表面应用型微光防伪安全性装置的制作方法

文档序号:26099267发布日期:2021-07-30 18:09阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种安全性装置,包括

防伪膜(130),其包括(i)图像元件阵列(103);(ii)聚焦元件阵列(106);以及(iii)至少一种抗粘剂(115);

其中所述聚焦元件阵列和所述图像元件阵列相对于彼此设置,使得当通过所述聚焦元件阵列的至少一部分观看所述图像元件阵列的至少一部分时,由所述防伪膜投射合成图像;并且

其中所述抗粘剂与所述聚焦元件阵列耦合。

2.如权利要求1所述的安全性装置,其中光学间隔件设置在所述图像元件阵列与所述聚焦元件阵列之间。

3.如权利要求2所述的安全性装置,其中所述光学间隔件具有浮雕结构。

4.如权利要求2所述的安全性装置,其中所述光学间隔件和所述图像元件阵列各自具有宽度,并且所述光学间隔件的所述宽度小于所述图像元件阵列的所述宽度。

5.如权利要求3所述的安全性装置,其中所述聚焦元件阵列具有第一重复周期且所述浮雕结构具有第二重复周期,并且所述第一重复周期大于所述第二重复周期。

6.如权利要求1所述的安全性装置,其中以完整图像、部分图像或帧的重复图案来组织所述图像元件。

7.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述图像元件是微结构。

8.如权利要求7所述的安全性装置,其中所述微结构包括空隙和实心区中的至少一个。

9.如权利要求1所述的安全性装置,还包括耦合到所述图像元件阵列的对比材料。

10.如权利要求9所述的安全性装置,其中所述对比材料是着色材料或反射材料中的至少一种。

11.如权利要求9所述的安全性装置,其中所述对比材料是设置在形成所述图像元件的微结构空隙内的油墨。

12.如权利要求9所述的安全性装置,其中所述对比材料包括设置在形成所述图像元件的微结构空隙内的铝。

13.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件具有小于50um的基底直径。

14.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件被布置成六边形子集阵列,其中所述六边形的每一边包括至少两个聚焦元件。

15.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件是嵌入的。

16.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件包括自聚焦透镜。

17.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件具有多边形基底和非球面体中的至少一个。

18.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件具有小于4的f数。

19.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述聚焦元件阵列具有范围从约1.0到约2.5的折射率。

20.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述抗粘剂是非离子表面活性剂。

21.如权利要求2所述的安全性装置,其中所述抗粘剂还耦合到所述光学间隔件和所述图像元件阵列中的至少一个。

22.如权利要求1所述的安全性装置,其中所述抗粘剂是具有多个酯基团的表面活性剂。

23.如权利要求1所述的安全性装置,还包括以下至少一项:

载体膜;

转印膜;以及

安全产品衬底,

其中当存在所述载体膜时,它在靠近所述图像元件阵列的一侧耦合到所述防伪膜,且当存在所述转印膜时,它在与所述图像元件阵列相对的一侧耦合到所述防伪膜;并且

其中当存在所述安全产品衬底时,它在靠近所述图像元件阵列的所述一侧耦合到所述防伪膜且不存在所述载体膜。

24.如权利要求23所述的安全性装置,其中所述载体膜包括bf1基膜,并且任选地底涂层和防粘连元件中的至少一个。

25.如权利要求23所述的安全性装置,其中所述载体膜包括bf1基膜,并且具有耦合到第一侧的第一底涂层和耦合到第二侧的第二底涂层且具有耦合到所述第二底涂层的防粘连元件。

26.如权利要求23所述的安全性装置,其中所述转印膜包括bf2基膜,以及任选地至少一个防粘连元件和至少一个底涂层。

27.如权利要求26所述的安全性装置,还包括底漆层、转印制剂层和底漆-转印制剂双层中的至少一个,其耦合到与所述防粘连元件相对的所述底涂层中的一者。

28.如权利要求27所述的安全性装置,其中所述转印膜包括bf2基膜,并且具有耦合到第一侧的第一底涂层和耦合到第二侧的第二底涂层且具有耦合到所述第二底涂层的防粘连件;并且

其中所述底漆-转印制剂双层设置在所述转印膜与所述防伪膜之间。

29.如权利要求23所述的安全性装置,其中所述防伪膜通过设置在所述防伪膜与所述安全产品衬底之间的粘合元件耦合到所述安全产品衬底。

30.如权利要求23所述的安全性装置,其中所述转印膜还包括设置在所述转印膜与所述防伪膜之间的底漆层。

31.一种形成安全性装置的方法,包括:

通过以下方式提供防伪膜(130):(i)将聚焦元件阵列(106)层叠在图像元件阵列(103)上,使得当通过所述聚焦元件阵列观看所述图像元件阵列时,由所述防伪膜投射合成图像,并且(ii)将抗粘剂(115)耦合到所述聚焦元件。

32.如权利要求31所述的方法,还包括以下至少一项:

结合所述防伪膜与载体膜;

结合所述防伪膜与转印膜;以及

结合安全产品衬底;

其中当所述载体膜与所述防伪膜结合时,它在靠近所述图像元件阵列的一侧耦合到所述防伪膜,且当存在所述转印膜时,它在与所述图像元件阵列相对的一侧耦合到所述防伪膜;并且

其中当结合所述安全产品时,它在靠近所述图像元件阵列的所述一侧耦合到所述防伪膜且不存在所述载体膜。

33.如权利要求1所述的安全性装置,其通过如权利要求31所述的方法形成。

34.一种安全产品,包括:

安全产品衬底(822);

防伪膜(820),其具有抗粘剂(825),其中所述防伪膜耦合到所述安全产品衬底。

35.如权利要求34所述的安全产品,其中粘合元件设置在所述安全产品衬底与所述防伪膜之间。

36.一种形成安全产品的方法,包括:

提供防伪膜(130);以及

将所述防伪膜耦合到安全产品衬底(120)。

37.如权利要求34所述的安全产品,其通过如权利要求36所述的方法形成。

38.一种如权利要求1所述的安全性装置用于保护安全产品的用途。

39.如权利要求34所述的安全产品,其中所述安全产品衬底是钞票。

40.如权利要求38所述的用途,其中所述安全产品是钞票。

41.如权利要求23所述的防伪膜,其中所述聚焦元件阵列具有聚焦宽度,所述间隔层具有间隔宽度,所述图像元件阵列具有图像宽度并且所述载体膜具有载体宽度,使得所述载体宽度大于所述图像宽度,所述图像宽度又大于所述间隔宽度,而所述间隔宽度又大于所述聚焦宽度。


技术总结
提供一种由防伪膜(130)构成的安全性装置,所述防伪膜具有(i)图像元件阵列(103);(ii)聚焦元件阵列(106);以及(iii)至少一种抗粘剂(115)。所述聚焦元件阵列和所述图像元件阵列相对于彼此设置,使得当通过所述聚焦元件阵列的至少一部分观看所述图像元件阵列的至少一部分时,由所述防伪膜投射合成图像。所述抗粘剂与所述聚焦元件阵列耦合。

技术研发人员:N·J·格滕斯;P·N·迪克森;M·麦卡利斯特;D·L·彼得斯
受保护的技术使用者:克瑞尼股份有限公司
技术研发日:2018.12.27
技术公布日:2021.07.30
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