一种具有吸附效果的油画框的制作方法

本实用新型涉及油画框技术领域，具体为一种具有吸附效果的油画框。

背景技术：

随着中国和国际社会逐渐接轨，油画这一舶来品也已经越来越被人们所接受，从以往少数人的专属艺术品慢慢转变为大众艺术品，越来越多地进入普通人们的居室中。油画大多是被装裱在油画框内后悬挂在墙面上用于装饰。

然而，普通油画框在墙面上无法直接吸附，为了保证使用效果，铺设时采用挂钩的方式，采用挂钩的方式虽然会更简便，但是会影响整体外观，影响美感，而且挂钩大多是通过胶黏剂或者直接订入墙面的方式进行固定，会破坏墙面。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种具有吸附效果的油画框。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：一种具有吸附效果的油画框，包括画框本体、照明灯、油画放置室、底座和供电电池，所述画框本体的底部安装有底座，且画框本体的顶部安装有照明灯，所述画框本体的外壁上安装有保护窗，所述画框本体的边框上安装有螺栓，所述画框本体的内部通过滑轨安装有油画放置室，且油画放置室的内部设置有吸潮材料层，所述油画放置室的后侧外壁上通过转轴安装有支撑架，所述画框本体的顶面内壁上安装有供电电池，所述画框本体与保护窗之间填充有水晶胶层，所述底座的内部设置有储物格。

优选的，所述照明灯安装有3个，且照明灯整体呈线性排列。

优选的，所述画框本体的外壁上设置有荧光涂料层。

优选的，所述螺栓的外部安装有吸盘，且螺栓与吸盘均分别安装有4个。

优选的，所述油画放置室的外壁上安装有拉环。

优选的，所述支撑架上方的画框本体的外壁上安装有吸铁磁。

本实用新型所达到的有益效果是：该油画框在背面安装有吸盘与吸铁磁，可直接将该油画框通过吸盘或者吸铁磁吸附在玻璃或者铁质面上，非常方便，无需使用钉子钉在墙面上，不会破坏墙体，且该油画框在顶部安装有LED灯，人们可在晚上打开LED灯，大大提高了该油画框的观赏性，且该油画框在内部设置有储物格，可将一些小型物件放置在储物格内，待需要时取出即可，且该油画框在后侧还安装有支撑架，使该油画框还可当相框使用，满足了工作的需求。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型画框本体的后视；

图3是本实用新型画框本体的内部结构示意图。

1、画框本体；2、螺栓；3、保护窗；4、照明灯；5、滑轨；6、油画放置室； 7、拉环；8、吸潮材料层；9、底座；10、荧光涂料层；11、吸盘；12、吸铁磁； 13、转轴；14、支撑架；15、供电电池；16、水晶胶层；17、储物格。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例1

如图1-3所示，一种具有吸附效果的油画框，包括画框本体1、照明灯4、油画放置室6、底座9和供电电池15，画框本体1的底部安装有底座9，且画框本体1的顶部安装有照明灯4，人们可在晚上打开照明灯4，大大提高了该油画框的观赏性，画框本体1的外壁上安装有保护窗3，画框本体1的边框上安装有螺栓2，画框本体1的内部通过滑轨5安装有油画放置室6，且油画放置室6的内部设置有吸潮材料层8，油画放置室6的后侧外壁上通过转轴13安装有支撑架14，画框本体1的顶面内壁上安装有供电电池15，画框本体1与保护窗3之间填充有水晶胶层16，底座9的内部设置有储物格17，人们可将一些小型物件放置在储物格17内，待需要时取出即可，照明灯4安装有3个，且照明灯4整体呈线性排列，画框本体1的外壁上设置有荧光涂料层10，螺栓2的外部安装有吸盘11，且螺栓2与吸盘11均分别安装有4个，油画放置室6的外壁上安装有拉环7，支撑架14上方的画框本体1的外壁上安装有吸铁磁12，该油画框通过吸盘11或者吸铁磁12吸附在玻璃或者铁质面上，非常方便，无需使用钉子钉在墙面上，不会破坏墙体。

工作原理：将油画放置室拉开，将需要展览的油画布放置在油画放置室6 的内部进行作画，作画完毕后，通过固定钉子固定好即可，再合上油画放置室6，荧光涂料层10在夜晚时可发出光亮，若要将油画放置室6安装在墙体上时，只需通过吸盘11或吸铁磁12固定即可，人们可将一些小物品放置在储物柜17内进行储存，吸潮材料层8可吸收画框内的潮气，当需要将该画框本体1放置在桌面上时，打开支撑架14放置即可。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。