专利名称：雾面转印膜结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种转印膜结构，尤指一种雾面转印膜结构。
背景技术：
产品外观构装为影响消费行为的重要因素，具备独特构图设计与时尚质感的产品 往往能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-molddecoration)为一项新型塑料加工技术， 其将上方印有装饰图纹的转印膜定位于射出机的模具内，于塑料制品射出成形同时，一并 进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相较于传统喷涂、印刷、电镀等加工方式，模内装饰技术 可配合制品批量生产，连续完成图纹转印，可简化生产步骤、缩短制程时间，已广泛应用于 电子装置、家用电器等诸多领域。雾面化为常见的外观设计方式，为达到雾面效果，必须对转印膜结构采取特殊处 理。请参阅图1以及图2，一已知技术的雾面转印膜结构的剖面示意图，以及此雾面转印膜 结构的应用状态剖面示意图。如图所示，雾面转印膜结构10包括一基底薄膜层11、一凸块 结构层12、一离型层13、一硬化膜层14、一饰纹层15以及一黏着膜层16。基底薄膜层11 可为塑料、金属或纤维系薄膜，用以提供表面平坦且不易变形的基材，以利后续涂布与印刷 等加工。凸块结构层12系以网版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜层11表面上方，以 于基底薄膜层11表面形成凹凸结构。离型层13设置于基底薄膜层11及凸块结构层12的 表面上方，用以辅助基底薄膜层11离型。硬化膜层14设置于离型层13表面上，由树脂溶 液干燥形成，为具高硬度的保护层，由于硬化膜层14系间隔离型层13邻接于基底薄膜层11 及凸块结构层12，因此其下表面同样形成凹凸结构。饰纹层15设置于硬化膜层14表面上， 系由印刷形成的油墨装饰图纹。黏着膜层16设置于饰纹层15表面上方。转印时，提供一定的制程条件(例如预定温度值)，使黏着膜层16紧密黏着于 物品80表面，从而将雾面转印膜结构10结合于物品80。最后，借着离型层13将基底薄膜 层11与凸块结构层12撕离，完成图纹转印。硬化膜层14的表面凹凸结构将可达到雾面化 的视觉效果。上述已用雾面转印膜结构10虽可达到雾面化效果，然其必须额外经由繁琐工 序，制版印刷完成凸块结构层12的制作，不仅耗费工时，更造成制程成本提高。继续请参阅图3，另一已知技术的雾面转印膜结构的剖面示意图。图中的雾面转印 膜结构20系由次序堆栈的一基底薄膜层21、一离型层22、一硬化膜层23、一饰纹层24以及 一黏着膜层25共同构成。其中，基底薄膜层21中掺杂有由微粒子230所构成的抗眩光剂， 从而达到雾面化效果。然而，由于硬化膜层23的机能为提供高硬度防护膜，掺杂其中的微 粒子230将破坏结构连续性，而降低其结构强度，致使膜层劣化风险提高。本案设计人为解决上述已用技术问题，从而提出本实用新型，期精简已用雾面转 印膜结构的制程工序，并保持膜层结构强度。
实用新型内容本实用新型目的在于提供一种雾面转印膜结构，其不仅使转印膜应用时达到雾面化效果，而且可精简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时，及降低成本的功效。为达上述目的，本实用新型揭示一种雾面转印膜结构，其包括一基底薄膜层，包 括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置 于该基底薄膜层的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬 化膜层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。本实用新型揭示另一种雾面转印膜结构，其包括一基底薄膜层，包括一由微粒子 构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置于该基底薄膜 层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该第一硬化膜 层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第 二硬化膜层的上表面。上述抗眩光剂的微粒子的粒径为0. 1微米至20微米。上述抗眩光剂的微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡陶瓷材 料中的一种。上述基底薄膜层为一高分子聚合物基材，该高分子聚合物基材的材料为聚乙烯系 树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一 种高分子聚合物原料。上述基底薄膜层为一纤维系薄膜，该纤维系薄膜为由玻璃纸或涂布纸或赛珞凡组 成的一种薄膜。与现有技术相比，本实用新型所具有的有益效果为本实用新型的雾面转印膜结 构系于基底薄膜层添加由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有凹凸粗糙表面，使得 间隔离型层邻接于基底薄膜层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，而于转印膜应用时达到 雾面化效果。本实用新型将可精简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时，及降低 成本等功效。同时，本实用新型维持了硬化膜层的完整性，而可保持膜层结构强度。以上的概述与接下来的详细说明及附图，皆是为了能进一步说明本实用新型为达 成预定目的所采取的方式、手段及功效。而有关本实用新型的其它目的及优点，将在后续的 说明及图式中加以阐述。
图1为一已知技术的雾面转印膜结构的剖面示意图； 图2为图1的雾面转印膜结构的应用状态的剖面示意图； 图3为另一已知技术的雾面转印膜结构的剖面示意图； 图4为本实用新型的雾面转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意图； 图5为本实用新型的雾面转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意图；以及 图6为本实用新型的雾面转印膜结构的第三具体实施例的剖面示意图。 标号说明
10、20、30、40、50雾面转印膜结构
11、21、31、41、51基底薄膜层 12 凸块结构层 13、22、32、42、52 离型层[0027]14、23、3315、24、34、44、5416、25、35、46、56230,310,410340、440、54043、5345、5554180
硬化膜层 饰纹层 黏着膜层
微粒子 油墨层
第一硬化膜层 第二硬化膜层 金属薄膜层 物品
具体实施方式
首先，请参阅图4，本实用新型的雾面转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意 图。如图所示，雾面转印膜结构30包括一基底薄膜层31、一离型层32、一硬化膜层33、一饰 纹层34，以及一黏着膜层35。基底薄膜层31掺杂有由微粒子310构成的抗眩光剂，使基底 薄膜层31具有一凹凸粗糙的上表面。离型层32设置于基底薄膜层31的上表面；硬化膜层 33设置于离型层32的上表面；饰纹层34设置于硬化膜层33的上表面；黏着膜层35设置 于饰纹层34的上表面。由于硬化膜层33系间隔离型层32邻接于基底薄膜层31，因此硬化膜层33将同样 形成凹凸粗糙表面，而于应用时达到雾面化效果。基底薄膜层31为提供后续涂布与印刷等加工的基材，应具备高平坦度且不易变 形，可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚 氯乙烯系树脂等高分子聚合物基材，或选用玻璃纸、涂布纸、赛珞凡等纤维系薄膜，或上述 薄膜组成的复合薄膜基材，于制程时，掺入由微粒子310构成的抗眩光剂混合制备原料， 经由热吹膜成形为片状结构，或制作为可连续进行涂布及印刷工序的大面积卷装结构。基 底薄膜层31的厚度约为5微米(μ m)至300微米(μ m)。所述的抗眩光剂可选用氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石、氧化钡等陶瓷材料， 微粒子310的粒径约为0.1微米(μπι)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜层31内部及表 面，将可使其表面凹凸粗糙。离型层32用以辅助基底薄膜层31离型，系以涂布设备将原料溶液涂布于基底薄 膜层31表面上方，经过加热干燥或紫外线照射固化而形成，可选用聚硅氧烷系树脂、三聚 氰胺树脂、聚丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、橡胶系树脂、聚 胺基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯 共聚物系树脂等材料，并根据材料种类，采取适当的固化方式。离型层32的厚度约为0. 5 微米(ym)至40微米(ym)。硬化膜层33为具高硬度的保护层，系以涂布设备将原料溶液 涂布于离型层32表面上方，经过固化形成，可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树 脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯 系树脂、聚酰胺系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基 甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。第一硬化膜层33的厚度约为 3微米(μ m)至60微米(μ m)。硬化膜层33邻接离型层32的表面将同样形成凹凸粗糙表面，可于雾面转印膜结构30应用时，达到雾面化效果。饰纹层34包括一油墨层340，系采用网版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷方 式制作形成，提供油墨装饰图纹，其印刷原料一般可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚 丙烯酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙烯缩醛系树脂、聚酯胺基甲酸酯系树脂、纤维素 酯系树脂、醇酸树脂等树脂为结合剂加上颜料混合制得。黏着膜层35可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚乙烯系树脂、 聚酰胺系树脂等材料，以涂布设备将原料溶液涂布于饰纹层34表面上方，经过干燥形成。 黏着膜层35的厚度约为3微米(μ m)至50微米(μ m)。本实用新型的雾面转印膜结构30系于基底薄膜层31掺杂抗眩光剂，即可使硬化 膜层33形成凹凸粗糙的表面，而不需要再额外印刷凸块结构，相较于已知雾面转印膜结 构，本实用新型可达到精简制程、缩短工时及降低成本等诸多功效。同时，本实用新型维持 了硬化膜层33结构完整性，而可保持膜层结构强度。接着，请参阅图5，本实用新型的雾面转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意 图。此实施例中，雾面转印膜结构40包括一基底薄膜层41、一离型层42、一第一硬化膜层 43、一饰纹层44、一第二硬化膜层45，以及一黏着膜层46。基底薄膜层41掺杂有由微粒子 410构成的抗眩光剂，使基底薄膜层41具有一凹凸粗糙的上表面。离型层42设置于基底薄 膜层41的上表面。第一硬化膜层43设置于离型层42的上表面。饰纹层44包括一油墨层 440，设置于第一硬化膜层43的上表面。第二硬化膜层45设置于饰纹层44的上表面。黏 着膜层设置46于第二硬化膜层45的上表面。雾面转印膜结构40中，第一硬化膜层43将同样形成凹凸粗糙表面，而于应用时达 到雾面化效果。同时，饰纹层44与黏着膜层46之间增设的第二硬化膜层45将可阻挡黏着 膜层46的胶水向下渗漏，防止饰纹层44的油墨图纹受到破坏，且可进一步加强膜层结构强度。上述第一、二具体实施例的雾面转印膜结构中，饰纹层仅由单一油墨层构成，然实 务上，饰纹层可为复合结构。请参阅图6，本实用新型的雾面转印膜结构的第三具体实施例 的剖面示意图。此实施例中，雾面转印膜结构50包括一基底薄膜层51、一离型层52、一第 一硬化膜层53、一饰纹层54、一第二硬化膜层55以及一黏着膜层56，基底薄膜层51掺杂有 由微粒子510构成的抗眩光剂。其中饰纹层54包括一油墨层540以及一金属薄膜层541， 油墨层540设置于第一硬化膜层53的上表面，金属薄膜层541则设置于油墨层540的上表 面，第二硬化膜层55设置于金属薄膜层541与黏着膜层56之间。综上所述，本实用新型的雾面转印膜结构系于基底薄膜层添加由微粒子构成的抗 眩光剂，使基底薄膜层具有凹凸粗糙表面，使得间隔离型层邻接于基底薄膜层的硬化膜层 同样形成凹凸粗糙表面，而于转印膜应用时达到雾面化效果。本实用新型将可精简雾面转 印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时，及降低成本等功效。同时，本实用新型维持了硬 化膜层的完整性，而可保持膜层结构强度。
权利要求一种雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。
2.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子的粒径 为0. 1微米至20微米。
3.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子为氧化 硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。
4.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该基底薄膜层为一高分子聚 合物基材，该高分子聚合物基材的材料为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚 酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一种高分子聚合物原料。
5.根据权利要求1所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该基底薄膜层为一纤维系薄 膜，该纤维系薄膜为由玻璃纸或涂布纸或赛珞凡组成的一种薄膜。
6.一种雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的 上表面；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面； 一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面； 一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面； 一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及 一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。
7.根据权利要求6所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子的粒径 为0. 1微米至20微米。
8.根据权利要求6所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子为氧化 硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。
9.根据权利要求6所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该基底薄膜层为一高分子聚 合物基材，该高分子聚合物基材的材料为聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚 酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一种高分子聚合物原料。
10.根据权利要求6所述的雾面转印膜结构，其特征在于，该基底薄膜层为一纤维系薄 膜，该纤维系薄膜为由玻璃纸或涂布纸或赛珞凡组成的一种薄膜。专利摘要一种雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层、一离型层、一硬化膜层、一饰纹层，以及一黏着膜层。该基底薄膜层包括由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面，离型层设置于基底薄膜层的上表面，硬化膜层设置于离型层的上表面，饰纹层设置于硬化膜层的上表面，黏着膜层设置于饰纹层的上表面。其中，间隔离型层邻接于基底薄膜层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，而于该转印膜应用时可达到雾面化效果。
文档编号B44C1/17GK201721230SQ20102020764
公开日2011年1月26日 申请日期2010年5月28日 优先权日2010年5月28日
发明者蔡明伦, 谢宇恒, 黄宋因 申请人:胜昱科技股份有限公司