转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种转印材料及其制造方法、带有使用转印材料的转印层的基材及其 制造方法、包含带有转印层的基材的触摸屏及其制造方法、及包含触摸屏的信息显示装置。
【背景技术】
[0002] 在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子机器中，近年来存在 有在液晶装置等的表面配置有触摸屏型输入装置的。在触摸屏型输入装置中，一面参照液 晶装置的图像显示区域中所表示的指示图像，一面用手指或触摸笔等触碰显示所述指示图 像的部位，由此进行与指示图像对应的信息输入。
[0003] 此种输入装置（触摸屏）存在有电阻膜型或静电电容型等。静电电容型输入装 置具有如下的优点：若仅仅在一枚基板上形成透光性导电膜即可。在静电电容型输入装置 中，为了使并不由使用者目视到显示装置的引绕电路等，且更加美观，有时在包围用手指或 触摸笔等触碰的信息显示部（图像显示部）的框状部位配置装饰材，进行装饰。
[0004] 在触摸屏的制作以外的技术领域中，已知有使用转印材料，形成所期望的层的方 法。例如，在专利文献1中记载了如下方法：将在临时支撑体上设有热塑性树脂层（垫层）、 中间层（隔氧层）、着色感光性组合物层，进一步在着色感光性组合物层上设有覆盖片材的 感光性转印材料转印至永久支撑体上，在临时支撑体与隔氧层之间剥离而将临时支撑体除 去，依序形成永久支撑体、包含着色感光性树脂组合物的层及隔氧层，在曝光后进行显影处 理将热塑性树脂层与中间层除去，在永久支撑体上形成有色材料层。
[0005] 而且，在专利文献2中揭示了包含临时支撑体与剥离层的脱模膜。在专利文献2 中记载了构成在脱模膜的剥离层的面具有图案层及接着层等装饰层的转印膜的方法。然 而，在专利文献2中并无制造转印膜的例子，并无使用转印膜转印装饰层等的例子，作为转 印法，设想为成形同时转印法（在模内转印后，将临时支撑体剥离的方法）。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1:日本专利特开2011-095716号公报
[0009] 专利文献2:日本专利特开2012-121969号公报
【发明内容】
[0010] 发明要解决的课题
[0011] 本发明人欲在触摸屏的制造中使用转印材料而形成装饰层等，结果可知若使用专 利文献1中所记载的在临时支撑体上具有垫层或隔氧层的转印材料，则在转印转印层后剥 离覆盖片材时，存在垫层或隔氧层残存于转印层侧的问题。在专利文献1中，虽然通过显影 将这些垫层或隔氧层除去，但自减低制造成本的观点考虑要求加以改善。
[0012] 而且，可知若使用在临时支撑体上并未设置垫层或隔氧层而设有转印层的转印材 料，则在转印转印层后剥离临时支撑体时，存在转印层的一部分残存于临时支撑体上，转印 层在内部破断的问题。
[0013] 可知在转印层上并未设置保护膜的情况下，在以卷状保管转印材料时，所述转印 层的一部分接着于临时支撑体的背面而变得无法转印，存在转印性变差的问题。而且，可知 即使在转印层上设置保护膜，若不调整与其他层的剥离力，则在剥离保护膜时，转印层的一 部分接着于所述保护膜侧而变得无法转印，也存在转印性变差的问题。
[0014] 本发明所欲解决的课题是提供转印层的转印性良好、且在所转印的转印层上的剥 离残留得到抑制的转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装 置。
[0015] 解决问题的技术手段
[0016] 本发明人为了解决上述课题而反复进行努力研究，结果发现通过设为依序包含临 时支撑体、剥离层、转印层及保护膜的构成，以使各层间的剥离力的大小满足特定关系的方 式进行控制，可获得转印层的转印性良好、且在所转印的转印层上的剥离残留得到抑制的 转印材料。
[0017] 也即，发现根据以下所示的构成的本发明可解决上述课题，从而完成本发明。
[0018] [1]-种转印材料，其是依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜的转印材 料，其特征在于：
[0019] 在自转印材料剥下保护膜的情况下，保护膜自转印层剥离，且上述转印层残留于 上述剥离层侧，
[0020] 将转印层转印至包含玻璃的被转印基材、或包含选自三乙酰纤维素（Triacetyl Cellulose，TAC)、聚对苯二甲酸乙二酯（Polyethyleneterephthalate，PET)、聚碳酸酯 (Polycarbonate，PC)或环稀经聚合物（CycloOlefinPolymer，COP)的膜的被转印基材上 之后，剥下临时支撑体的情况下，将剥离层与临时支撑体一同剥离。
[0021] [2]根据[1]所述的转印材料，其中，优选的是自转印材料剥下保护膜时的保护膜 与转印层间的剥离力是10mN/m~200mN/m。
[0022] [3]根据[1]或[2]所述的转印材料，其中，优选的是自转印至被转印基材上的转 印层剥离剥离层及临时支撑体的层叠体时的剥离力为40mN/m~400mN/m。
[0023] [4]根据[1]~[3]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是剥离层包含消光剂， 消光剂自剥离层隆起150nm~500nm〇
[0024] [5]根据[1]~[4]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是剥离层包含选自烷 二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树脂、及烯烃树脂的聚合物。
[0025] [6]根据[1]~[5]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是剥离层包含选自烷 二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物及烯烃树脂的聚合物。
[0026] [7]根据[1]~[6]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少一 层以上，转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种。
[0027] [8]根据[1]~[7]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少两 层，
[0028] 转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种，
[0029] 转印层中的其他层包含粘合树脂。
[0030] [9]根据[7]或[8]所述的转印材料，其中，优选的是转印层中的至少一层中所含 的上述粘合树脂具有硅氧烷键。
[0031] [10]根据[7]~[9]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层中的至少一 层包含选自黑色颜料、黑色染料、及白色颜料的至少一种颜料或染料作为颜料或染料。
[0032] [11]根据[1]~[10]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少 两层，
[0033] 转印层中的与剥离层邻接的层包含至少一种选自黑色颜料及黑色染料的颜料或 染料，
[0034] 与上述保护膜邻接的层包含白色颜料。
[0035] [12]根据[1]~[11]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是上述转印层包含 至少两层，
[0036] 转印层中，越是剥离层侧的转印层，光学密度越大于上述保护膜侧的转印层的光 学密度。
[0037] [13]根据[1]~[12]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少 两层，
[0038] 转印层中的与剥离层邻接的层的光学密度为1. 0~6. 0。
[0039] [14]根据[1]~[13]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是上述转印层包含 至少两层，
[0040] 转印层中的与剥离层邻接的层的膜厚为0. 5ym~3. 0ym。
[0041] [15]根据[1]~[14]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是上述转印层包含 至少两层，
[0042] 转印层中的与保护膜层邻接的层的膜厚为5. 0ym~50. 0ym。
[0043] [16]根据[1]~[15]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是临时支撑体包含 选自聚酯树脂、三酰基纤维素（triacylcellulose)树脂、及环烯烃树脂的树脂。
[0044] [17]根据[1]~[16]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是保护膜是聚烯烃 膜。
[0045] [18]根据[1]~[17]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是被转印基材包含 玻璃。
[0046] [19]根据[1]~[17]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是被转印基材包含 环烯烃聚合物膜。
[0047] [20] -种转印材料的制造方法，其是根据[1]~[19]中任一项所述的转印材料的 制造方法，包含以下的（1)~（3)的步骤：
[0048] (1)准备具有剥离层的临时支撑体；
[0049] (2)在临时支撑体的剥离层侧形成转印层；
[0050] (3)在转印层侧贴合保护膜。
[0051] [21] -种带有转印层的基材的制造方法，其使用根据[1]~[19]中任一项所述的 转印材料，包含以下的步骤：
[0052] (11)自转印材料剥离保护膜；
[0053] (12)将转印材料的转印层侧转印至上述包含玻璃的被转印基材、或包含选自 TAC、PET、PC或COP的膜的被转印基材上；
[0054] (13)自转印层同时剥离剥离层与临时支撑体。
[0055] [22]根据[21]所述的带有转印层的基材的制造方法，其中，优选的是将转印层转 印至被转印基材上时的被转印基材的温度为40°C~150°C。
[0056] [23] -种带有转印层的基材，其利用根据[21]或[22]所述的带有转印层的基材 的制造方法而制造。
[0057] [24]根据[23]所述的带有转印层的基材，其中，优选的是25°C下的转印层的表面 电阻为l.OXlO1%/ □以上。
[0058] [25] -种触摸屏的制造方法，其特征在于：使用根据[23]或[24]所述的带有转 印层的基材，包含以下的步骤：
[0059] (21)在带有转印层的基材的转印层侧形成导电层；
[0060] (22)将导电层的一部分除去，形成电极图案。
[0061] [26] -种触摸屏，其特征在于：包含根据[23]或[24]所述的带有转印层的基材。
[0062] [27] -种信息显示装置，其特征在于：包含根据[26]所述的触摸屏。
[0063] 发明的效果
[0064] 根据本发明可提供转印层的转印性良好、且在所转印的转印层上的剥离残留得到 抑制的转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置。
【附图说明】
[0065]图1A是表示本发明的触摸屏的一例的构成的剖面概略图。
[0066]图1B是表示本发明的触摸屏的另外一例的构成的剖面概略图。
[0067] 图2是表示触摸屏的前面板的一例的说明图。
[0068] 图3是表示第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。
[0069] 图4是表不形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。
[0070] 图5是表不形成有白色层及遮光层的前面板的一例的俯视图。
[0071] 图6是表不形成有第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
[0072] 图7是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案的前面板的一例的俯 视图。
[0073] 图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素 的前面板的一例的俯视图。
[0074]图9是表示转印材料的剖面的一例的概略图。
[0075]图10是表示自转印材料剥离保护膜时的剖面的一例的概略图。
[0076]图11是表示将转印材料的转印层转印至被转印基材时的剖面的一例的概略图。
[0077]图12是表示将转印材料的转印层转印至被转印基材上之后，同时剥离临时支撑 体与剥离层时的剖面的概略图。
[0078] 图13是表示半切穿方法的一例的概略图。
【具体实施方式】
[0079] 以下，对本发明的转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信 息显示装置加以详细说明。
[0080] 以下所记载的构成要件的说明是基于本发明的代表性实施方式而成的。本发明并 不限定于以下的实施方式。在本说明书中，使用"~"而表示的数值范围表示包含"~"前 后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。
[0081] [转印材料]
[0082] 转印材料是依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜的转印材料，其特征在 于：在自转印材料剥下所述保护膜时，保护膜自转印层剥离，且转印层残留于剥离层侧，将 转印层转印至包含玻璃、或选自TAC、PET、PC或C0P的膜的被转印基材上之后，剥下临时支 撑体时，在所剥离的临时支撑体侧存在有剥离层。
[0083] 根据此种构成，转印层的转印性良好，并无转印层的剥离，变得剥离层并不残留于 转印层侧且无需显影步骤。
[0084] 在作为具有开口部8(参照图2)的静电电容型输入装置的触摸屏10中，若使用转 印材料20 (参照图9)而形成白色层2a或遮光层2b等（参照图1A及图1B)，则在具有开口 部8的作为被转印基材的前面板1中，抑制抗蚀剂成分自所述开口部8的部分漏出。特别 是在需要形成遮光图案直至前面板1的最边界的白色层2a或遮光层2b中，抑制抗蚀剂成 分自玻璃端渗出。因此，变得可并不污染前面板的背面侧地利用简略的步骤而制造具有薄 层及轻量化的优点的触摸屏10。
[0085] 作为被转印基材的前面板1，包含玻璃基材101a(盖玻璃）及膜基材101b中的至 少任意的。在图1A中，前面板1包含玻璃基材101a。在图1B中，前面板1包含玻璃基材 l〇la及膜基材101b。膜基材101b例如包含选自TAC(三乙酰纤维素）或PET(聚对苯二甲 酸乙二酯）、PC(聚碳酸酯）、C0P(环烯烃聚合物）等的膜。
[0086] 以下，对本发明的转印材料的优选形态加以说明。
[0087] < 构成 >
[0088] 首先，对转印材料20的构成加以说明。
[0089] 在图9中表示本发明的转印材料的优选形态的一例。转印材料20依序包含：临时 支撑体11、剥离层12、包含遮光层2b及白色层2a的转印层2、保护膜13。转印材料20是 依序层叠这些临时支撑体11、剥离层12、转印层2及保护膜13而构成。
[0090] 通过设为此种构成，转印材料20在将转印层2转印至玻璃基材101a、或选自TAC、 PET、PC或C0P的膜基材101b上，剥离临时支撑体11时，在所剥离的临时支撑体11侧具有 剥离层12。
[0091] <层间的剥离力>
[0092] 优选的是保护膜13与转印层2之间的剥离力小于转印层2与剥离层12之间的剥 离力。也即，相对于转印层2而言，保护膜13比剥离层12更容易剥离。在剥离力的关系相 反的情况下，变得在转印层2与剥离层12之间剥离，无法获得理想的形态。
[0093] 保护膜13与转印层2之间的剥离力优选的是10mN/m~200mN/m的范围。在所述 剥离力不足10mN/m的情况下，在操作中保护膜13变得容易自转印材料20没必要地剥离而 欠佳。而且，在大于200mN/m的情况下，剥下保护膜13时，在转印层2与剥离层12之间剥 离，或者转印层2由于凝聚破坏而粘在保护膜13上，从而欠佳。
[0094] 保护膜13与转印层2之间的剥离力更优选的是15mN/m~150mN/m，进一步更优选 的是20mN/m~100mN/m，特别优选的是30mN/m~60mN/m。
[0095] 自转印至被转印基材上的转印层2剥离剥离层12及临时支撑体11的层叠体时的 剥离力优选的是40mN/m~400mN/m，更优选的是50mN/m~300mN/m，特别优选的是60mN/ m~250mN/m。在剥离力处于所述范围的情况下，将转印层2转印至玻璃基材101a、或膜基 材101b上，剥离临时支撑体11时，变得容易在所剥离的临时支撑体11侧存在剥离层12。
[0096]〈临时支撑体〉
[0097] 转印材料20包含临时支撑体11。
[0098] 优选的是临时支撑体11具有可挠性。而且，优选的是临时支撑体11即使在加压 下、或加压及加热下，也不产生显著的变形、收缩或延伸。临时支撑体11例如可列举聚对苯 二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。临时支撑体11优选的是包 含选自聚酯树脂、三酰基纤维素树脂、环烯烃树脂的树脂，其中特别优选的是包含2轴延伸 聚对苯二甲酸乙二酯膜。
[0099] 临时支撑体11的厚度并无特别限定，优选的是5ym~300ym，更优选的是 20um~ 200um〇
[0100] 临时支撑体11也可透明，也可含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
[0101] 可利用日本专利特开2005-221726号公报中所记载的方法等而对临时支撑体11 赋予导电性。
[0102] <剥离层>
[0103] 转印材料20包含剥离层12。
[0104] 优选的是剥离层12包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树 月旨、烯烃树脂的聚合物。
[0105] 烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物优选的是聚烯烃多元醇与2官能以上的 异氰酸酯的缩聚物。聚烯烃多元醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物可使用日本专利特开 2012-162625号公报、日本专利特开2011-94096号公报中所记载的。
[0106] 聚烯烃多元醇优选的是以下的。
[0107] 艾波鲁（Epol)(出光兴产股份有限公司制造）、尤尼斯特鲁（Unistole)P-801 (三 井化学股份有限公司制造）。
[0108] 2官能以上的异氰酸酯优选的是以下的。
[0109]科罗奈特（CORONATE)L、科罗奈特（CORONATE)HL、密里奈特（MILLIONATE)MT(以上 由日本聚氨酯工业股份有限公司制造）、塔格耐德（Takenate)D110N(三井化学股份有限公 司制造）。<