专利名称：新型大理石雕饰的制作方法
技术领域：
本实用新型是一种新型大理石雕饰。
背景技术：
现有的大理石产品上大多设有装饰，这些装饰不外是釆用雕刻或 彩绘印制的方式加诸在大理石产品的表面，甚至还会在大理石产品的 表面刷上透明油漆做为保护层。千篇一律的产品已经逐渐不适应消费 者的审美观，审美疲劳直接导致现有的大理石产品其实用性大幅度下 降。
实用新型内容
本实用新型摈弃了传统技术里对大理石产品进行单一的雕刻或 彩绘印制的方式，设计了一种具有立体效果并能随视角变化色彩的新 型大理石雕饰。
为实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案
新型大理石雕饰，包括大理石基材l,在整个大理石基材l的表 面上设有透明的保护层2，大理石基材l的表面雕刻着一组或多组构 成完整图案的槽紋3，槽紋3内填充可以反射或折射光线的颗粒4， 槽紋3以及槽紋3内的颗粒4均为保护层2覆盖。
作为上述技术方案的改进，槽紋3内填充颗粒4后构成的图案或 凹进或凸或齐平大理石基材1原有的表面。
作为上述技术方案的改进，颗粒4为金属或金刚石或水晶或玻璃 或塑料或陶瓷，或其他可以反射或折射光线的材质的粒状或片状或粉
状结构。
作为上述技术方案的改进，颗粒4为白色或金色或其他颜色。 作为上述技术方案的改进，颗粒4是透明或半透明或不透明的。 作为上述技术方案的改进，保护层2为透明薄膜或透明油漆或其 他透明涂料。
本实用新型的有益效果在于既能制成平滑的表面效果，又能制 成凹凸的立体效果，通过反射或折射光线带来全新的视觉效果和审美 享受，在任何大理石产品上均能任意实施，结构简单容易实施，而且 经久耐用。
图l是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面结合说明书附图和具体实施方式
来对本实用新型做进一步 的说明，但本实用新型所保护的范围并不局限于此。
如图l所示，新型大理石雕饰，包括大理石基材l，在整个大理 石基材1的表面上设有透明的保护层2,大理石基材1的表面雕刻着 一组或多组构成完整图案的槽紋3，槽紋3内填充可以反射或折射光 线的颗粒4,槽紋3以及槽紋3内的颗粒4均为保护层2覆盖。其中 的颗粒4为可以反射或折射光线的材质的彩色金属细砂。
槽紋3内填充颗粒4后构成的图案齐平大理石基材1原有的表 面，而保护层2则是喷涂上的透明油漆。
本实用新型既能制成平滑的表面效果，又能制成凹凸的立体效 果，可以制成地砖、凳子、餐桌、烟缸等板材或容器用具。事实上， 在本实用新型的技术提示下，可以衍生出种类繁多的产品，比如具有 同样审美概念的木、石雕饰产品。所以凡在本实用新型的技术提示下 得出的任何改进或应用都应该在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1、新型大理石雕饰，包括大理石基材(1)，在整个大理石基材(1)的表面上设有透明的保护层(2)，其特征在于大理石基材(1)的表面雕刻着一组或多组构成完整图案的槽纹(3)，槽纹(3)内填充可以反射或折射光线的颗粒(4)，槽纹(3)以及槽纹(3)内的颗粒(4)均为保护层(2)覆盖。
2、 根据权利要求1所述的新型大理石雕饰，其特征在于槽紋 (3 )内填充颗粒(4 )后构成的图案或凹进或凸或齐平大理石基材(1)原有的表面。
3、 根据权利要求2所述的新型大理石雕饰，其特征在于颗粒 (4)为金属或金刚石或水晶或玻璃或塑料或陶瓷，或其他可以反射或折射光线的材质的粒状或片状或粉状结构。
4、根据权利要求3所述的新型大理石雕饰，其特征在于颗粒 (4)为白色或金色或其他颜色。
5、 根据权利要求l到4任一项所述的新型大理石雕饰，其特征 在于颗粒(4)是透明或半透明或不透明的。
6、 根据权利要求5所述的新型大理石雕饰，其特征在于保护 层(2)为透明薄膜或透明油漆或其他透明涂料。
专利摘要本实用新型是一种新型大理石雕饰。包括大理石基材(1)，在整个大理石基材(1)的表面上设有透明的保护层(2)，大理石基材(1)的表面雕刻着一组或多组构成完整图案的槽纹(3)，槽纹(3)内填充可以反射或折射光线的颗粒(4)，槽纹(3)以及槽纹(3)内的颗粒(4)均为保护层(2)覆盖。既能制成平滑的表面效果，又能制成凹凸的立体效果，通过反射或折射光线带来全新的视觉效果和审美享受，在任何大理石产品上均能任意实施，结构简单容易实施，而且经久耐用。
文档编号B44D7/00GK201183426SQ200820044900
公开日2009年1月21日 申请日期2008年3月14日 优先权日2008年3月14日
发明者涂世学 申请人:涂世学