专利名称：一种散射条生成方法
技术领域：
本发明涉及半导体光刻中分辨率增强技术，尤其涉及用于增强分辨率的散 射条生成方法。
背景技术：
在0.13um或更低的技术节点的半导体光刻制程中，分辨率增强技术 (resolution enhancement technology )运用得十分普遍。散射条(scatter bar)是 种十分常见的分辨率增强(RET)技术，它的主要原理是通过在光掩膜板主图形 (main feature )插入亚精度辅助图案达到调整图案光强分布密度的目的。这样， 可有效增大光刻制程工艺窗口 。
通常的情况下是在隔离或半隔离的光掩模板主图形中插入散射条来扩大光 刻制程的工艺窗口 。目前的散射条生成方法是基于一定规格参数的设置来在主 图形中生成插入的散射条。当光掩模板主图形状比较复杂时，生成的部分散射 条会桥接在一起。当生成桥接在一起的散射条时，桥接的散射条中部分散射条 会被随机性的缩短或者清除。这样容易出现主图形中比较关键的图形部分的散 射条的规格参数不符合要求或者关键图形部分没有散射条，导致在光刻过程中 这一部分图形的分辨率并没有达到期望值，从而影响光刻图形质量。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种散射条的生成方法，避免光掩模板主 图形中关键图形部分的散射条随机性被缩短或清除而影响光刻图形质量的问题 出现。
为解决上述技术问题，本发明提供的散射条的生成方法，是在光刻隔离或半隔 离的光掩模板主图形中插入散射条，它包括以下步骤步骤l:在光掩模板主图 形中均插入预设参数值的散射条；步骤2:判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子，并对其影响因子进行大小的排序；步骤3:修正桥接在一 起的影响因子最小的散射条，直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接； 步骤4:进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条，如果有则返 回到步骤3，如果没有则停止对散射条的修正。步骤2中判定桥接在一起的散射 条各自的影响因子是通过计算散射条对应的主图形部分的正归化影像对数斜率 值来判定。步骤3中修正影响因子最小的散射条为缩短影响因子最小的散射条 直至与其桥连的散射条之间达到最'J 、预设距离。
与现有散射条生成方法相比，通过判定插入的散射条中桥接在一起的散射 条的影响因子来修正影响因子小的散射条，这样可以避免光掩模板主图形中关 键的主图形部分的散射条，也就是影响因子大的散射条，被随机性缩短或清除， 从而导致光刻质量的问题产生。
以下结合附图和本发明的具体实施方式
作进一步详细说明
图l是光掩模主图形示意图。
图2是插入散射条后的光掩模主图形示意图。
图3是修正一次后可解决散射条桥接的示意图。
图4是修正后没有解决散射条桥接的示意图。
图5是图4中散射条再次修正后的示意图。
图6是图5中修正后散射条不符合预设参数被删除的示意图。
具体实施例方式
在光刻隔离或半隔离光掩模板上主图形时，需在主图形中插入散射条以提 高光刻图案分辨率。请参阅
图1,图1中与1的填充图案相同的均为光掩才莫板主 图形，以该光掩模主图案形为例，说明散射条的生成方法。首先在光掩模板主 图形中均插入预设参数值的散射条，如图2中2a、 2b、 2c和2d所示的散射条， 从图2中可看出2c和2d散射条与散射条2a桥接。紧接着判定桥接的散射条2c、 2d和2a的影响因子，并对散射条的影响因子进行大小排序。判定散射条2c、 2d 和2a的影响因子，是通过分别计算散射条2c、 2d和2a对应的主图形部分的正归化影像对数斜率值(normalized image log slope )来判定。正归化影像对数斜 率值(NILS)是衡量光掩模板主图形空间影像(aerial image )成像质量的一个重要 的参数。它的计算公式由以下公式给出
Zw(/)为空间影像的光强的对数，A^(/)/Ax空间影像光强对数曲线的斜率，CDtarget 为光掩模板主图形的线宽。当计算出的正归化影像对数斜率值越高时，对应的 光掩模板主图形成像质量越好，那么此光掩模板主图形对应的散射条的影响因 子就会越小，也就是此散射条对提高光掩模板主图形成像质量越不重要。因此，
当有桥接在一起的散射条时，计算桥接在一起散射条各自对应的光掩模板主图 形部分的NILS,对应地就可得出各散射条的影响因子的大小关系，并对这些散 射条的影响因子进行排序。
然后修正桥接在一起的影响因子最小的散射条，直至它不与其他影响因子 比其大的散射条相接。然而有时散射条经过一次修正之后可能仍然相接。这样 就需要进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条，如果有则返 回上述修正步骤，如果没有则停止对散射条的修正。
假设得出的散射条的影响因子大小关系为2c>2d>2a，按照这种大小关系 修正影响因子最小的散射条2a,直至它不与其他影响因子比其大的散射条2c和 2d相接。如图3所示，缩短散射条2a,不与散射条2a和2b相接。对图3而言， 缩短散射条2a直至与其桥连的散射条2c和2d之间达到最小预设距离，则图中 3中就没有桥接在一起的散射条。
假设得出的散射条的影响因子关系为2a>2c>2d,修正散射条2d，即缩短 散射条2d之后，散射条2a与2c仍然相接，如图4所示。这样需要再次进行修 正，请参阅图5，由于散射条2a的影响因子大于散射条2c的影响因子，因此修 正散射条2c，即缩短散射条2c直至与桥连的散射条2a之间达到最小预设距离 之后，就没有桥接在一起的散射条。然而当修正后的散射条缩短到一定程度时 不满足插入的散射条预设参数值之后就会自动被删除，请参阅图6，当图5中散 射条2c和2d散射条缩短到一定程度不满足散射条的最小长度参数时，就会被
自动删除。
采用上述散射条的生成方法可有效地避免光刻主图案中关键图形部分的散射条，即影响因子大的散射条，被随机性缩短或清除，从而导致光刻质量的问 题产生。这样可有效保证光刻半隔离或隔离图案的质量。
权利要求
1、一种散射条的生成方法，它是在隔离或半隔离的光掩膜板主图形中插入散射条，其特征在于，它包括以下步骤步骤1在光掩模板主图形中均插入预设参数值的散射条；步骤2判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子，并对其影响因子进行大小的排序；步骤3修正桥接在一起的影响因子最小的散射条，直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接；步骤4进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条，如果有则返回到步骤3，如果没有则停止对散射条的修正。
2、 如权利要求1所述散射条的生成方法，其特征在于，所述步骤2中判定桥 接在一起的散射条各自的影响因子是通过计算散射条对应的主特征图案的正归 化影像对数斜率值来判定。
3、 如权利要求1所述散射条的生成方法，其特征在于，所述步骤3中修正影 响因子最小的散射条为缩短影响因子最小的散射条直至与其桥连的散射条之间 达到最小的预设距离。
全文摘要
本发明提供了一种散射条的生成方法，它主要应用于提高隔离或半隔离图案的光刻质量。它包括以下步骤1在光掩膜板主图形中均插入预设参数值的散射条；2判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子，并对其影响因子进行大小的排序；3修正桥接在一起的影响因子最小的散射条，直至它不与其他影响因子比其大的散射条相接；步骤4进一步检测剩下的散射条是否仍然有桥接在一起的散射条，如果有则返回到步骤3，如果没有则停止对散射条的修正。采用本发明的散射条的生成方法，可有效解决目前的散射条生成方法中重要的散射条被随机性缩短或去除影响光刻质量的问题。
文档编号G03F1/72GK101452205SQ20071017157
公开日2009年6月10日 申请日期2007年11月30日 优先权日2007年11月30日
发明者娟 刘 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司