专利名称：图案化雾面转印膜结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种转印膜结构，具体讲是涉及一种图案化雾面转印膜结构。
背景技术：
产品外观包装为影响消费者选择的重要因素，具备独特构图设计与时尚质感的产品往往能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-mold decoration)为一项新型塑料加工技术，其将上方印有装饰图纹的转印膜定位于射出机的模具内，在塑料制品射出成形的同时， 进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相较于传统喷涂、印刷、电镀等加工方式，模内装饰技术可配合制品量产，连续完成图纹转印，可简化生产步骤、缩短制程时间，己广泛应用于电子装置、家用电器等诸多领域。图1为现有技术的转印膜结构的剖面示意图；图2为图1的转印膜结构应用状态的剖面示意图。如图所示，转印膜结构10包括一基底薄膜层11以及上方次序堆栈形成的一离型层12、一硬化膜层13、一饰纹层14以及一黏着膜层15。基底薄膜层11可为塑料、金属或纤维系薄膜，用以提供表面平坦且不易变形的基材，以利后续涂布与印刷等加工。离型层12设置于基底薄膜层11表面上方，用以辅助基底薄膜层11离型。硬化膜层13设置于离型层12表面上，由树脂溶液干燥形成，为具高硬度的保护层。饰纹层14设置于硬化膜层13表面上，系由印刷形成的油墨装饰图纹。黏着膜层15设置于饰纹层14表面上方。转印时，提供一定的制程条件(例如预定温度值)，使黏着膜层15紧密黏着于物品20表面，从而将转印膜结构10结合于物品20。最后，借着离型层12将基底薄膜层11撕离，即完成图纹转印。上述转印膜结构10可提供亮面装饰图纹，然而实际操作上，雾面化以及亮面与雾面同时呈现的图案化雾面设计亦为常见的外观设计方式。
实用新型内容为解决现有技术的不足，本实用新型目的在于提供一种图案化雾面转印膜结构， 在转印时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。为达上述目的，本实用新型是通过以下的技术方案来实现的。一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该抗眩光剂微粒子的粒径为0. 1微米至20微米。前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该抗眩光剂微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该遮蔽层的厚度为2微米至10微米。前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该遮蔽层的材料为自由聚氨酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯中的一种。前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括油墨层。前述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括一油墨层以及一金属薄膜层，油墨层设置于第一硬化膜层的上表面，金属薄膜层则设置于油墨层的上表面；第二硬化膜层设置于金属薄膜层与黏着膜层之间。本实用新型的有益效果是与现有技术相比，本实用新型由具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层，以便于基底薄膜层上方形成一光面图案，从而使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。
图1为现有技术的转印膜结构的剖面示意图。图2为图1的转印膜结构应用状态的剖面示意图。图3为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意图。图4为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意图。图中主要标记含义说明10、转印膜结构，11、41、51基底薄膜层，12、43、53离型层，13、硬化膜层，14、45、55饰纹层，15、47、57黏着膜层，20、物品，40、50图案化雾面转印膜结构，410、510微粒子，42、52遮蔽层，450、550油墨层，44、M第一硬化膜层，46、56第二硬化膜层，551、金属薄膜层。
具体实施方式
下面将结合附图和具体实施例，对本实用新型作具体的介绍。图3为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意图；图4 为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意图。如图所示，本实用新型的图案化转印膜结构40包括一基底薄膜层41、一遮蔽层42、一离型层43、一第一硬化膜层44、一饰纹层45、一第二硬化膜层46，以及一黏着膜层47。基底薄膜层41掺杂有由微粒子410构成的抗眩光剂，使基底薄膜层41具有一凹凸粗糙的上表面。遮蔽层42覆盖于基底薄膜层41的上表面的局部区域，遮蔽层42具有一光滑的上表面，以便于在基底薄膜层 41的上表面形成一光面图案。离型层43设置于基底薄膜层41以及遮蔽层42的上表面。 第一硬化膜层44设置于离型层43的上表面。饰纹层45包括一油墨层450，设置于第一硬化膜层44的上表面。第二硬化膜层46设置于饰纹层45的上表面。黏着膜层47设置于第二硬化膜层46的上表面。图案化雾面转印膜结构40中，由于第一硬化膜层44是间隔着离型层43与基底薄膜层41及遮蔽层42邻接，因此第一硬化膜层44将同样形成凹凸粗糙表面，并且上方分布有光面图案，在转印时可达到图案化雾面效果。同时，饰纹层45与黏着膜层47之间增设的第二硬化膜层46将可阻挡黏着膜层47的胶水向下渗漏，防止饰纹层45的油墨图纹受到破坏，且可进一步加强膜层结构强度。基底薄膜层41作为后续涂布与印刷等加工工序的基材，应具备高平坦度且不易变形，可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂聚氯乙烯系树脂等高分子聚合物基材，或选用玻璃纸、涂布纸、赛珞凡等纤维系薄膜，或上述薄膜组成的复合薄膜基材。在制程时，掺入由微粒子410构成的抗眩光剂混合制备原料，经由热吹膜成形为片状结构，或制作为可连续进行涂布及印刷工序的大面积卷装结构。基底薄膜层41的厚度约为5微米(μ m) 至300微米(μ m)。所述的抗眩光剂可选用氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石、氧化钡等陶瓷材料， 微粒子410的粒径约为0. 1微米(μ m)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜层41内部及表面，可使其表面结构凹凸粗糙。遮蔽层42是以凹版印刷或网版印刷方式涂布于基底薄膜层41表面上方，经过干燥固化形成，可选用聚氨酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。遮蔽层42的厚度约为2微米(μ m)至10微米(μ m)。离型层43用以辅助基底薄膜层41及遮蔽层42离型，是用涂布设备将原料溶液涂布于基底薄膜层41及遮蔽层42的表面上方，经过加热干燥或紫外线照射固化而形成，可选用聚硅氧烷系树脂、三聚氰胺树脂、聚内烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、橡胶系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系树脂等材料，并根据材料种类，采取适当的固化方式。离型层43的厚度约为0. 5微米(μ m)至40微米(μ m)。第一硬化膜层44为具有高硬度的保护层，是用涂布设备将原料溶液涂布于离型层43表面上方，经过固化形成，可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。第一硬化膜层44的厚度约为3微米()lm)至60微米(μ m)。第一硬化膜层44邻接离型层43的表面将同样形成凹凸粗糙表面，上方分布有光面图案，可使转印物品产生图案化雾面效果。第二硬化膜层46的加工与第一硬化膜层相同。饰纹层45包括一油墨层450，系采用网版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷方式制作形成，提供油墨装饰图纹，其印刷原料一般可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙烯缩醛系树脂、聚酯胺基甲酸酯系树脂、纤维素酯系树脂、醇酸系树脂等树脂为结合剂加上颜料混合制得。黏着膜层47可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、亚克力系树脂、聚乙烯系树脂、聚酰胺系树脂等材料，用涂布设备将原料溶液涂布于饰纹层45表面上方，经过干燥形成。黏着膜层47的厚度约为3微米(μ m)至50微米(μ m)。[0031]上述第一、第二实施例的图案化雾面转印膜结构中，饰纹层45仅由单一油墨层构成，然而实际上，饰纹层45也可以为复合结构。图4本实用新型的图案化雾面转印膜结构的第三具体实施例的剖面示意图。此实施例中，图案化雾面转印膜结构50包括次序堆栈的一基底薄膜层51、一遮蔽层52、一离型层53、一第一硬化膜层54、一饰纹层55、一第二硬化膜层56以及一黏着膜层57，基底薄膜层51掺杂有由微粒子510所构成的抗眩光剂。其中饰纹层阳包括一油墨层阳0以及一金属薄膜层551，油墨层550设置于第一硬化膜层M的上表面，金属薄膜层551则设置于油墨层550的上表面。第二硬化膜层56设置于金属薄膜层551与黏着膜层57之间。综上所述，本实用新型的图案化雾面转印膜结构是在具有凹凸粗糙的上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层，以便于在基底薄膜层上方形成光面图案，使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，并分布有光面图案，可以在转印膜应用时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。上述实施例不以任何形式限制本实用新型，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本实用新型的保护范围内。
权利要求1.图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于基底薄膜层上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以便于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案； 一离型层，设置于基底薄膜层以及遮蔽层的上表面；一第一硬化膜层，设置于离型层的上表面；一饰纹层，设置于第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于饰纹层的上表面； 以及一黏着膜层，设置于第二硬化膜层的上表面。
2.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该抗眩光剂微粒子的粒径为0. 1微米至20微米。
3.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该抗眩光剂微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。
4.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于该遮蔽层的厚度为2微米至10微米。
5.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括油墨层。
6.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于所述的饰纹层包括一油墨层以及一金属薄膜层，油墨层设置于第一硬化膜层的上表面，金属薄膜层则设置于油墨层的上表面；第二硬化膜层设置于金属薄膜层与黏着膜层之间。
专利摘要本实用新型涉及一种图案化雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光剂；一遮蔽层，覆盖于基底薄膜层上表面的局部区域；一离型层，设置于基底薄膜层以及遮蔽层的上表面；一第一硬化膜层，设置于离型层的上表面；一饰纹层，设置于第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于第二硬化膜层的上表面。本实用新型在具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层，以于基底薄膜层上方形成一光面图案，从而使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。
文档编号B41M5/44GK201950979SQ20102061380
公开日2011年8月31日 申请日期2010年11月19日 优先权日2010年11月19日
发明者韩久康 申请人:琨诘电子(昆山)有限公司