与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂。升温曲线20(TC之前，升温速度不大于30°C /h，50(TC 600°C，升温速度不大于200C /h，700°C 釉玻化，升温速度40°C /h，保温I小时。降温曲线停火 600°C为快速降温，降温速度大于60°C /h，600°C 室温加15°C为缓慢降温，降温速度小于30°C /h。
本发明不仅使部分已报废的产品重获新生，节约了能源，减少了次生垃圾的产生，变废为宝，而且大大地节约了瓷泥资源，有效地提高了劳动价值，保护了环境。
具体实施例方式本发明的具体实施方式
。本发明的技术方案是 通过以下途径实现的，它的主要工艺流程含配色、制釉、上釉、烧成。其中配色工艺是调配出相应颜色的无机釉料，该无机釉料的外观颜色要求与可再生的产品色彩完全一致，并与其膨胀系数相兼容。制釉工艺中，釉的粘度值控制在180 220帕斯卡 秒，表面张力为0. 25 0. 35N/m，润湿角大于90°。上釉工艺中，对有外表缺陷的电瓷产品打磨抛光，然后再喷上一层再生釉，釉层厚度控制在0. 15 0. 25mm之间。烧成工艺中，产品烧成温度控制在700°C 1000°C，且在釉中加入70% 85%已经烧制好的低温石英熔块，8% 20%的高岭土，2% 8%的与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂，本发明采用的乳浊剂为硅酸锆。升温曲线20)°C之前，升温速度不大于30°C /h ;500°C 600°C，升温速度不大于200C /h ；700°C~ 1000°C釉玻化。升温速度40°C /h，保温2小时；降温曲线停火 600°C为快速降温，降温速度大于60°C /h ;600°C 室温加15°C为缓慢降温，降温速度小于30°C /h。低温石英熔块主要化学成分和重量百分比如下SiO2 :43 % 48 %、Al2O3 :5 % 7 %、MgO :2. 0 % 2. 4 %、K2O :6. 5 % 8. 5 %、Na2O :4. 5% 6. 3%, CaO :9% 12%高岭土主要化学成分和重量百分比如下SiO2 :53 % 59 %、Al2O3 :23 % 28 %、Fe2O3 ^ 2. 2 K2CHNa2O ^ 2. 5I.L.(灼减):彡 15%具体的工艺操作过程如下首先对再生电瓷产品外观进行分类，分析测量，制定出修复范围，并对来样釉色，根据釉基，调整不同的颜料进行配制。采用高速研磨机研磨和马弗炉烧制，颜色力求与可再生产品釉色达到一致。缺釉面积过大的需对釉缺口边缘采用微型磨头打磨出一个釉面过渡层。将可再生品进烘房加热，加热至40°C 50°C，保温2小时。再用微型喷枪将调制好的再生釉喷涂在再生品表面上，喷釉厚度在0. 15
0.25mm之间，新老釉面必须逐步过渡，釉层厚度逐步减薄，做到不流釉，不堆釉，平整均匀。
干燥后直接进窑。按产品类别分别装窑，装窑时需对窑具，产品吹灰，去尘。保持釉面洁净。按升温曲线烧成12 18个小时，保温0. 5 I. 5小时后按降温曲线降温18 24个小时。出窑后对表面进行抛光并检查出厂。
权利要求
1.一种高压电瓷再生工艺，它的主要工艺流程含配色、制釉、上釉，烧成，其特征在于所述的 A)配色工艺是配出相应颜色的无机釉料，该无机釉料的外观颜色力求与可再生的产品色彩完全一致，并与其膨胀系数相兼容； B)制釉工艺中，釉的粘度值控制在180 220帕斯卡 秒，表面张力为O.25 O. 35N/m,润湿角大于90° ; C)上釉工艺中，对可再生电瓷产品进行精细的打磨抛光，然后再喷上一层再生釉，釉层厚度控制在O. 15 O. 25mm之间； D)烧成工艺中，产品烧成温度控制在700°C 1000°C，且在釉中加入70% 85%已经烧制好的低温石英熔块，8 % 20 %的高岭土，2 % 8 %的与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂； 升温曲线200°C之前，升温速度不大于30°C /h ;500°C 600°C，升温速度不大于200C /h ;700°C 1000°C釉玻化，升温速度40°C /h，保温I. 5 2. 5小时； 降温曲线停火 600°C为快速降温，降温速度大于60°C /h，600°C 室温加15°C为缓慢降温，降温速度小于30°C /h。
2.根据权利要求I所述的一种高压电瓷再生工艺，其特征在于所述的低温石英熔块主要化学成分和重量百分比为Si02 : 43% 48%、A1203 :5% 7%、MgO :2. 0% 2. 4%,K2O 6.5% 8. 5%, Na2O 4. 5% 6. 3%, CaO :9% 12%。
3.根据权利要求I所述的一种高压电瓷再生工艺，其特征在于所述的高岭土主要化学成分和重量百分比为=SiO2 53%~ 59%, Al2O3 23%~ 28%, Fe2O3 ≤ 2. 2%、K2CHNa2O ≥2. 5%、灼减≤ 15%。
4.根据权利要求I所述的一种高压电瓷再生工艺，其特征在于所述的乳浊剂为硅酸锆。
全文摘要
本发明涉及一种高压电瓷再生工艺。它的主要工艺流程是配色、制釉、喷涂、上釉、烧成。配色工艺要求无机釉料的外观颜色与可再生产品的色彩一致，并与其膨胀系数相兼容。制釉工艺中，控制好釉的粘度值、表面张力和润湿角。上釉工艺中，对有缺陷的电瓷产品的缺陷处进行精细的打磨抛光，然后再喷上一层薄薄的再生釉，控制好釉层厚度。烧成工艺中，产品烧成温度控制在700℃～1000℃，且在釉中加入已经烧制好的低温石英熔块，高岭土，与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂。本发明不仅使部分已报废的产品重获新生，节约了能源，减少了次生垃圾的产生，变废为宝，而且大大地节约了瓷泥资源，有效地提高了劳动价值，保护了环境。
文档编号C04B41/86GK102627477SQ201210114248
公开日2012年8月8日 申请日期2012年4月18日 优先权日2012年4月18日
发明者殷杨合 申请人:殷杨合