1.一种按摩足浴盆，包括盆体(1)，所述盆体(1)的底部具有向上凸起的按摩台(2)，其特征在于，所述按摩台(2)包括位于按摩台(2)顶部且制为平面的平台面(21)、位于平台面(21)且向下倾斜设置的前斜面(22)和位于平台面(21)后侧且向下倾斜设置的后斜面(23)，所述按摩台(2)上设置有若干个下凹的安装槽(24)，所述安装槽(24)内设置有按摩轮(3)。
2.根据权利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述安装槽(24)为由前往后贯穿按摩台(2)的通槽。
3.根据权利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述前斜面(22)和平台面(21)之间平滑过渡，所述后斜面(23)与平台面(21)之间平滑过渡。
4.根据权利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩轮(3)的轮面上设置有若干个半球状凸起的按模块(31)。
5.根据权利要求4所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩轮(3)由磁石制成。
6.根据权利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述盆体(1)底部的前端还设置有药盒(4)和沿着盆体(1)左右方向横向贯穿药盒(4)的流水槽(5)，所述药盒(4)的顶部设置有盖板(6)。
7.根据权利要求6所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述盖板(6)铰接在盆体(1)的底部。
8.根据权利要求7所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述盖板(6)具有若干个通孔(61)。
9.根据权利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩台(2)顶部的中心位置上设置有磨脚石(7)。
10.权利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述盆体(1)顶部的前端设置有挡板(8)。