纳米水离子脚底按摩盆的制作方法

1.本实用新型涉及按摩盆领域，尤其涉及一种纳米水离子脚底按摩盆。


背景技术：

2.市面上的脚底按摩盆一般只有脚底按摩功能，然而，部分人群的脚有脚气，容易使按摩盆周围产生异味。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种纳米水离子脚底按摩盆，以解决上述技术问题。
4.为了实现上述目的，本实用新型的技术方案为：提供一种纳米水离子脚底按摩盆，包括按摩盆体、整机控制模块、电源模块、安装于所述按摩盆体内的第一净化模块、第一循环风扇、第二净化模块及第二循环风扇，所述整机控制模块及所述电源模块均安装于所述按摩盆体内，所述整机控制模块与所述电源模块电性相接，所述按摩盆体的顶部的一侧凹陷形成盆顶缺口，所述盆顶缺口的内侧壁往内凹陷形成第一放脚空间及第二放脚空间，所述第一放脚空间的底部设置第一按摩模块，所述第二放脚空间的底部设置第二按摩模块，所述第一按摩模块及所述第二按摩模块均与所述整机控制模块电性相接，所述第一净化模块、第一循环风扇、第二净化模块及第二循环风扇均与所述整机控制模块电性相接，所述按摩盆体的侧壁开设有第一进气孔及第二进气孔，所述第一按摩模块开设有接通所述按摩盆体的内腔的第一出气孔，所述第二按摩模块开设有接通所述按摩盆体的内腔的第二出气孔，所述第一循环风扇的输入端与所述第一进气孔相接通，所述第一循环风扇的输出端与所述第一净化模块的输入端相接通，所述第一净化模块的输出端与所述第一出气孔相接通，所述第二循环风扇的输入端与所述第二进气孔相接通，所述第二循环风扇的输出端与所述第二净化模块的输入端相接通，所述第二净化模块的输出端与所述第二出气孔相接通，所述第一净化模块及所述第二净化模块为纳米水离子模块或者纳米水离子与负离子复合模块或者静电雾化模块或者羟基自由基水分子团发生装置或者或者纳米水离子与纳米银离子复合模块或者正负离子带水分子模块。
5.较佳地，所述盆顶缺口的底部于所述第一放脚空间及第二放脚空间的外侧设置有与所述整机控制模块电性相接的数显面板。
6.较佳地，所述电源模块包括电线及插头，所述按摩盆体的侧壁开设有盆体线孔，所述电线的一端与所述整机控制模块电性相接，所述电线的另一端穿过所述盆体线孔与所述插头电性相接。
7.较佳地，所述第一按摩模块及所述第二按摩模块均设置发热单元。
8.较佳地，所述整机控制模块还设置无线wifi控制单元或者红外线控制单元或者微波控制单元或者plc控制单元。
9.与现有技术相比，本实用新型纳米水离子脚底按摩盆按摩脚底的同时，还能通过净化气流对第一放脚空间及第二放脚空间进行杀菌除异味，保持空气洁净清新。
10.通过以下的描述并结合附图，本实用新型将变得更加清晰，这些附图用于解释本实用新型的实施例。
附图说明
11.图1为本实用新型纳米水离子脚底按摩盆第一个角度的结构图。
12.图2为本实用新型纳米水离子脚底按摩盆第二个角度的结构图。
13.图3为图2中沿剖面线a-a的剖视图。
14.图4为本实用新型纳米水离子脚底按摩盆第三个角度的结构图。
15.图5为图4中沿剖面线b-b的剖视图。
16.图6为图4中沿剖面线c-c的剖视图。
具体实施方式
17.参考图1至图6，本实用新型纳米水离子脚底按摩盆包括按摩盆体10、整机控制模块20、电源模块、安装于所述按摩盆体10内的第一净化模块30、第一循环风扇35、第二净化模块40及第二循环风扇45。所述整机控制模块20及所述电源模块均安装于所述按摩盆体10内，所述整机控制模块20与所述电源模块电性相接，所述按摩盆体10的顶部的一侧凹陷形成盆顶缺口11，所述盆顶缺口11的内侧壁往内凹陷形成第一放脚空间111及第二放脚空间112，所述第一放脚空间111的底部设置第一按摩模块1111，所述第二放脚空间112的底部设置第二按摩模块1121，所述第一按摩模块1111及所述第二按摩模块1121均与所述整机控制模块20电性相接。所述第一净化模块30、第一循环风扇35、第二净化模块40及第二循环风扇45均与所述整机控制模块20电性相接，所述按摩盆体10的侧壁开设有第一进气孔12及第二进气孔13。所述第一按摩模块 1111开设有接通所述按摩盆体10的内腔的第一出气孔1112，所述第二按摩模块 1121开设有接通所述按摩盆体10的内腔的第二出气孔1122。所述第一循环风扇35的输入端与所述第一进气孔12相接通，所述第一循环风扇35的输出端与所述第一净化模块30的输入端相接通，所述第一净化模块30的输出端与所述第一出气孔1112相接通，所述第二循环风扇45的输入端与所述第二进气孔13 相接通，所述第二循环风扇45的输出端与所述第二净化模块40的输入端相接通，所述第二净化模块40的输出端与所述第二出气孔1122相接通。所述第一净化模块30及所述第二净化模块40为纳米水离子模块或者纳米水离子与负离子复合模块或者静电雾化模块或者水离子模块或者羟基自由基水分子团发生装置或者纳米水离子光触媒模块或者纳米水离子电触媒模块或者纳米水离子与纳米银离子复合模块或者正负离子带水分子模块或者负离子带水分子模块。
18.较佳者，所述盆顶缺口11的底部于所述第一放脚空间111及第二放脚空间 112的外侧设置有与所述整机控制模块20电性相接的数显面板113。
19.较佳者，所述电源模块包括电线51及插头52，所述按摩盆体10的侧壁开设有盆体线孔(图未示)，所述电线51的一端与所述整机控制模块20电性相接，所述电线51的另一端穿过所述盆体线孔与所述插头52电性相接。
20.较佳者，所述第一按摩模块1111及所述第二按摩模块1121均设置发热单元。
21.较佳者，所述整机控制模块20还设置无线wifi控制单元或者红外线控制单元或者微波控制单元或者plc控制单元。通过无线wifi或者红外线或者微波或者plc对整机控制模
块20进行控制。
22.本实用新型纳米水离子脚底按摩盆按摩脚底的同时，第一循环风扇35从而第一进气孔12吸入空气，经过第一净化模块30处理后形成能杀菌除异味的净化气流，继而从第一出气孔1112排至第一放脚空间111，从而对第一放脚空间 111进行杀菌除异味；同样的，第二循环风扇45从而第二进气孔13吸入空气，经过第二净化模块40处理后形成能杀菌除异味的净化气流，继而从第二出气孔 1122排至第二放脚空间112，从而对第一放脚空间112进行杀菌除异味。
23.本实用新型纳米水离子脚底按摩盆按摩脚底的同时，还能通过净化气流对第一放脚空间及第二放脚空间进行杀菌除异味，保持空气洁净清新。
24.以上结合最佳实施例对本实用新型进行描述，但本实用新型并不局限于以上揭示的实施例，而应当涵盖各种根据本实施例的本质进行的修改、等效组合。


技术特征：
1.一种纳米水离子脚底按摩盆，包括按摩盆体、整机控制模块及电源模块，所述整机控制模块及所述电源模块均安装于所述按摩盆体内，所述整机控制模块与所述电源模块电性相接，所述按摩盆体的顶部的一侧凹陷形成盆顶缺口，所述盆顶缺口的内侧壁往内凹陷形成第一放脚空间及第二放脚空间，所述第一放脚空间的底部设置第一按摩模块，所述第二放脚空间的底部设置第二按摩模块，所述第一按摩模块及所述第二按摩模块均与所述整机控制模块电性相接，其特征在于：还包括安装于所述按摩盆体内的第一净化模块、第一循环风扇、第二净化模块及第二循环风扇，所述第一净化模块、第一循环风扇、第二净化模块及第二循环风扇均与所述整机控制模块电性相接，所述按摩盆体的侧壁开设有第一进气孔及第二进气孔，所述第一按摩模块开设有接通所述按摩盆体的内腔的第一出气孔，所述第二按摩模块开设有接通所述按摩盆体的内腔的第二出气孔，所述第一循环风扇的输入端与所述第一进气孔相接通，所述第一循环风扇的输出端与所述第一净化模块的输入端相接通，所述第一净化模块的输出端与所述第一出气孔相接通，所述第二循环风扇的输入端与所述第二进气孔相接通，所述第二循环风扇的输出端与所述第二净化模块的输入端相接通，所述第二净化模块的输出端与所述第二出气孔相接通，所述第一净化模块及所述第二净化模块为纳米水离子模块或者纳米水离子与负离子复合模块或者静电雾化模块或者羟基自由基水分子团发生装置或者或者纳米水离子与纳米银离子复合模块或者正负离子带水分子模块。2.如权利要求1所述的纳米水离子脚底按摩盆，其特征在于：所述盆顶缺口的底部于所述第一放脚空间及第二放脚空间的外侧设置有与所述整机控制模块电性相接的数显面板。3.如权利要求1所述的纳米水离子脚底按摩盆，其特征在于：所述电源模块包括电线及插头，所述按摩盆体的侧壁开设有盆体线孔，所述电线的一端与所述整机控制模块电性相接，所述电线的另一端穿过所述盆体线孔与所述插头电性相接。4.如权利要求1所述的纳米水离子脚底按摩盆，其特征在于：所述第一按摩模块及所述第二按摩模块均设置发热单元。5.如权利要求1所述的纳米水离子脚底按摩盆，其特征在于：所述整机控制模块还设置无线wifi控制单元或者红外线控制单元或者微波控制单元或者plc控制单元。

技术总结
本实用新型公开一种纳米水离子脚底按摩盆，第一按摩模块及第二按摩模块均与整机控制模块电性相接，第一按摩模块开设有接通按摩盆体的内腔的第一出气孔，第二按摩模块开设有接通按摩盆体的内腔的第二出气孔，第一循环风扇的输入端与第一进气孔相接通，第一循环风扇的输出端与第一净化模块的输入端相接通，第一净化模块的输出端与第一出气孔相接通，第二循环风扇的输入端与第二进气孔相接通，第二循环风扇的输出端与第二净化模块的输入端相接通，第二净化模块的输出端与第二出气孔相接通。该纳米水离子脚底按摩盆按摩脚底的同时，还能通过净化气流对第一放脚空间及第二放脚空间进行杀菌除异味，保持空气洁净清新。保持空气洁净清新。保持空气洁净清新。


技术研发人员：陈千智 邱庆彬 邱政翔
受保护的技术使用者：平流层复合水离子（深圳）有限公司
技术研发日：2021.08.10
技术公布日：2022/4/6