一种防污染直线平台底座的制作方法

文档序号:8673844阅读:310来源:国知局
一种防污染直线平台底座的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于直线平台底座,尤其是涉及一种采用铝合金型材制作的防污染直线平台底座。
【背景技术】
[0002]目前,应用在自动化生产线上的机械手直线平台应用非常普遍,机械手直线平台的结构包括底座、固定座、线性导轨、滚珠丝杠、光轴、滑台等结构。目前,直线平台上的传感器、滚珠丝杠或者光轴均是固定在铝型材制作的平台底座外侧,在工况条件恶劣情况下,极易造成传感器、滚珠丝杠或者光轴被污染,光轴或者滚珠丝杠被污染将导致设备不能正常工作,传感器在恶劣的工作环境下增加了传感器的故障率。

【发明内容】

[0003]本实用新型需要解决的问题是提供一种防污染直线平台底座,降低了传感器和光轴的污染,减少了传感器和光轴的故障率,同时保持了设备的外形美观。
[0004]为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种防污染直线平台底座,包括截面呈框架式的型材,所述型材由对称的主框架和支撑架组成,所述主框架两端侧板的外壁上设有共用槽,所述侧板顶部连接有风琴罩槽,所述主框架中间部分上侧靠近侧板处沿轴向分别设有传感器槽,所述传感器槽一侧靠近主框架中间部位沿轴向分别设有支撑架,所述支撑架下方分别设有穿线槽。
[0005]进一步,所述共用槽为方波状或锯齿状。
[0006]进一步,所述风琴罩槽为U型结构。
[0007]进一步,所述穿线槽为矩形中空结构。
[0008]进一步,所述型材的材质是铝材质。
[0009]本实用新型具有的优点和积极效果是:传感器和光轴的内置式设计,同时加上风琴罩,当平台底座在恶劣的工作环境下工作时,能有效的防止传感器和光轴受到污染,降低了传感器和光轴的故障率;平台底座在搬运过程中不会损坏传感器和光轴,同时保持了设备的外形美观。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型整体结构示意图。
[0011]图中:
[0012]1-型材,2-主框架,3-共用槽,4-侧板,5-风琴罩槽,6_传感器槽,7_支撑架,8_穿线槽。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细说明。
[0014]如图1所示,一种防污染直线平台底座,包括截面呈框架式的型材1,所述型材I由对称的主框架2和支撑架7组成,所述主框架2两端侧板4的外壁上设有共用槽3,所述侧板4顶部连接有风琴罩槽5,所述主框架2中间部分上侧靠近侧板4处沿轴向分别设有传感器槽6,所述传感器槽6 —侧靠近主框架2中间部位沿轴向分别设有支撑架7,所述支撑架7下方分别设有穿线槽8。
[0015]所述共用槽3为方波状或锯齿状。
[0016]所述风琴罩槽5为U型结构。
[0017]所述穿线槽8为矩形中空结构。
[0018]所述型材I的材质是铝材质。
[0019]本实用新型【具体实施方式】:在使用时,将传感器安装在传感器槽6内,传感器上的线放置在穿线槽8内,支撑架7上固定安装光轴,将风琴罩安装在风琴罩槽5内,起到防尘保护传感器和光轴不受污染的作用。
[0020]以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例,不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
【主权项】
1.一种防污染直线平台底座,其特征在于:包括截面呈框架式的型材,所述型材由对称的主框架和支撑架组成,所述主框架两端侧板的外壁上设有共用槽,所述侧板顶部连接有风琴罩槽,所述主框架中间部分上侧靠近侧板处沿轴向分别设有传感器槽,所述传感器槽一侧靠近主框架中间部位沿轴向分别设有支撑架,所述支撑架下方分别设有穿线槽。
2.根据权利要求1所述的一种防污染直线平台底座,其特征在于:所述共用槽为方波状或锯齿状。
3.根据权利要求1所述的一种防污染直线平台底座,其特征在于:所述风琴罩槽为U型结构。
4.根据权利要求1所述的一种防污染直线平台底座,其特征在于:所述穿线槽为矩形中空结构。
5.根据权利要求1所述的一种防污染直线平台底座,其特征在于:所述型材的材质是铝材质。
【专利摘要】本实用新型提供一种防污染直线平台底座,包括截面呈框架式的型材,所述型材由对称的主框架和支撑架组成,所述主框架两端侧板的外壁上设有共用槽,所述侧板顶部连接有风琴罩槽,所述主框架中间部分上侧靠近侧板处沿轴向分别设有传感器槽,所述传感器槽一侧靠近主框架中间部位沿轴向分别设有支撑架,所述支撑架下方分别设有穿线槽。本实用新型的优点和有益效果:降低了传感器和光轴的污染,减少了传感器和光轴的故障率,同时保持了设备的外形美观。
【IPC分类】B25J19-00
【公开号】CN204382300
【申请号】CN201420849974
【发明人】钱乃岩, 张升威, 江英
【申请人】天津莫托曼机器人有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2014年12月29日
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