专利名称：一种触摸屏用防指纹膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种触摸屏用防指纹膜的结构，具体应用在手机、平板电脑。
背景技术：
在电容式触控产品中(手机、平板电脑)，强化玻璃面板表面极易被外界的污物和用户的指纹所污染。因此，长期保持强化玻璃表面的清洁度，并且较容易的清除其表面所粘附的指纹和污物这一技术越来越受到人们的关注。AF防指纹膜是一种同时具有疏水性和疏油性两种特性的薄膜，基于良好的疏水性和疏油性，AF膜不易粘附外界的灰尘及污物，并且在粘附污物和指纹的情况下，也具有较易除去表面异物的特性。因此，在电容式触控强化玻璃基材中AF膜一直扮演着重要角色。一般情况下，AF膜与强化玻璃之间的附着力普遍较差，容易从强化玻璃表面剥离， 且膜层表面平坦度和膜层均勻性都难以把握。因此，得到与强化玻璃表面具有较好附着力和厚度均勻的AF膜层已经提上日程。在AF膜与强化玻璃之间添加一层缓冲层，可以在一定程度上增加AF膜与强化玻璃面板之间的附着力，减缓AF膜层从强化玻璃表面剥离，有利于延长AF膜的使用寿命。目前，制备缓冲层的主要方法是物理气相沉积法，但该类方法存在沉积温度高、沉积速率慢、膜层表面粗度比较大、表面静摩擦系数较大，且各个部分的厚度难以调控等缺点ο
发明内容为了解决上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种触摸屏用防指纹膜的结构， 可以解决AF膜层与强化玻璃表面附着力差和膜层表面粗糙度较大等问题。全了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案一种触摸屏用防指纹膜，强化玻璃上表面为缓冲层，缓冲层的上表面为AF膜；所述缓冲层为SiO2薄膜，所述AF膜为疏水性和疏油性的高分子聚合物。所述强化玻璃厚度为0. 2-3mm。所述缓冲层厚度为10-20nm。所述AF膜厚度为 10-30nm。具体制作方案如下首先，通过&辉光放电轰击强化玻璃基材，对基材进行刻蚀，起到活化强化玻璃基材表面的作用。其次，六甲基二硅氧烷在高温条件下蒸发进入反应室，通过高温裂解形成活性粒子，其中SiO2分子将直接沉积在玻璃基材表面，而其他活性粒子则再与注入反应室内的O2 分子发生化学反应形成Si02。该技术依据是下列反应
3[0013]通过上述反应，在固相-气相的界面处沉积一层厚度为10-20nm的SiO2缓冲层。 由于A的辉光放电作用，为S^2缓冲层提供了清洁而高活性的表面，并且强化玻璃基材整个都被辉光层均勻覆盖，使得基材能得到均勻的加热。同时，由于辉光放电的存在，使得反应气氛也得到了活化。因此，在很大程度上提高了 SiO2缓冲层的表面平坦度以及SiO2缓冲层和强化玻璃基材之间的附着力。第三，通过A辉光放电轰击强化玻璃基材，对基材进行活化。最后，通过热蒸发法在SiO2缓冲层表面沉积一层厚度为10-30nm的AF膜。本实用新型优点1、利用PECVD沉积SW2缓冲层具有成核率高，成核密度大，在整个平面上分布均勻，从而产生宏观平面的平滑。同时，与沉积相关的气体粒子的平均自由程较大，粒子分布较均勻，有利于形成平滑的沉积面。2、反应气体、反应产物和强化玻璃基材的相互扩散作用，使得S^2缓冲层与强化玻璃基材之间具有良好的附着力，从而在一定程度上增大AF膜与强化玻璃基材的附着力。
图1为本实用新型所描述的结构示意图。图2为本实用新型S^2缓冲层气相沉积过程示意图。图3为本实用新型在触摸屏上的应用示意图。图4为本实用新型工作原理示意图。
具体实施方案为了详细叙述本实用新型专利的上述特点，优势和工作原理，下面结合说明书附图和具体实施方式
对本实用新型做进一步的说明，但本实用新型所保护的范围并不局限于此。如图1 一种触摸屏用防指纹膜，强化玻璃1上表面为缓冲层2，缓冲层2的上表面为AF膜3 ；所述缓冲层2为SW2薄膜，所述AF膜3为疏水性和疏油性的高分子聚合物。所述强化玻璃1厚度为0. 2-3mm。所述缓冲层2厚度为10-20nm。所述AF膜3厚度为 10-30nm。SiO2缓冲层与强化玻璃基材具有很强的附着力，且该膜层表面平坦度高，促使AF 膜层与强化玻璃基材的附着力明显上升，延长了 AF膜的使用寿命，起到保护强化玻璃外观的作用。其中SW2缓冲层是通过PECVD所制备的。六甲基二硅氧烷在高温条件下蒸发进入反应室，然后通过A辉光放电使强化玻璃表面活化和六甲基二硅氧烷裂解。其中裂解后的粒子与注入到真空室内的A反应生成SiO2,由于强化玻璃基材在辉光层中受热均勻，且反应气氛也得到了活化，因此，在强化玻璃基材表面形成了一层具有较强膜层附着力和较好平坦度的SiOjl冲层。[0027]如图2 在强化玻璃1中的固相-气相5的界面4处沉积一层厚度为10-20nm的 SiOjl冲层。由于A的辉光放电作用，为SiOjl冲层提供了清洁而高活性的表面，并且强化玻璃基材整个都被辉光层均勻覆盖，使得基材能得到均勻的加热。同时，由于辉光放电的存在，使得反应气氛也得到了活化。因此，在很大程度上提高了 SiO2缓冲层的表面平坦度以及S^2缓冲层和强化玻璃基材之间的附着力。通过A辉光放电轰击强化玻璃基材，对基材进行活化。最后，通过热蒸发法在SiO2缓冲层表面沉积一层厚度为10-30nm的AF膜。如图3所示，强化玻璃1表面具有大量的羟基，缓冲层2与强化玻璃表面的羟基结合，部分形成Si-O键，在共价键和物理吸附的同时作用下，SiO2缓冲层与强化玻璃的附着力得到了显著提高。然后，Si-OH封端的AF膜3又与SiO2缓冲层上的羟基发生缩合反应，形成部分Si-O键，从而增大AF膜与强化玻璃基材的附着力。带有柔性长链的疏水、疏油性AF 聚合物在S^2缓冲层上形成一层致密的保护膜，防止外界污物及指纹侵蚀强化玻璃表面， 起到保护触摸屏外观的作用。如图4所示，镀有SW2缓冲层和AF膜的强化玻璃面板7、ITO上线8与ITO下线 9的透光处均用OCA光学胶10粘接，避光处均用DST胶11粘接，柔性印刷电路FPC12嵌于 ITO上、下线银胶之间。AF膜附着在具有较强附着力和较好平坦度的SiOdl冲层上，起到防止外界污物与指纹侵入强化玻璃的作用，从而起到保持触摸屏外观和保护ITO上、下线及FPCB的效果。
权利要求1.一种触摸屏用防指纹膜，其特征在于强化玻璃(1)上表面为缓冲层(2)，缓冲层(2) 的上表面为AF膜(3)；所述缓冲层(2)为SW2薄膜，所述AF膜(3)为疏水性和疏油性的高分子聚合物。
2.根据权利要求1所述的触摸屏用防指纹膜，其特征在于所述强化玻璃(1)厚度为 0. 2-3mm。
3.根据权利要求1所述的触摸屏用防指纹膜，其特征在于所述缓冲层(2)厚度为 10-20nm。
4.根据权利要求1所述的触摸屏用防指纹膜，其特征在于所述AF膜(3)厚度为 10-30nm。
专利摘要本实用新型涉及一种触摸屏用防指纹膜的结构，具体应用在手机、平板电脑。强化玻璃上表面为缓冲层，缓冲层的上表面为AF膜；所述缓冲层为SiO2薄膜，所述AF膜为疏水性和疏油性的高分子聚合物。利用PECVD沉积SiO2缓冲层具有成核率高，成核密度大，在整个平面上分布均匀，从而产生宏观平面的平滑。同时，与沉积相关的气体粒子的平均自由程较大，粒子分布较均匀，有利于形成平滑的沉积面。反应气体、反应产物和强化玻璃基材的相互扩散作用，使得SiO2缓冲层与强化玻璃基材之间具有良好的附着力，从而在一定程度上增大AF膜与强化玻璃基材的附着力。
文档编号B32B17/00GK202208152SQ20112033091
公开日2012年5月2日 申请日期2011年9月6日 优先权日2011年9月6日
发明者熊磊 申请人:南昌欧菲光科技有限公司