专利名称：一种核径迹防伪膜的制作方法
技术领域：
本实用新型属于防伪技术领域，特别涉及一种核径迹防伪膜。
背景技术：
现有的防伪材料，如激光防伪膜、纹理防伪材料、油墨防伪材料等存在防伪力度不 高或查验不方便的问题。本实用新型是为解决这一问题而设计的。
实用新型内容本实用新型是针对现有的防伪材料，如激光防伪膜、纹理防伪材料、油墨防伪材 料等存在防伪力度不高或查验不方便的问题而提供一种核径迹防伪膜，其特征在于，该核 径迹防伪膜的结构为在膜上有图案区和非图案区，同时在非图案区部分的膜的一面有一胶层。
所述图案区由核径迹微孔构成。所述胶层为热熔胶、压敏胶或多混树脂。本实用新型的有益效果是提供一种技术和设备均可控的高端防伪材料，具有防伪 力度高或查验方便的特点。
图1为核径迹防伪膜结构示意图。图2为图1的剖面图。
具体实施方式
本实用新型提供一种核径迹防伪膜，如图1所示，核径迹防伪膜的结构为在膜上 乳白色的图案区1是由大量核径迹微孔4构成，而非图案区2是透明的，是由大量纳米级重 离子辐射损伤潜径迹组成，同时在膜上非图案区2部分一面上有一胶层3 (如图2所示)其 中胶层3为热熔胶、压敏胶或多混树脂。所述核径迹微孔为重离子辐照潜径迹的蚀刻微孔 4，孔径在0. 1微米至20微米之间。所述防伪膜材料为绝缘材料，如聚酯PET、聚碳酸酯PC、 聚丙烯、聚乙烯、聚偏氟乙烯PVDF、聚酰亚胺Kappton等。所述胶层3所用的材料为抗蚀刻(强碱如Na0H、K0H)材料，本实用新型具有防伪力度高、识别简便等特点。
权利要求1.一种核径迹防伪膜，其特征在于，该核径迹防伪膜的结构为在膜上有图案区和非图 案区，同时只在非图案区部分的膜的一面有一胶层。
2.如权利要求1所述一种核径迹防伪膜，其特征在于所述图案区由核径迹微孔构成。
3.如权利要求2所述一种核径迹防伪膜，其特征在于所述核径迹微孔孔径在0.1微米 至20微米之间。
4.如权利要求1所述一种核径迹防伪膜，其特征在于所述防伪膜材料为绝缘材料为聚 酯PET、聚碳酸酯PC、聚丙烯、聚乙烯、聚偏氟乙烯PVDF或聚酰亚胺Kappton。
5.如权利要求1所述一种核径迹防伪膜，其特征在于所述胶层为热熔胶、压敏胶或多 混树脂。
专利摘要本实用新型公开了属于防伪技术领域的一种核径迹防伪膜。该核径迹防伪膜的结构为在膜上有微孔图案区和非图案区，同时在非图案区部分的膜的一面有一胶层，具有防伪力度高或查验方便的特点。
文档编号G09F3/02GK201886696SQ20102056284
公开日2011年6月29日 申请日期2010年10月9日 优先权日2010年10月9日
发明者徐世平, 王建晨, 王玉兰, 陈靖 申请人:清华大学