高阻光膜的制作方法

文档序号:2456602阅读:202来源:国知局
专利名称:高阻光膜的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种薄膜,具体涉及一种高阻光膜,主要用做电子产品的胶带。
背景技术
精密电子产品生产过程中需要使用黑色的不透光的胶带对一些元器件进行保护。 常规的黑色的不透光是采用黑色聚氯乙烯薄膜单面涂覆压敏胶制备而成,其挺性不好,且由于黑色聚氯乙烯薄膜制备过程中是在PVC树脂中添加炭黑或者炭黑制得的色母粒,其制备薄膜的过程中会出现分散不均勻的状况,此种薄膜制得的黑色胶带在使用过程中会出现透光现象,使得被保护的元器件被击穿,影响产品质量,另外黑色聚氯乙烯薄膜材料的刚性差,挺度不好,使用过程中容易起皱,影响其使用。
发明内容本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种刚性好、挺度高的高阻光膜。本实用新型的目的是这样实现的一种高阻光膜,它是以聚酯膜为基层,在其上表面涂覆黑色涂料层。所述黑色涂料层为黑色聚氨酯涂料层,其耐溶剂性能好,且附着力高,耐高温。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是本实用新型,采用聚酯薄膜作为基材,其具有较好的刚度和挺性,使用过程中不易起皱,能对元器件起到很好的保护作用,表层的黑色涂层,由于其具有一定的厚度,阻光性好,在暗室中用强光手电筒照射后不透光,且其耐溶剂性能好,附着力高,耐高温。

图1为本实用新型高阻光膜所用膜的结构示意图。其中聚酯膜1 ;黑色涂料层2。
具体实施方式
参见图1,本实用新型涉及的一种高阻光膜,它是以聚酯膜1为基层,在其上表面涂覆黑色涂料层2。所述黑色涂料层2为黑色聚氨酯涂料层,其耐溶剂性能好,且附着力高,耐高温。使用时,在聚酯膜1的下表面涂覆压敏胶即可,使用方便。
权利要求1.一种高阻光膜,其特征在于它是以聚酯膜(1)为基层,在其上表面涂覆黑色涂料层(2)。
2.根据权利要求1所述的一种高阻光膜,其特征在于所述黑色涂料层(2)为黑色聚氨酯涂料层。
专利摘要本实用新型涉及一种高阻光膜,主要用做电子产品的胶带。其特征在于它是以聚酯膜(1)为基层,在其上表面涂覆黑色涂料层(2),所述黑色涂料层(2)为黑色聚氨酯涂料层。本实用新型,采用聚酯薄膜作为基材,其具有较好的刚度和挺性,使用过程中不易起皱,能对元器件起到很好的保护作用,表层的黑色涂层,阻光性好,在暗室中用强光手电筒照射后不透光。
文档编号B32B27/08GK202242205SQ20112037971
公开日2012年5月30日 申请日期2011年10月9日 优先权日2011年10月9日
发明者吴昊, 金枫, 陈岳锋 申请人:江苏申凯包装有限公司
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