电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法以及电子设备用覆盖玻璃的制造方法

电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法以及电子设备用覆盖玻璃的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种适用于少量多品种生产的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法以及电子设备用覆盖玻璃的制造方法。电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法包括使用一对模具将熔融玻璃块加压成型的成型工序，根据将上述熔融玻璃加压成型时的一对模具的相对位置上的温度差和加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度之间的相关性，求出能够实现电子设备用覆盖玻璃所要求的平坦度的上述一对模具的温度差，按照使一对模具的温度处于上述所求出的温度差以内的方式来控制上述一对模具的温度的同时进行加压成型。
【专利说明】电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法以及电子设备用覆盖
玻璃的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法以及电子设备用覆盖玻璃的制造方法。
【背景技术】
[0002]例如,手机、掌上电脑(PDA, Personal Digital Assistant)、数码相机、摄像机等作为电子设备的便携式设备上，以保护显示画面为主要目的，使用便携式设备用覆盖玻璃。近年来，针对便携式设备的薄型化和轻量化的要求、以及针对便携式设备的使用形态(设备的落下或者通过触摸屏输入等)的耐损伤性和耐冲撞性等要求，作为电子设备用覆盖玻璃的便携式设备用覆盖玻璃，要求薄且机械强度高。因此，为了满足这些要求特征，制造有实施化学强化的薄的玻璃基板。专利文献I中公开了关于对含有锂离子或钠离子的板状玻璃实施化学强化的内容。
[0003]另外，过去制造便携式设备用覆盖玻璃时作为板状玻璃(或者玻璃基板)的制造方法采用了浮法或下拉法等。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
`[0006]专利文献1:特开2009-13052号公报
【发明内容】

[0007]但是，近年来，除了便携式设备的薄型化或高性能化以外，还为了应对各种形状的便携式设备的壳体和显示画面而需要少量地制造各种形状的覆盖玻璃、即要求进行少量多品种生产。但是，上述的浮法和下拉法要使用大体积的玻璃溶解设备，这种设备适用于大批量生产同一形状的玻璃基板，但不适用于少量多品种生产。
[0008]另一方面，作为适用于少量多品种生产的板状玻璃(玻璃雏形)的制造方法，可以考虑加压法。公知的加压法是将熔融玻璃块供给到下模具上，并用上模具将熔融玻璃的块(熔融玻璃块)加压成型的方法(垂直直接加压法)。但是，该方法存在所制造的玻璃雏形的平坦度(形状精度)差的问题。
[0009]原因如下。垂直直接加压法中，将熔融玻璃块配置在被旋转台子支撑的下模具上到开始进行加压成型为止的期间，下模具被高温熔融玻璃加热。因此，热容易传导到支撑下模具的旋转台子上，使旋转台子受热而发生变形。结果，导致玻璃雏形的板厚偏差或平坦度等形状精度下降。
[0010]另外，垂直直接加压法中，将熔融玻璃块刚刚配置在下模具上后，仅有熔融玻璃块中的与下模具接触的接触面和与接触面相近的部分快速冷却。因此，快要加压成型的熔融玻璃块内部的粘度分布(温度分布)范围变得很宽。即，在快要加压成型时，熔融玻璃块内部的下侧和上侧之间的粘度差变得比较大。如果该状态下进行加压成型，则会导致玻璃雏形的板厚偏差增大和平坦度下降。造成玻璃雏形的板厚偏差增大和平坦度下降的原因是由于下模具上配置熔融玻璃块到开始进行加压成型为止的期间存在时间差，因此在垂直直接加压法中无法彻底抑制这种情形。
[0011 ] 进一步，在垂直直接加压法中，为了防止熔融玻璃块粘贴在下模具上而无法去除，需要在下模具上涂布例如BN (氮化硼)等固体润滑剂。但是，如果这样的固体润滑剂附着在玻璃雏形上，则使透明度变差。因此，在通过垂直直接加压法制造的玻璃雏形中，为了改善其平坦度以及剥离固体润滑剂，在后续工序中需要进行主表面的加工工序。因此，现有的加压成型法不适用于电子设备用覆盖玻璃雏形的制造。
[0012]本发明的目的在于提供一种适用于少量多品种生产的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法和电子设备用覆盖玻璃的制造方法。
[0013]针对上述课题发明人进行的认真的研究，结果提出了新的加压成型方法。即，在本实施方式的玻璃雏形的制造方法中，采用通过在相对于熔融玻璃块的落下方向呈垂直的方向(水平方向)上相对而置地配置的一对模具(加压成型模具)，将落下中的熔融玻璃块加压成型的水平直接加压法。在该水平直接加压法中，熔融玻璃块在直到加压成型为止期间，不会被暂时地接触并保持于温度低于熔融玻璃块的部件。从这点上，与现有的垂直直接加压法不同。因此，在加压成型的开始直前的时点中，在垂直直接加压法中，熔融玻璃块内部的粘度分布在加压成型时变得非常宽，相对于此，本实施方式的水平直接加压法中，熔融玻璃块的粘度分布保持均匀。
[0014]因此，与垂直直接加压法相比，水平直接加压法中，能够很容易地将被加压成型的熔融玻璃块均匀较薄地拉伸。因此，其结果为与利用垂直直接加压法来制造玻璃雏形的情况相比，利用水平直接加压法来制造玻璃雏形时，能够很容易地彻底抑制平坦度的降低。
[0015]另外，当将熔融玻璃块加压成型时的一对模具的相对位置上的温度差较小时，与该温度差较大时相比，能够降低所生成的玻璃雏形的平坦度。这是由于，一对模具间的温度差更小时，更容易实现高温的熔融玻璃块接触于模具内侧的加压面(内周面)而快速冷却时的热均衡。因此，更能够抑 制由冷却阶段中的一对模具间的微小热变形程度的差所引起而可能产生的玻璃雏形的平坦度的降低。即，将熔融玻璃块加压成型时的一对模具的相对位置上的温度差和加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度之间存在相关性。
[0016]如果该相关性为已知，则可知用以实现电子设备用覆盖玻璃所要求的平坦度的一对模具间的温度差(绝对值)的最大值。因此，通过将一对模具间的温度差控制在该最大值以下，能够实现电子设备用覆盖玻璃所要求的平坦度。
[0017]从上述观点来看，本发明是一种电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，该制造方法包括使用一对模具将熔融玻璃块加压成型的成型工序，其特征在于，根据将上述熔融玻璃加压成型时的一对模具的相对位置上的温度差和加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度之间的相关性，求出能够实现电子设备用覆盖玻璃所要求的平坦度的上述一对模具的温度差，按照使一对模具的温度成为上述求出的温度差以内的方式来控制上述一对模具的温度的同时进行加压成型。
[0018]上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法中，优选的是，在上述加压成型工序中，按照使上述一对模具的各模具与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具之间成为相同温度的方式进行加压。[0019]上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，将从上述块接触于上述模具至离开为止的上述一对模具的温度设为未达到上述熔融玻璃的玻璃转变温度Tg的温度。
[0020]上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，按照使通过上述加压成型工序得到的玻璃雏形的板厚成为与上述电子设备用覆盖玻璃所要求的板厚相同板厚的方式进行加压成型。
[0021]上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，优选的是，包括切割熔融玻璃使上述块朝向上述一对模具落下的切割工序，在上述切割工序中，按照使熔融玻璃的切割痕迹位于上述玻璃雏形的周边的方式切割熔融玻璃。
[0022]上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，优选的是，包括切割熔融玻璃使上述块朝向上述一对模具落下的切割工序，在上述加压成型工序中，在熔融玻璃的切割痕迹从上述一对模具露出时将熔融玻璃加压。
[0023]本发明的电子设备用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，使通过上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法制造的玻璃雏形中残留着所产生的变形的状态下，进行将上述玻璃雏形加工成电子设备用覆盖玻璃的形状的形状加工工序。
[0024]本发明的电子设备用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，维持通过上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法制造的玻璃雏形的主表面的表面状态，按照使上述玻璃雏形的主表面成为电子设备用覆盖玻璃的主表面的方式进行将上述玻璃雏形的外周形状加工成电子设备用覆盖玻璃的外周形状的形状加工工序。
[0025]本发明的电子设备用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，使用上述电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法得到的电子设备`用玻璃雏形来制造电子设备用覆盖玻璃。
[0026]根据本发明，能够制造出适用于少量多品种生产的电子设备用覆盖玻璃雏形和电子设备用覆盖玻璃。
【专利附图】

【附图说明】
[0027]图1为表示实施方式的便携式设备用覆盖玻璃构成的图；
[0028]图2为表示实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法的一个实施方式的流程图；
[0029]图3为实施方式的加压成型中使用的装置的俯视图；
[0030]图4为表示实施方式的加压成型中使用的装置的四组加压单元的配置图；
[0031]图5为表示利用料滴形成模具的实施方式的加压成型的变形例的图；
[0032]图6为表示没有利用切割单元的实施方式的加压成型的变形例的图；
[0033]图7为表示使用在软化炉中加热的光学玻璃的实施方式的加压成型的变形例的图；
[0034]图8为表示从玻璃雏形去除切割痕迹的构成例的图；
[0035]图9为表示在玻璃雏形上不产生切割痕迹的构成例的图；
[0036]图10为表示用于在玻璃雏形上不产生切割痕迹的加压成型的变形例的图；
[0037]图11为表示三维形状的便携式设备用覆盖玻璃的外观形状的一个例子的图；
[0038]图12为具体表示制造图11中例示的便携式设备用覆盖玻璃用的玻璃雏形时使用的加压成型方法的图。
【具体实施方式】
[0039]在以下实施方式中，作为电子设备用覆盖玻璃雏形和电子设备用覆盖玻璃，分别以便携式设备用覆盖玻璃雏形和便携式设备用覆盖玻璃为例子进行说明。
[0040](I)第一实施方式
[0041](1-1)实施方式的覆盖玻璃
[0042]参照图1说明本实施方式的覆盖玻璃的构成。图1中，图1 (a)为一形状例子的本实施方式的覆盖玻璃的立体图，图1 (b)为本实施方式的覆盖玻璃的截面图。
[0043]本实施方式的覆盖玻璃是玻璃基板本身或者是在玻璃基板上形成印刷层的覆盖玻璃(图1中表示后者的构成)。本实施方式的覆盖玻璃的优选的利用方式是例如使用于便携式电子设备、尤其是手机(便携式设备)的显示画面上。因此，本实施方式的覆盖玻璃为了满足设备落下或对显示画面进行输入操作(作为触摸屏功能的输入操作)的要求，该覆盖玻璃要求薄且具有高强度。为此，本实施方式的覆盖玻璃由包含能够通过离子交换处理来进行化学强化的碱性金属氧化物的玻璃材料构成。
[0044]例如优选使用铝硅酸盐玻璃或者钠钙玻璃等公知的玻璃材料，其中，所述铝硅酸盐玻璃包含SiO2、Al2O3、以及选自Li2O和Na2O的至少一种碱性金属氧化物。
[0045]作为铝硅酸盐玻璃，从板状玻璃的制造性、机械强度、化学耐久性等实用性方面考虑，优选包含62-75重量％的Si02、5-15重量％的A1203、0-8重量％的Li20、4-16重量％的Na20、0-6重量％的K20、0-12重量％的Zr02、0-6重量％的MgO。
[0046]参照图1 (b)，本实施方式的玻璃基板10的表面侧和背面侧的表层部分上分别形成有压缩应力层IOU和压缩应 力层10V。所述压缩应力层IOU和压缩应力层IOV是将构成玻璃基板的玻璃材料中原本包含的碱性金属的一部分取代为离子半径更大的碱性金属的变质层。例如，构成本实施方式的玻璃基板的玻璃材料中包含的钠离子被取代为钾离子。
[0047]另外，压缩应力层10UU0V的厚度是根据玻璃基板的用途来进行适当选择，但从确保主表面10TU0B的耐损伤性或者玻璃基板10的耐冲撞性的方面考虑，其厚度优选为10 μ m以上，更加优选为30 μ m以上，进一步更加优选为40 μ m以上。另外，压缩应力层10U、IOV厚度的上限并没有特别限定。另外，从防止离子交换处理所需的时间增加或者通过外形加工(切割加工、湿式蚀刻)进行切割时因两个主表面的应力平衡恶化而导致的玻璃基板10在制造中发生自发性粉碎(自爆)等实用性方面考虑，其厚度优选为100 μ m以下，更加优选为70μπι以下。另外，压缩应力层IOU的厚度和压缩应力层IOV的厚度可以不一样。但是，当厚度不同时玻璃基板10的两个主表面10TU0B中的应力平衡遭到破坏，玻璃基板10容易产生弯曲。因此，通常优选的是将压缩应力层IOU的厚度和压缩应力层IOV的厚度做成大致相同。
[0048]玻璃基板10的板厚T并没有特别限定，但从抑制利用玻璃基板10的各种设备的重量增加或者设备的薄型化的方面考虑，通常优选为Imm以下，更加优选为0.7mm以下。另外，从确保玻璃基板10的机械强度的方面考虑，板厚的下限值优选为0.2mm以上。
[0049]另外，本实施方式的玻璃基板10可以仅由玻璃基板10主体构成，但根据玻璃基板10的利用用途，如图1所示，还可以是在玻璃基板的两个主表面10TU0B的任意一个面上设置一层以上的装饰层20。作为装饰层20，可以举例(I) AR涂层(具有抗反射涂层、防眩光涂层、半反射涂层、偏振光膜等具有光学功能的层)；(2)以铟锡氧化物(ITO，Indium TinOxide)为代表的具有透明电极膜等具有电学功能的层；(3)印刷层等具有提高美观度功能的层等。另外，还可以通过将多种装饰层20进行层压、图案形成加工等，在玻璃基板10上附加作为触摸屏的功能。
[0050](1-2)实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法
[0051]接着，参照图2说明便携式设备用覆盖玻璃的制造工序。图2为表示便携式设备用覆盖玻璃的制造工序的流程图。
[0052]如图2所示，在该便携式设备用覆盖玻璃中，首先在加压成型工序中将熔融玻璃进行加压成型而制造玻璃雏形(步骤S10)。接着，对通过加压成型得到的玻璃雏形实施形状加工，由此制造具有所需形状的玻璃基板(步骤S20)。接着，对玻璃基板实施化学强化而在玻璃基板的表层部分形成压缩应力层(步骤S30)。进一步，根据需要在玻璃基板的表面上设置由单层或者多层构成的装饰层(步骤S40)。
[0053]以下，详细说明各个工序。
[0054](a)加压成型工序
[0055]首先参照图3说 明加压成型工序(步骤S10)。图3为加压成型中使用的装置的俯视图。如图3所示，装置101包括，四组加压单元120、130、140、150和切割单元160。切割单元160设置在从熔融玻璃流出口 111流出的熔融玻璃的路径上。装置101使通过切割单元160切割而形成的熔融玻璃的块(以下，还可称之为料滴)落下，此时从块的落下路径两侧用相对而置的一对模具的面将块夹持并进行加压，由此成型玻璃雏形。
[0056]具体而言，如图4所示，装置101以熔融玻璃流出口 111为中心隔90度设置四组加压单元120、130、140和150。
[0057]加压单元120、130、140和150的各单元分别通过未图示的移动机构被驱动，并且相对于熔融玻璃流出口 111能够进退。即，能够在位于熔融玻璃流出口 111的正下方的夹持位置(图3中加压单元140用实线描绘的位置)和从熔融玻璃流出口 111远离的退避位置(图3中加压单元120、130和150用实线描绘的位置以及加压单元140用虚线描绘的位置)之间移动。
[0058]切割单元160设置在夹持位置(加压单元捕获料滴的捕获位置)和熔融玻璃流出口 111之间的熔融玻璃的路径上，通过适当地切割从熔融玻璃流出口 111流出的熔融玻璃而形成熔融玻璃的块。切割单元160具有一对切割刀161和162。切割刀161和162按照在熔融玻璃的路径上以规定时刻交叉的方式被驱动，当切割刀161和162交叉驱动时，熔融玻璃被切割而得到料滴。所得到的料滴朝向夹持位置落下。
[0059]加压单元120包括第一模具121、第二模具122、第一驱动部123和第二驱动部124。第一模具121和第二模具122分别是具有用以将料滴加压成型的面的板状部件。该两个面的法线方向大致呈水平方向，并以该两个面相互平行地相对而置的方式配置。第一驱动部123使第一模具121相对于第二模具122进退。另外，第二驱动部124使第二模具122相对于第一模具121进退。第一驱动部123和第二驱动部124包括例如气缸或者将螺旋管和螺旋弹簧组合而成的机构等使第一驱动部123的面和第二驱动部124的面快速接近的机构。[0060]另外，加压单元130、140和150的结构与加压单元120的结构相同，因此在此省略其说明。
[0061]各个加压单元移动至夹持位置后，通过第一驱动部和第二驱动部的驱动，将落下的料滴用第一模具和第二模具夹持而成型为规定厚度的同时快速冷却，由此制造圆形状的玻璃雏形G。接着，加压单元移动至退避位置后，使第一模具和第二模具分开，从而使成型的玻璃雏形G落下。在加压单元120、130、140及150的退避位置下方分别设置有第一传送机171、第二传送机172、第三传送机173及第四传送机174。第一传送机171-第四传送机174分别承载从所对应的各加压单元落下的玻璃雏形G，并将该玻璃雏形G输送到下一个工序的装置(未图示)上。
[0062]在装置101中，加压单元120、130、140和150按照依次移动至夹持位置，夹持料滴后移动至退避位置的方式构成。因此，各个加压单元中不用等待玻璃雏形G的冷却，能够连续地进行玻璃雏形G的成型。
[0063]图4 (a)-(C)更加具体说明利用装置101的加压成型。图4 (a)为表示制作料滴之前的状态的图，图4 (b)为表示通过切割单元160制作料滴后的状态的图，图4 (c)为表示通过将料滴进行加压而成型玻璃雏形G的状态的图。
[0064]如图4所示，熔融玻璃材料Le连续地从熔融玻璃流出口 111流出。此时，以规定的时刻驱动切割单元160，并通过切割刀161和162切割熔融玻璃材料Le (图4 (b))。由此，被切割的熔融玻璃由于其表面张力而成为大致呈球状的料滴Ge。熔融玻璃材料Le的单位时间的流出量、以及切割单元160的驱动间隔，可以根据由所要达到的玻璃雏形G的大小或者板厚决定的体积来进行适当调整。
[0065]制作的料滴Ge朝向加压单元120的第一模具121和第二模具122之间的间隙落下。此时，按照当料滴Ge进入第一模具121和第二模具122之间的间隙时第一模具121和第二模具122相互接近的方式驱动第一驱动部123和第二驱动部124(参照图4)。由此，如图4 (c)所示，料滴Ge被第 一模具121和第二模具122捕获(夹持)。进一步，第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a接近后呈具有微小间隔的状态，被夹持在第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a之间的料滴Ge成型为薄板状。
[0066]另外，为了将第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a的间隔维持在规定间隔，在第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a上分别设置有突起121b和突起122b。即，通过突起121b和突起122b相互抵接来使第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a之间的间隔维持在规定间隔，由此形成与玻璃雏形G外形相对应的空间。
[0067]第一模具121和第二模具122上设置有未图示的温度调节机构，由此将第一模具121和第二模具122的温度保持在比熔融玻璃Le的玻璃转变温度Tg低很多的温度上。
[0068]另外，将料滴Ge加压成型时的第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a的相对位置上的温度差和加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度之间存在相关性。即，第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a的相对位置上的温度差越小加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度越好。这是因为，一对模具之间的温度较为接近时高温料滴Ge与模具的加压面接触而快速冷却时能够实现热均衡，因此能够更加有效地防止在冷却阶段由于一对模具之间存在微小的热变形程度的差异而导致的玻璃雏形的平坦度的下降。
[0069]在此，如果该相关性为已知，则会知道用以实现便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度的一对模具之间(第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a之间)的温度差(绝对值)的最大值。因此，通过将一对模具之间的温度差控制在最大值以下，由此能够实现便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度。例如，如果便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度为8 μ m，则在一对模具之间的上述温度差为10°C以内的状态下进行加压成型。一对模具之间的上述温度差为0°C时所制造的玻璃雏形的平坦度最好。但是，还可以是，根据便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度，从上述相关性适当决定上述温度差。
[0070]装置101中，从料滴Ge接触到第一模具121的加压面121a或者第二模具122的加压面122a到第一模具121和第二模具122将料滴Ge完全关闭的时间非常短，大约0.06秒。因此，料滴Ge在很短的时间内沿第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a扩展而成型为大致圆形状，进一步快速冷却后固化成非晶质的玻璃。由此，制造玻璃雏形G。另外，在本实施方式中成型的玻璃雏形G的大小根据最终目的的覆盖玻璃的大小来确定，例如，直径(或者一边的长度)为20-200mm程度。
[0071]另外，在本实施方式的加压成型方法中，玻璃雏形G是通过第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a的形状被转印的方式形成，因此优选的是将一对模具的加压面的平坦度和平滑性要做成与最终目的的覆盖玻璃的平坦度和平滑性相同。此时，可以不需要加压成型后针对玻璃雏形G进行表面加工工序、即不需要进行研削和研磨工序。即，本实施方式的加压成型方法中成型的玻璃雏形G的板厚与最终得到的覆盖玻璃的目标板厚相同即可。例如，玻璃雏形G是厚度为0.2-1.1mm的圆形状的板。将加压面121a和加压面122a的表面粗糙度按照使玻璃雏形G的算数平均粗糙度Ra达到0.001-0.1 μ m，优选达到0.0005-0.05 μ m的方式进行调整。
[0072]第一模具121和第二模具122关闭之后，加压单元120快速移动至退避位置，替代而之，另外的加压单元130移动至`夹持位置，通过该加压单元130进行料滴Ge的加压。
[0073]加压单元120移动至退避位置后，直到玻璃雏形G充分冷却为止(至少成为比变形点低的温度为止)，第一模具121和第二模具122维持在关闭的状态。然后，第一驱动部123和第二驱动部124被驱动而使第一模具121和第二模具122分开，玻璃雏形G脱离加压单元120而落下，并承载于位于下方的传送机171上(参照图3)。
[0074]装置101中，如上所述，在0.1秒以内(大约0.06秒)的非常短的时间内关闭第一模具121和第二模具122，因此熔融玻璃大致同时与整个第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a接触。因此，第一模具121的加压面121a和第二模具122的加压面122a不会被局部地加热，加压面121a和加压面122a几乎不会发生变形。另外，热从熔融玻璃向第一模具121和第二模具122传导之前熔融玻璃被压延，因此所成型的熔融玻璃的温度分布大致相同。因此，熔融玻璃冷却时，玻璃材料的收缩量的分布小，玻璃雏形G不会发生大的变形。因此，所制造的玻璃雏形G的主表面的平坦度与现有的通过上下模具的加压成型制造的玻璃雏形相比平坦度提高。
[0075]另外，图4所示的例子中，利用切割刀161和162切割流出的熔融玻璃Le，由此形成大致球状的料滴Ge。但是，熔融玻璃材料Le的粘度相对于所要切出的料滴Ge的体积小时，只通过切割熔融玻璃Le无法使被切割的玻璃呈大致球状，因此无法制作料滴。这种情况下，利用用以制作料滴的料滴形成模具。
[0076]图5 (a)-(C)为说明图4所示的实施方式的变形例的图。在该变形例中利用料滴形成模具。图5 Ca)为表示制作料滴前状态的图，图5 (b)为表示通过切割单元160和料滴形成模具180制作料滴Ge的状态的图，图5 (c)为表示将料滴Ge加压成型而制作玻璃雏形G的状态的图。
[0077]如图5 (a)所示，加压单元120还包括模块181、182。模块181、182按照在相互接近和分开的方向上能够位移的方式配置。另外，模块181、182是通过驱动装置(未图示)按照能够同时关闭和开启熔融玻璃Le的路径的方式被驱动。如果在熔融玻璃Le的路径上关闭模块181、182，则熔融玻璃Le的路径被堵住。并且，通过用模块181、182制作的凹部180C，承载切割单元160中被切割的熔融玻璃Le。然后，如图5(b)所示，通过开启模块181、182，使凹部180C中的呈球状的熔融玻璃Le —次性地朝向加压单元120落下，由此熔融玻璃Le变成球状的料滴Ge。如图5 (c)所示，球状的料滴Ge被夹持在第一模具121和第二模具122之间而被加压成型，由此，制造圆形状的玻璃雏形G。
[0078]或者，如图6 (a)-(d)所示，装置101还可以是不使用图5 (a)-(C)所示的切割单元160，而是使用使料滴形成模具180沿熔融玻璃Le的路径向上游侧方向或者下游侧方向移动的移动机构。图6 (a)-(d)为说明使用料滴形成模具180的变形例的图。图6
(a)、(b)为表示制作料滴Ge前的状态的图，图6 (c)为表示通过料滴形成模具180制作料滴Ge的状态的图，图6 (d)为表示将料滴Ge加压成型而制作玻璃雏形G的状态的图。
[0079]如图6 (a)所示，由模块181、182共同形成的凹部180C承载从熔融玻璃流出口111流出的熔融玻璃U。并且，如图6 (b)所示，在规定时刻使模块181、182快速向熔融玻璃Le的流动的下游侧移动。由此，熔融玻璃Le被切割而形成料滴Ge。然后，在规定时刻，如图6 (c)所示，使模块181、182分开。由此，被模块181、182保持的熔融料滴Ge —次性地落下。如图6 (d)所示，料滴Ge在落下途中被第一模具121和第二模具122夹持而被加压成型，由此，制造圆形状的 玻璃雏形G。
[0080]图7 (a)-(C)为说明代替Ge的用未图示的软化炉加热的光学玻璃块Cp落下，且在落下图中被两侧的模具221、222夹持而被加压成型的变形例的图。图7 (a)为表示成型加热的光学玻璃块之前的状态的图，图7 (b)为表示光学玻璃块的落下状态的图，图7 (c)为将光学玻璃块加压成型而制作玻璃雏形G的状态的图。
[0081]如图7 (a)所示，装置201用玻璃材料把持机构212将光学玻璃块Cp输送至加压单元220的上部。并且，如图7 (b)所示，在该位置上装置201放开通过玻璃材料把持机构212进行的光学玻璃块Cp的把持,使光学玻璃块Cp落下。如图7 (c)所不,光学玻璃块Cp在落下途中被第一模具221和第二模具222夹持而被成型为圆形状的玻璃雏形G。第一模具221和第二模具222的结构和作用与图5所示的第一模具121和第二模具122相同，因此在此省略其说明。
[0082]<用以控制切割痕迹位置的变形例>
[0083]利用以上详细说明的装置101的加压成型中，用一对切割刀161和162切割料滴Ge，在所得到的玻璃雏形G上会残留切割痕迹。如果切割痕迹最终残留在便携式设备用覆盖玻璃上，则会导致品质问题，因此需要用后续工序去除切割痕迹。但是，玻璃雏形G上的切割痕迹位置如果每个玻璃雏形之间有偏差，则在后续的形状加工工序中无法稳定地切出所需形状的玻璃基板，因此存在成品率下降的担心。因此，优选的是，用一对切割刀161和162切割料滴Ge时，按照使切割痕迹位于成型的玻璃雏形周边的方式切割料滴Ge。根据发明人的研究结果，将一对切割刀161和162中位于上方的切割刀162做成比位于下方的切割刀161厚，由此使料滴Ge上产生的切割痕迹在落下过程中继续位于上方，即使在加压过程中料滴Ge上的切割痕迹的位置不发生变化，最终使切割痕迹产生于玻璃雏形G的周边(加压过程中上方的周边)。此时，例如将上方的切割刀161的厚度做成1.5mm，下方的切割刀162的厚度做成1.0mm。
[0084]<用以去除切割痕迹的变形例1>
[0085]另外，还可以是，在玻璃雏形G上不产生切割痕迹本身来取代控制玻璃雏形G上的切割痕迹位置的方式。以下，参照图8说明从玻璃雏形G去除切割痕迹的构成例。另外，图8和图4是相同形式的图。图8 Ca)为熔融玻璃材料Le和切割单元160接触前的侧视图。图8 (b)为切割单元160切出熔融玻璃材料Le后的侧视图。图8 (c)为加压单元120将熔融玻璃块Ge加压成型的状态的侧视图。图8 (d)为去除从加压单元露出的熔融玻璃或者软化的玻璃的状态的侧视图。
[0086]如图8所示，本变形例的设备还包括切割刀165，除了切割刀165以外的结构与图3所示的结构相同。本变形例的切割刀165是在第一模具121和第二模具122的上端能够向水平方向进退地被驱动的刀，设置该切割刀165是用以切割从加压单元120露出的状态的熔融或者软化的玻璃。
[0087]图8 (a)、(b)分别与图4 (a)、(b)相同。在本变形例中，进行加压时料滴Ge中至少包含切割痕迹T的部分露出的时刻第一驱动部123和第二驱动部124驱动第一模具121和第二模具122。由此，如 图8 (c)所示，料滴Ge中没有包含切割痕迹T的部分被捕获(夹持)于第一模具121和第二模具122之间，切割痕迹T呈从加压单元120露出的状态。接着，如图8 (d)所示，切割刀165去除从加压单元120露出的熔融或者软化的玻璃。另外，切割刀165只要能够去除从加压单元120露出的玻璃，其形状和材质没有限定。
[0088]<用以去除切割痕迹的变形例2>
[0089]接着，参照图9和图10说明在玻璃雏形G上不会产生切割痕迹的其它构成例。图9 Ca)为该变形例的加压单元320所包括的第一模具321和第二模具322的俯视图。图9
(b)为本实施方式的加压单元220的侧视图。
[0090]如图9(a)所示，本实施方式的第一模具321和第二模具322的形状是将大致呈圆形状的弧的一部分切除成直线状的形状。第一模具321和第二模具322是按照将弧的一部分切除成直线状的直线部L位于垂直上方的方式形成。如图9(b)所示，第一模具321和第二模具322按照开启状态时用以将料滴加压成型的面的法线方向相对于水平方向呈倾斜的状态下相对而置的方式配置。另外，在第一模具321的加压面321a和第二模具的加压面322a上分别设置有突起321b和突起322b，以使关闭状态下第一模具321的加压面321a和第二模具322的加压面322a的间隔维持在规定间隔，且在加压单元320内形成板状空间。
[0091]接着，参照图10所示的侧视图说明该变形例的加压成型工序。图10为与图4相同方式的图。即，图10 (a)为熔融玻璃材料Le与加压单元320接触前的俯视图。图10 (b)为加压单元320切出熔融玻璃材料Le后的侧视图。图10 (c)为加压单元320将熔融玻璃块Ge加压成型的状态的侧视图。[0092]如图10 (a)所示，熔融玻璃材料Le连续地从熔融玻璃流出口 111流出。此时，如图10 (a)中用箭头表示，第一模具321和第二模具322分别向水平方向移动。然后，配置在第一模具321上部的直线部L和配置在第二模具322上部的直线部L相互接触，由此，如图10 (b)所示，熔融玻璃材料Le被切割。另外，熔融玻璃材料Le被切割而形成料滴Ge。此时，切割痕迹T位于各直线部L的附近。
[0093]如图10 (b)中用箭头表示，第一模具321和第二模具322在保持各直线部L接触的状态下，第一模具321和第二模具322的各下端按照使第一模具321和第二模具322关闭的方式移动。由此，如图10 (c)所示，料滴Ge被捕获(夹持)于第一模具321和第二模具322之间，由此制造玻璃雏形G。在该方法中，通过各直线部L接触而形成的料滴Ge的切割痕迹T位于各直线部L附近时，料滴Ge被加压成型。因此，在玻璃雏形G上不会产生切割痕迹。
[0094](b)形状加工工序
[0095]接着，说明形状加工工序(步骤S20)。
[0096]本实施方式的玻璃雏形的制造方法中，通过前工序的加压成型工序制造的玻璃雏形具有很高的平坦度和平滑性，因此不用进行将玻璃雏形重新加热后去除玻璃雏形上产生的变形的退火工序，可以通过形状加工工序，将通过加压成型工序制造的玻璃雏形加工成所需的便携式设备用覆盖玻璃的形状。
[0097]即，能够在残留有玻璃雏形上产生的变形的状态下，进行将玻璃雏形加工成便携式设备用覆盖玻璃形状的形状加工工序。在此，玻璃雏形的表层部的变形为压缩应力层。该压缩应力层是如下地形成:当熔融玻璃块被一对模具加压时，热从熔融玻璃传导到模具而使熔融玻璃的表层侧比中心侧先冷却而固化，使熔融玻璃的中心侧比表层侧后冷却而固化而形成收缩差，通过该收缩差形成压缩应力层(即，相当于通过物理强化的压缩应力层)。
`[0098]形状加工工序是将在加压成型工序中得到的玻璃雏形加工成符合便携式设备用玻璃基板的外形要求的形状而得到玻璃基板的工序。作为将玻璃雏形加工成所需形状的切割方法，例如有蚀刻法、划线法等。
[0099]通过划线法的切割方法中为了将玻璃雏形加工为所需形状，通过由超钢合金制或者金刚石粒子构成的刻线机，在玻璃雏形表面上设置与所需形状的轮廓相一致的切割线(线状的切割痕)。然后，将玻璃雏形部分地加热，由此通过热膨胀使切割线成长而仅去除玻璃雏形中的所需的区域。
[0100]利用通过蚀刻进行的切割方法的形状加工工序，包括以下的(b-ι)耐蚀刻膜形成工序、(b-2)图案形成工序、(b-3)切割工序。以下，说明利用通过蚀刻进行的切割方法的形状加工工序。
[0101](b-1)耐蚀刻膜形成工序
[0102]耐蚀刻膜形成工序中，在玻璃雏形的至少侧面上形成耐蚀刻膜。该耐蚀刻膜通常形成于玻璃雏形的两面上，但在后续的切割工序中，当仅使单面接触于蚀刻溶液时，只要在该单面上形成耐蚀刻膜即可。另外，以下的说明中，以耐蚀刻膜形成于玻璃雏形的两面为前提进行说明。作为耐蚀刻膜，在后续图案形成工序中，只要具有通过图案形成处理能够部分地去除，且相对于切割工序中使用的蚀刻溶液不会被溶解和去除的性质，则可以适当地选择。作为这样的耐蚀刻膜，优选使用相对于氢氟酸水溶液显示出难溶性或者不溶性的抗蚀剂膜。此时，在图案形成工序中，将抗蚀剂膜能够通过利用光掩模的曝光处理和用显像液进行的显像处理进行图案形成处理，并在切割工序中利用蚀刻溶液进行切割。
[0103](b-2)图案形成工序
[0104]图案形成工序中，至少对耐蚀刻膜进行图案形成。由此，在覆盖玻璃雏形的整个表面的耐蚀刻膜中，去除最终制造的与玻璃基板的平面方向的形状相对应的区域以外的耐蚀刻膜。作为耐蚀刻膜的图案形成方法，有代表性的是，能够利用组合上述曝光和显像而实施的光刻法。另外，图案形成工序可以对两面上形成有耐蚀刻膜的玻璃雏形的至少一个面实施，也可以对两面实施。
[0105](b_3)切割工序
[0106]切割工序中，使玻璃雏形的设置有被图案形成的耐蚀刻膜的面与蚀刻溶液接触来进行蚀刻，由此将玻璃雏形切割成小片。蚀刻处理通常是将玻璃雏形浸溃于蚀刻溶液来进行。作为蚀刻溶液，只要是至少含有氢氟酸的溶液就没有特别限定，还可以是根据需要添加盐酸等其它的酸或者表面活性剂等各种添加剂。
[0107](C)化学强化工序
[0108]接着，说明化学强化工序(步骤S30 )。
[0109]化学强化工序中，将多个通过形状加工工序加工成所需形状的玻璃基板装在盒(支架)上，并将盒浸溃在含有熔融盐的化学强化处理液中。由此将玻璃基板中含有的一种以上的碱性金属在与熔融盐的碱性金属之间进行离子交换处理，由此在玻璃基板的表层部分上形成压缩应力层。
[0110]熔融盐的组成及温度、以及浸溃时间，可以根据玻璃基板的玻璃组成或者玻璃基板的表层部分形成的压缩应力层的厚度等来适当地选择，当玻璃基板的玻璃组成为上述的铝硅酸盐玻璃或钠钙玻璃时 ，优选利用将化学强化处理液的处理温度通常设为500°C以下的低温型离子交换法。这是因为，在玻璃的徐冷点以上的温度区域中进行离子交换的高温型离子交换法中，无法得到如低温型离子交换法中得到的大的强度，另外，在强化处理中玻璃表面被熔融盐侵蚀而透明性容易受损，因此难以得到适用于便携式设备用覆盖玻璃的玻璃基板。例如，本实施方式的化学强化工序中，熔融盐的组成及温度、以及浸溃时间，优选从下面例示的范围中选择。
[0111].熔融盐的组成:硝酸钾或硝酸钾与硝酸钠的混合盐
[0112].熔融盐的温度:320°C-470°C
[0113].浸溃时间:3分钟-600分钟
[0114](d)装饰层形成工序
[0115]接着，进行在被化学强化的玻璃基板10 —侧主表面上形成装饰层20的装饰层形成工序(步骤S40)。装饰层形成工序中，在玻璃基板10的主表面上，通过丝网印刷等公知的各种印刷方法或者公知的成膜方法形成装饰层20。作为公知的成膜方法，例如可以利用浸溃法、喷雾涂布法、溶胶凝胶涂布法、电镀法等公知的液相成膜法或者真空沉积法、溅射法、化学气相沉积法(CVD, Chemical Vapor Deposition)等公知的气相成膜法。
[0116]如以上说明一样，根据本实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法，包括用一对模具将熔融玻璃块加压成型的加压成型工序。由此，如果事先将一对模具的加压面的表面粗糙度设定在良好的水平(例如便携式设备用覆盖玻璃所要求的表面粗糙度)，则其表面粗糙度能够被转印作为通过加压成成型得到的玻璃雏形的表面粗糙度。因此，能够将玻璃雏形的表面粗糙度形成为良好水平。
[0117]另外，加压成型工序中，可以根据将熔融玻璃加压成型时的一对模具的相对应位置上的温度差和进行加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度之间的相关性，求出能够实现便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度的一对模具的温度差，并按照使一对模具的温度处于上述所求出的温度差以内的方式控制一对模具温度的同时进行加压成型。因此，在本实施方式的加压成型工序中得到的玻璃雏形能够使其主表面的表面粗糙度及平坦度达到便携式设备用覆盖玻璃所要求的水平。因此，在后续工序中不需要进行主表面的加工工序。换言之，按照维持玻璃雏形的主表面的表面状态，并使玻璃雏形的主表面成为便携式设备用覆盖玻璃的主表面的方式进行将玻璃雏形的外周形状加工成便携式设备用覆盖玻璃的外周形状的形状加工工序。
[0118]虽然对以该玻璃雏形为基础被加工成规定形状的玻璃基板实施了化学强化，但在本实施方式中并不会因实施化学强化而玻璃基板的平坦度恶化。因此，最终得到的便携式设备用覆盖玻璃为薄型且具有高机械强度、且平坦度比现有的覆盖玻璃高。
[0119]另外，本实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法中，在加压成型工序中制造的玻璃雏形的大小与便携式设备用覆盖玻璃的大小接近，并且能够依据该玻璃雏形加工成所需形状，因此适用于少量多品种生产。
[0120](2)第二实施方式
[0121]接着，说明第二实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法。
[0122]现有的便携式设备用覆盖玻璃主要是用以保护显示画面，其外形形状整体上几乎都是呈平坦形状。另一方面，被指出的是，作为用以保护便携式设备的壳体的部件，过去使用不锈钢，但这样的便携式 设备由于使用状况的不同而壳体的不锈钢的部分容易产生损伤，随着使用便携式设备的美观性降低。因此，除了用以保护便携式设备的显示画面之外，还以保护便携式设备的壳体为目的，要求使用薄型的强化玻璃。
[0123]便携式设备的壳体的形状一般为三维形状，但难以依据通过浮法或下拉法得到的板状玻璃来制造出三维形状的便携式设备用覆盖玻璃。即，为了依据通过浮法或下拉法得到的板状玻璃来制造出三维形状的便携式设备用覆盖玻璃，如果不使板状玻璃重新熔融并使熔融玻璃流入于能够得到所需的三维形状的模具中，则难以制造出。相对于此，在第一实施方式中说明的加压成型方法中，准备与所需的便携式设备用覆盖玻璃的外形形状一致的模具，由此不需要重新熔融，且能够得到高平坦度及平滑性，因此适用于制造以保护便携式设备的壳体的目的的便携式设备用覆盖玻璃。
[0124]例如，图11为表示三维形状的便携式设备用覆盖玻璃的外观形状的一个例子的图。图11例示的便携式设备用覆盖玻璃大致呈“ - ”字状的形态，并成为从内侧覆盖便携式设备的壳体的形态。
[0125]图12为具体表示制造图11例示的便携式设备用覆盖玻璃用的玻璃雏形时的加压成型方法的图。图12 (a)为表示制作料滴前的状态的图，图12 (b)为表示通过切割单元160来制作料滴的状态的图，图12 (c)为表示通过将料滴加压来使玻璃雏形G成型的状态的图。
[0126]该加压成型方法中，首先如图12 (a)所示，熔融玻璃材料Le连续地从熔融玻璃流出口 111流出。此时，以规定时刻驱动切割单元160，并通过切割刀161及162来切割熔融玻璃材料Le (图12 (b))。以上的内容与第一实施方式中说明的加压成型方法相同。
[0127]本实施方式的加压单元420中，使用在模具关闭时能够得到相当于目标的三维形状的玻璃雏形G的关闭空间形状的第一模421与第二模422。例如，制造图11所示的形状的玻璃雏形G时，在模具关闭时能够得到与图11所示的形状相同的关闭空间。即，本实施方式中，第一模具421是朝加压方向突出的结构(凸状结构)，第二模具422是朝加压方向凹入的结构(凹状结构)。另外，关于模具的形状，可以根据覆盖玻璃的设计来适当地变更，通过改变模具的形状，可以使玻璃雏形朝板厚方向部分地弯曲等，由此能够提高覆盖玻璃的形状的自由度。
[0128]本实施方式之加压成型方法中，与第一实施方式相同，所制造的料滴Ge朝向加压单元420的第一模具421与第二模具422之间的间隙落下。此时，按照料滴Ge进入第一模具421与第二模具422之间间隙的时刻，使第一模具121与第二模具122相互接近的方式被驱动，由此使料滴Ge被第一模具421与第二模具422捕获(夹持)。此时，如图12 (c)所示，第一模具421的加压面421a的外周面421b与第二模具422的加压面422a的外周面422b相抵接。并且，被夹持于第一模 具421的加压面421a与第二模具422的加压面422a之间的料滴Ge快速冷却而固化，由此成型为与图11所示的形状相同的玻璃雏形G。
[0129]本实施方式的加压成型方法中，加压面421a及加压面422a的表面粗糙度，能够按照玻璃雏形G的算术平均粗糙度Ra为0.001 μ m-0.1 μ m，优选为0.0005 μ m-0.05 μ m的方式调整，由此，玻璃雏形G的表面的平滑性极高，因此对主表面不用进行加压成型后的研削及研磨工序。即，根据本实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法，能够通过上述加压成型方法制造出与最终产品的三维形状(即，不平坦的所需形状)的覆盖玻璃几乎相同形状的玻璃雏形，因此适用于制造以保护便携式设备的壳体为目的的便携式设备用覆盖玻
3? ο
[0130]另外，本实施方式的便携式设备用覆盖玻璃的制造方法中，也可以包括在第一实施方式中所述的化学强化工序、装饰层形成工序。
[0131]另外，根据所使用的模型或尺寸不同，所要求的值也不同，但一般作为便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度，长度8cm左右时优选为20 μ m以下。使用本实施方式的便携式设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，能够满足上述要求。
[0132][实施例]
[0133]以下，举出本发明的实施例来进行说明，但本发明并不限定于以下实施例。
[0134][实施例]
[0135]首先准备玻璃组成含有63.5重量％的Si02、8.2重量％的Al203、8.0重量％的Li2OU0.4重量％的Na2O、以及11.9重量％的ZrO2的熔融玻璃材料，并使用本发明的第一实施方式的加压成型方法(使用图3、图4的装置的方法),而制造直径90_、厚度0.7mm的玻璃雏形。从熔融玻璃流出口 111排出的熔融玻璃材料Le的温度为1300°C，此时的熔融玻璃材料Le的粘度为700泊。另外，第一模具与第二模具的加压面的表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)为0.0lym-Ιμπι。
[0136]从熔融玻璃流出口 111排出的熔融玻璃材料Le通过切割单元160所切割，由此形成直径约20mm的料滴Ge。料滴Ge通过加压单元以3000kgf负荷被加压，直到该温度成为熔融玻璃材料的玻璃转变温度(Tg)以下为止(约3秒)，由此形成直径90_的玻璃雏形。将该玻璃雏形切割成45mmX80mm的小片。
[0137]该实施例中，当便携式设备用覆盖玻璃所要求的平坦度设为8μπι以下时，为了实现该平坦度，在各加压单元中将第一模具与第二模具的温度差设为10°c以内。具体而言，将第一模具的温度设为420°c，将第二模具的温度设为411-429°C。
[0138]接着，将玻璃雏形浸溃在熔融盐中来实施化学强化，由此在玻璃雏形的两面上形成约40 μ m的压缩应力层。作为化学强化(离子交换处理)中的熔融盐，使用硝酸钾与硝酸钠的混合盐(混合比以重量％计为硝酸钾:硝酸钠=60:40)，并按照使压缩应力层的厚度成为上述厚度的方式，在将熔融盐的温度保持在320°C-360°C的范围内的状态下适当地调整浸溃时间。
[0139][实施例的玻璃雏形的测量]
[0140]对于实施例中制造的45mmX 80mm的玻璃雏形(经化学强化后的玻璃雏形)，测量其平坦度及表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)。
[0141]平坦度是通过JIS B0602规定，例如使用Nidek公司制的平整度测量仪(FlatnessTester) FT-900来测量。表I中所示的平坦度的评价基准如下所述。
[0142]
[0143]O:Ra 大于 4.0 μ m 且为 8.0 μ m 以下
[0144]Λ:Ra 大于 8.0μπι 且为 12.0μπι 以下
[0145]X:Ra 大于 12.0μπι
`[0146]表面粗糙度是以通过JIS Β0601:2001 (或IS04287:1997)所规定的算术平均粗糙度Ra来表示，当Ra为0.006 μ m以上200 μ m以下时，例如可以三丰公司制的粗糙度测量仪SV-3100来测量，并通过JIS B0633:2001 (或IS04288:1996)所规定的方法来算出。其结果为当粗糙度为0.03 μ m以下时，例如可以通过日本维一科(Veeco)公司制的扫瞄型探针显微镜(原子间力显微镜；AFM)纳秒示波器来测量，并通过JIS R1683:2007所规定的方法来算出。本申请中，采用在IymXlym方块的测量区域中以512X512像素的分辨率来进行测量时的算术平均粗糙度Ra。
[0147]表I中所示的表面粗糙度的评价基准如下所述。
[0148]〇:Ra为 0.01 μ m 以下
[0149]Δ:Ra 大于 0.01 μ m 且为 0.1 μ m 以下
[0150]X:Ra 大于 Ο.?μπι
[0151][表 I]
[0152]
【权利要求】
1.一种电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，该制造方法包括使用一对模具将熔融玻璃块加压成型的成型工序，其特征在于， 根据将上述熔融玻璃加压成型时的一对模具的相对位置上的温度差和加压成型后得到的玻璃雏形的平坦度之间的相关性，求出能够实现电子设备用覆盖玻璃所要求的平坦度的上述一对模具的温度差， 按照使一对模具的温度处于上述所求出的温度差以内的方式来控制上述一对模具的温度的同时进行加压成型。
2.根据权利要求1所述的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，在上述加压成型工序中，按照使上述一对模具的各模具的与熔融玻璃接触的部分的温度在上述一对模具之间成为相同温度的方式进行加压。
3.根据权利要求1或2所述的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，将从上述块接触于上述模具至离开为止的上述一对模具的温度设为小于上述熔融玻璃的玻璃转变温度(Tg)的温度。
4.根据权利要求1至3任一项所述的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，按照使通过上述加压成型工序得到的玻璃雏形的板厚成为与上述电子设备用覆盖玻璃所要求的板厚相同板厚的方式进行加压成型。
5.根据权利要求1至4任一项所述的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，包括切割熔融玻璃使上述块朝向上述一对模具落下的切割工序，在上述切割工序中，按照使熔融玻璃的切割痕迹位于上述玻璃雏形的周边的方式切割熔融玻璃。
6.根据权利要求1至4任一项所述的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法，其特征在于，包括切割熔融玻璃使上述块朝向上述一对模具落下的切割工序，在上述加压成型工序中，在熔融玻璃的切割痕迹从上`述一对模具露出时对熔融玻璃进行加压。
7.一种电子设备用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，使通过权利要求1至6任一项中记载的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法制造的玻璃雏形中残留着所产生的变形的状态下，进行将上述玻璃雏形加工成电子设备用覆盖玻璃的形状的形状加工工序。
8.一种电子设备用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，维持通过权利要求1至6任一项中记载的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法制造的玻璃雏形的主表面的表面状态，按照使上述玻璃雏形的主表面成为电子设备用覆盖玻璃的主表面的方式进行将上述玻璃雏形的外周形状加工成电子设备用覆盖玻璃的外周形状的形状加工工序。
9.一种电子设备用覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，使用通过权利要求1至6任一项中记载的电子设备用覆盖玻璃雏形的制造方法得到的电子设备用玻璃雏形来制造电子设备用覆盖玻璃。
【文档编号】C03B11/12GK103459335SQ201280015591
【公开日】2013年12月18日 申请日期:2012年3月16日 优先权日:2011年3月30日
【发明者】矶野英树, 村上明 申请人:Hoya株式会社