一种外壁上釉装置的制作方法

本发明涉及上釉技术领域，特别是一种外壁上釉装置。

背景技术：

杯状容器在上釉方面还没有使用人工操作设备的方式实现，这种方式对人工操作的依赖性较高。

人工上釉的方式存在效率低，成本高，并且在上釉的工作中，对釉料的浪费比较大，需要开发一种对产品外壁进行上釉的设备，可以减少工作人员的工作量，提高上釉的效率。

技术实现要素：

针对上述缺陷，本发明的目的在于提出一种外壁上釉的装置，该装置能够提高上釉的效率。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种外壁上釉装置，包括龙门框架、坯料抓取装置和浸釉装置；所述坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架，所述浸釉装置位于所述龙门框架的下方；

所述浸釉装置包括釉料箱、所述釉料箱内水平设有承载网盘，所述承载网盘通过伸缩杆安装于所述龙门框架。

较佳地，所述釉料箱下方设有支架，所述釉料箱和支架之间设有升降装置。

较佳地，还包括残液擦拭装置，所述残液擦拭装置位于所述喷釉装置的下游位置；

所述残液擦拭装置包括机架、辊筒组件和压紧辊，所述辊筒组件安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件由驱动装置驱动，所述压紧辊和所述辊筒组件中最外侧的辊筒靠近；

所述辊筒组件外部套设有吸水带，所述辊筒组件带动所述吸水带转动，所述辊筒组件将所述吸水带拉成平面。

较佳地，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件和压紧辊的下方。

进一步地，所述坯料抓取装置包括平移机构、升降机构和抓取机构；

所述升降机构安装于所述平移机构，所述抓取机构安装于所述升降机构的下端；

所述平移机构沿所述龙门框架的上游和下游运动。

进一步地，位于前面的抓取位为前抓取位，所述前抓取位的上端转动安装于所述升降机构的下部，所述升降机构安装有气缸，所述气缸两端分别铰接于所述前抓取位的中部和所述升降机构的下端，所述气缸推动所述前抓取位摆动。

进一步地，所述前抓取位的下游处还设有中部抓取位和尾部抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

本发明的有益效果：1、本方案通过设置坯料抓取装置和浸釉装置，对产品的外部进行上釉加工，浸釉本身是在釉料箱内浸泡一下就将坯体取出来，在保证工作效率的情况下，也保证了质量；2、本方案中的残液擦拭装置是第二次擦拭残液的装置，在工作中，由坯料抓取装置自喷釉装置夹持来的，通过转动的吸水带将坯料杯口的残液再次进行擦拭，吸水带在吸收了釉料之后，转动到压紧辊部位时，将吸水带吸收的液体压榨出来，使吸水带始终处于能吸水的状态。

附图说明

图1是本发明的一个实施例的安装结构图；

图2是图1中A处的局部放大图。

其中：龙门框架100、坯料抓取装置200、平移机构210、升降机构220、抓取机构230、抓取位231、浸釉装置300、釉料箱310、承载网盘320、残液擦拭装置400、辊筒组件410、压紧辊420、吸水带430。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

如图1-2所示，一种外壁上釉装置，包括龙门框架100、坯料抓取装置200和浸釉装置300；所述坯料抓取装置200通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架100，所述浸釉装置300位于所述龙门框架100的下方；

所述浸釉装置300包括釉料箱310、所述釉料箱310内水平设有承载网盘320，所述承载网盘320通过伸缩杆安装于所述龙门框架100。

本方案通过设置坯料抓取装置200和浸釉装置300，对产品的外部进行上釉加工，浸釉本身是在釉料箱内浸泡一下就将坯体取出来，在保证工作效率的情况下，也保证了质量，而承载网盘320的设置，使杯体受到内外两个方向的约束力，坯体在浸入过程和提起过程中，都不会轻易从抓取装置200上脱落，避免杯体脱落产生的停工的问题。

其中，所述釉料箱310下方设有支架，所述釉料箱310和支架之间设有升降装置。

用于调整釉料箱310的高度，釉料箱的高度也能决定坯料浸入的深度。

其中，还包括残液擦拭装置400，所述残液擦拭装置400位于所述喷釉装置300的下游位置；

所述残液擦拭装置400包括机架、辊筒组件410和压紧辊420，所述辊筒组件410安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件410由驱动装置驱动，所述压紧辊420和所述辊筒组件410中最外侧的辊筒靠近；

所述辊筒组件410外部套设有吸水带430，所述辊筒组件410带动所述吸水带430转动，所述辊筒组件410将所述吸水带430拉成平面。

本方案中的残液擦拭装置400是第二次擦拭残液的装置，在工作中，由坯料抓取装置200自喷釉装置300夹持来的，通过转动的吸水带430将坯料杯口的残液再次进行擦拭，吸水带430在吸收了釉料之后，转动到压紧辊420部位时，将吸水带430吸收的液体压榨出来，使吸水带始终处于能吸水的状态。

此外，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件410和压紧辊420的下方。

残液回收箱用于回收吸水带430压榨出来的釉料，可以将回收的釉料进行二次利用。

此外，所述坯料抓取装置200包括平移机构210、升降机构220和抓取机构230；

所述升降机构220安装于所述平移机构210，所述抓取机构230安装于所述升降机构220的下端；

所述平移机构210沿所述龙门框架100的上游和下游运动。

其中，位于前面的抓取位为前抓取位231，所述前抓取位231的上端转动安装于所述升降机构的下部，所述升降机构220安装有气缸，所述气缸两端分别铰接于所述前抓取位的中部和所述升降机构的下端，所述气缸推动所述前抓取位摆动。

前抓取在抓取工件之后，以倾斜的姿态将坯料浸入釉料箱310，从而使坯体底部的内凹结构能充分的与釉料接触，避免出现气泡，影响上釉效果。

此外，所述前抓取位的下游处还设有中部抓取位和尾部抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

多个抓取位，覆盖了大部分工艺摆放的位置，分别设置独立的气源，使各个抓取位的工各自独立。

以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。