技术总结
本发明实施例提供了一种针对圆偏振光的全光调制器及其制作方法，所述全光调制器包括：透明基底、上反射层、下反射层以及缺陷层，所述上反射层设置在所述基底上，所述缺陷层设置在所述上反射层和下反射层之间；所述缺陷层包括两层第一介质薄膜层和一层复合层，所述复合层位于所述两层第一介质薄膜层之间，其中所述第一介质薄膜层的折射率低于预设折射率；所述复合层包括金纳米粒子和手性分子组成的复合薄膜。所述方法包括：采用磁控溅射的方法制作上反射层、下反射层和缺陷层中的第一介质薄膜层，采用自组装及其旋涂方法制作复合层。本发明实施例提供的全光调制器及其制作方法提高了圆偏振光的超快调制速率以及调制强度。
技术研发人员：王晓莉;唐智勇
受保护的技术使用者：国家纳米科学中心
文档号码：201610833449
技术研发日：2016.09.19
技术公布日：2017.01.11