1.一种平面清洁砧板支架，包括固定装置(1)，所述固定装置(1)包括底座(101)、限位槽(102)、支杆(103)、防滑支撑板(104)和挂架(105)，所述底座(101)为板状结构，其上表面设有限位槽(102)，底座(101)上限位槽(102)两侧分别固定连接有支杆(103)和挂架(105)，所述支杆(103)顶端固定连接有防滑支撑板(104)，其特征在于：还包括清洗装置(2)和进水装置(3)，所述清洗装置(2)包括清洗仓(201)、吸附腔(202)、清洗腔(203)、顶部海绵(204)、清洗底板(205)、清洗海绵条(206)、抽气机(208)、清洗转机(209)和排水软管(210)，所述清洗仓(201)为长方体结构，其一侧中部和外缘分别设有长方体结构的清洗腔(203)和回型结构的吸附腔(202)，另一侧中部和外缘分别固定连接有清洗转机(209)和抽气机(208)，所述抽气机(208)与吸附腔(202)连通；所述清洗转机(209)的输出轴穿过清洗仓(201)侧壁设于清洗腔(203)内，其端部固定连接有顶部海绵(204)，侧面固定连接有清洗底板(205)，所述清洗底板(205)固定连接有清洗海绵条(206)；所述清洗腔(203)底部连通有排水软管(210)，上部连通有进水装置(3)；
所述进水装置(3)包括进水管道(301)、进水阀(302)和进水软管(303)，所述清洗转机(209)上还设有挂钩，并通过挂钩挂接于挂架(105)上，所述进水阀(302)还连通有平衡气管。
2.根据权利要求1所述的一种平面清洁砧板支架，其特征在于：所述清洗腔(203)上部连通有进水管道(301)，所述进水管道(301)通过进水阀连通有进水软管(303)。
3.根据权利要求2所述的一种平面清洁砧板支架，其特征在于：所述进水装置(3)还包括压力传感器(304)、弹簧(305)和浮漂(306)，所述进水阀(302)出口处设有压力传感器(304)并连接有弹簧(305)，所述弹簧(305)末端固定连接有浮漂(306)。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种平面清洁砧板支架，其特征在于：所述吸附腔(202)底部还设有密封垫(207)。
5.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种平面清洁砧板支架，其特征在于：所述清洗转机(209)的输出轴侧面均布固定连接有至少三个清洗底板(205)。